有机硅共聚物及其制备方法技术

本发明专利技术涉及一种新型的树脂

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】有机硅共聚物及其制备方法


[0001]本专利技术涉及一种有机硅氧烷嵌段共聚物及其制备方法。可应用于制备电子组件保护性涂层产品。

技术介绍

[0002]许多新兴
一直需要保护性涂层产品，这种涂料必须坚韧、耐用、持久，并且还易于施加在电子组件上，也能够在便利的条件下固化形成保护涂层。
[0003]现有技术CN103189420B披露了一种树脂
‑
线型有机硅氧烷嵌段共聚物，其中含有一部分[R
12
SiO
2/2
]D线性结构单元和一部分[R2SiO
3/2
]T树脂结构单元，还含有硅烷醇基团[≡SiOH]。树脂部分都是由[R2SiO
3/2
]T型结构组成。该共聚物可用于制备保护性和功能性电子器件封装涂料。CN103189419B公开了含有该共聚物的固体组合物，特别是其高折射率方面的性质。CN103201317B公开了含有该共聚物的固体组合物，特别是其热稳定方面的性质。CN103201318B公开了用缩合反应制备该共聚物的方法。
[0004]CN103189421B公开了一种共聚物，其中含有式为R
12
SiO
2/2
二有机硅烷氧基单元，和平均式为R
2x
(OR3)
y
SiO
(4
‑
x
‑
y)/2
的硅氧烷单元，其中0.5≤x≤1.5，并且0≤y≤1，且至少50mol％的R2为芳基。在其实施例中式(II)的硅氧烷单元都是含苯基的T型树脂。
[0005]CN104254575A公开了一种树脂
‑
线型有机硅氧烷嵌段共聚物的制备方法，如其实施例1所示，将M
Vi0.15
T
ph0.76
Q
0.082
树脂(其中含有0.0163mol乙烯基，48.4％的甲苯溶液，Mw＝2670)与Si
‑
H封端的PDMS(Mw＝32,000)在甲苯溶剂和铂催化剂条件下加成反应，然后添加四甲基二硅氧烷(其中含有0.00202mol Si
‑
H)，进一步加成反应，得到产物的Mw＝20,2000g/mol。所得片材在室温下为光学透明的粗糙的弹性体。

