掩模组件及其制备方法技术

技术编号:33709182 阅读:19 留言:0更新日期:2022-06-06 08:38
本公开实施例提供一种掩模组件及其制备方法,其中,该掩模组件包括掩模版,掩模版的周缘设置有夹持槽;夹盖,夹盖的形状与夹持槽的形状适配;掩模版位于夹持槽之外的表面以及夹盖的表面均设置有氧化膜。本公开实施例的技术方案可以避免夹持槽的表面与工艺气体发生反应而生锈或腐蚀,从而避免污染工艺环境。从而避免污染工艺环境。从而避免污染工艺环境。

【技术实现步骤摘要】
掩模组件及其制备方法


[0001]本公开涉及显示
,尤其涉及一种掩模组件及其制备方法。

技术介绍

[0002]掩模版(Mask)常用于在显示基板上形成功能图案。为了避免掩模版与封装工艺中的工艺气体(例如清洗气体)发生反应,通常会对掩模版进行阳极氧化,以使掩模版的表面形成氧化膜。但是,在阳极氧化的过程中,一般利用夹持机构夹持掩模版位于周缘的夹持位置,造成夹持位置无法形成氧化膜,导致夹持位置容易与工艺气体发生反应而生锈或腐蚀,从而污染工艺环境。

技术实现思路

[0003]本公开实施例提供一种掩模组件及其制备方法,以解决或缓解现有技术中的一项或更多项技术问题。
[0004]作为本公开实施例的一个方面,本公开实施例提供一种掩模组件,包括:
[0005]掩模版,掩模版的周缘设置有夹持槽;
[0006]夹盖,夹盖的形状与夹持槽的形状适配;
[0007]其中,掩模版位于夹持槽之外的表面以及夹盖的表面均设置有氧化膜。
[0008]在一种实施方式中,夹持槽包括顺次设置的第一槽体、第二槽体和第三槽体,第一槽体位于掩模版的第一表面且沿第一方向延伸,第二槽体位于掩模版的端面且沿掩模版的厚度方向延伸,第三槽体位于与掩模版的第二表面且沿第一方向延伸,第一表面和第二表面相对;
[0009]夹盖包括顺次连接的第一盖体、第二盖体和第三盖体,第一盖体用于封盖第一槽体,第二盖体用于封盖第二槽体,第三盖体用于封盖第三槽体。
[0010]在一种实施方式中,第一槽体的槽底设置有沿第一方向延伸的第一滑槽,第三槽体的槽底设置有沿第一方向延伸的第二滑槽;
[0011]夹盖包括与第一滑槽适配的第一滑条以及与第二滑槽适配的第二滑条,第一滑条位于第一盖体的朝向第三盖体的一侧且沿第一盖体的宽度方向延伸,第二滑条位于第三盖体的朝向第一盖体的一侧且沿第三盖体的宽度方向延伸。
[0012]在一种实施方式中,夹持槽的槽壁设置有沿槽壁的延伸方向延伸的止挡条;夹盖的侧壁设置有沿夹盖的周向延伸的止挡槽,止挡槽与止挡条适配。
[0013]在一种实施方式中,止挡条的位于第一槽体及第二槽体的部分均为楔形条,止挡槽的位于第一盖体及第三盖体的部分均为楔形槽。
[0014]在一种实施方式中,止挡条的背离夹持槽一侧的表面设置有氧化膜。
[0015]在一种实施方式中,夹持槽的深度范围为2mm

4mm,止挡条背离夹持槽一侧的表面的宽度范围为3mm

5mm。
[0016]在一种实施方式中,夹盖开设有通孔,掩模组件还包括穿设于通孔且连接至夹持
槽的螺钉,螺钉的表面设置有氧化膜。
[0017]作为本公开实施例的另一个方面,本公开实施例提供一种掩模组件的制备方法,包括:
[0018]在掩模版的周缘形成夹持槽;
[0019]制作与夹持槽的形状适配的夹盖;
[0020]分别在掩模版的位于夹持槽之外的表面以及夹盖的表面形成氧化膜。
[0021]在一种实施方式中,在掩模版的周缘形成夹持槽包括:在掩模版的第一表面形成沿第一方向延伸的第一槽体,在掩模版的端面形成沿掩模版的厚度方向延伸的第二槽体以及在掩模版的第二表面形成沿第一方向延伸的第三槽体,第一槽体、第二槽体和第三槽体顺次设置,第一表面与第二表面相对;
[0022]制作与夹持槽的形状适配的夹盖包括:形成顺次垂直连接的第一盖体、第二盖体和第三盖体,第一盖体用于封盖第一槽体,第二盖体用于封盖第二槽体,第三盖体用于封盖第三槽体。
[0023]在一种实施方式中,在掩模版的周缘形成夹持槽还包括:在第一槽体的槽底开设沿第一方向延伸的第一滑槽以及在第三槽体的槽底开设沿第一方向延伸的第二滑槽;
[0024]制作与夹持槽的形状适配的夹盖包括:在第一盖体的朝向第三盖体的一侧形成沿第一盖体的宽度方向延伸的第一滑条以及在第三盖体的朝向