技术实现思路

[0006]本专利技术涉及一种新型的树脂
‑
线性有机硅氧烷嵌段共聚物，其中含有[R
12
SiO
2/2
]线性结构单元和一部分[R
23
SiO
1/2
][SiO
4/2
]树脂结构单元(即D
‑
MQ结构)，优选的，该共聚物还含有一部分可水解基团X，更优选的，还含有一部分乙烯基。
[0007]本专利技术获得的新型嵌段共聚物具有硬段与软段结合的结构。由于其硬段含有[R
23
SiO
1/2
][SiO
4/2
]树脂结构单元，该新型嵌段共聚物与溶剂的相容性更好更容易成膜，可以给固化以后的涂层提供合适的硬度和柔韧性。
[0008]将嵌段共聚物与多官能度烷氧基硅烷、催化剂混合以后，所得到的组合物可以在湿气条件下迅速固化。组合物粘度较低、具有容易涂布的特点，室温固化后得到涂层薄膜。薄膜具有透明度好、硬度高、机械性能优异、内部应力小、拉伸率高的特点。该组合物可用于制备封装电子器件的电路板三防漆(conformal coating)或者电器保护涂料。
[0009]制备本专利技术新型嵌段共聚物的方法具有原料易得、工艺简单、过程可控、产品品质稳定重现性高的特点。
[0010]本专利技术涉及一种有机硅氧烷嵌段共聚物，其包含
[0011][R
12
SiO
2/2
]D单元，和
[0012][R
23
SiO
1/2
]M单元，和
[0013][SiO
4/2
]Q单元，
[0014]其中各自出现的R1，R2相同或不同，选自C1
‑
C30直链或支链的烷基，C1
‑
C30的芳基，C1
‑
C30含有一个及以上杂原子的烃基，可水解基团X，C1
‑
C30含有一个及以上烯键的烃基，或H，
[0015]其中[R1SiO
3/2
]T单元的含量小于等于30mol％，优选小于等于10mol％，更优选小于等于1mol％，以所有有机硅单元为100mol％计算。
[0016]如上所述的嵌段共聚物，其中[R
12
SiO
2/2
]D单元与[R
12
SiO
2/2
]D单元彼此连接，形成D单元嵌段。
[0017]如上所述的嵌段共聚物，其中[R
23
SiO
1/2
]M单元与[SiO
4/2
]Q单元彼此连接，形成MQ单元嵌段。
[0018]如上所述的嵌段共聚物，至少有一部分R1和/或R2选自可水解基团X；X是可水解基团，各自相同或不同，优选的X选自酮肟基、乙酰氧基、烷氧基或羟基，更优选X是OR6表示的烷氧基，其中各自出现的R6相同或不同，选自C1
‑
C30的直链或者支链烷基、芳基，优选甲基、乙基、异丙基，更优选甲基、乙基；
[0019]杂原子选自O，N，S，优选为O，N，更优选为O。
[0020]如上所述的嵌段共聚物，其中X是OR6表示的烷氧基，优选可水解基团X是甲氧基和/或乙氧基。
[0021]如上所述的嵌段共聚物，其中[R
23
SiO
1/2
]M单元与可水解基团X的摩尔比值小于等于20，优选在3
‑
10之间，更优选在3
‑
7之间，更优选在4
‑
5之间，按照1H NMR谱和
29
Si NMR谱计算。
[0022]如上所述的嵌段共聚物，其中[R
23
SiO
1/2
]M单元与甲氧基官能团的摩尔比值在小于等于30，优选在5
‑
25之间，优选在6
‑
20之间，更优选在6
‑
17之间，更优选在6
‑
12之间，更优选在6
‑
11之间。
[0023]如上所述的嵌段共聚物，其中[R
23
SiO
1/2
]M单元与硅
‑
乙烯基的摩尔比值小于等于40，优选在5
‑
35之间，更优选在10
‑
30之间，更优选在15
‑
25之间，更优选在18
‑
25之间。
[0024]如上所述的嵌段共聚物，其中[R...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种有机硅氧烷嵌段共聚物，其包含[R
12
SiO
2/2
]D单元，和[R
23
SiO
1/2
]M单元，和[SiO
4/2
]Q单元，其中各自出现的R1，R2相同或不同，选自C1
‑
C30直链或支链的烷基，C1
‑
C30的芳基，C1
‑
C30含有一个及以上杂原子的烃基，可水解基团X，C1
‑
C30含有一个及以上烯键的烃基，或H，其中[R1SiO
3/2
]T单元的含量小于等于30mol％，优选小于等于10mol％，更优选小于等于1mol％，以所有有机硅单元为100mol％计算。2.如权利要求1所述的嵌段共聚物，至少有一部分R1和/或R2选自可水解基团X；X是可水解基团，各自相同或不同，优选的X选自酮肟基、乙酰氧基、烷氧基或羟基，更优选X是OR6表示的烷氧基，其中各自出现的R6相同或不同，选自C1
‑
C30的直链或者支链烷基、芳基，优选甲基、乙基、异丙基，更优选甲基、乙基；杂原子选自O，N，S，优选为O，N，更优选为O。3.如权利要求1或2所述的嵌段共聚物，其中[R
23
SiO
1/2
]M单元与可水解基团X的摩尔比值小于等于20，优选在3
‑
10之间，更优选在3
‑
7之间，更优选在4
‑
5之间，按照1H NMR谱和
29
SiNMR谱计算。4.如权利要求1
‑
3中任一所述的嵌段共聚物，其中[R
23
SiO
1/2
]M单元与甲氧基官能团的摩尔比值在小于等于30，优选在5
‑
25之间，优选在6
‑
20之间，更优选在6
‑
17之间，更优选在6
‑
12之间，更优选在6
‑
11之间，按照1H NMR谱和
29
SiNMR谱计算。5.如权利要求1
‑
4中任一所述的嵌段共聚物，其中，D单元嵌段中，以Si
‑
O
‑
Si键互相连接的[R
12
SiO
2/2
]重复单元数，即[R
12
SiO
2/2
]D单元的聚合度，大于等于20，优选在50
‑
1 000之间，更优选在50
‑
400之间，更优选在70
‑
400之间。6.如权利要求1
‑
5中任一所述的嵌段共聚物，其重均分子量Mw在10,000
‑
200,000g/mol之间，优选在20,000
‑
150,000g/mol之间，优选在40,000
‑
100,000g/mol。7.含如权利要求1
‑
6中任一所述的嵌段共聚物的混合物，其包含10
‑
50mol％[R
12
SiO
2/2
]D单元，和20
‑
60mol％[R
23
SiO
1/2
]M单元，和30
‑
70mol％[SiO
4/2
]Q单元，以所有有机硅单元为100mol％计算，其中各自出现的R1，R2相同或不同，选自C1
‑
C30直链或支链的烷基，C30含有一个及以上杂原子的烃基，C1
‑
C30的芳基，可水解基团X，C1
‑
C30含有一个及以上烯键的烃基，H，其中[R1SiO
3/2
]T单元的含量小于等于30mol％，优选小于等于10mol％，更优选小于等于1mol％，以所有有机硅单元为100mol％计算。8.如权利要求7所述的混合物，至少有一部分R1和/或R2选自可水解基团X；X是可水解基团，各自相同或不同，优选X是酮肟基、乙酰氧基、烷氧基或羟基，优选X是OR6表示的烷氧基，其中各自出现的R6相同或不同，选自C1
‑
C30的直链或者支链烷基、芳基，优选甲基、乙基、异丙基，更优选甲基、乙基；杂原子选自O，N，S，优选为O，N，更优选为O。9.如权利要求7或8所述的混合物，其中[R
23
SiO
1/2
]M单元与可水解基团X的摩尔比值在小于等于8，优选在3
‑
8之间，更优选在3
‑
7之间，更优选在4
‑
5之间，按照1H NMR谱和
29
SiNMR
计算。10.如权利要求7
‑
9中任一所述的混合物，其中[R
23
SiO
1/2
]M单元与甲氧基官能团的摩尔比值在小于等于30，优选在5
‑
25之间，优选在6
‑
20之间，更优选在6
‑
12之间，更优选在6
‑
11之间,按照1H NMR谱和
29
SiNMR计算。11.如权利要求7
‑

【专利技术属性】
技术研发人员：肖宏，张之达，
申请(专利权)人：瓦克化学股份公司，
类型：发明
国别省市：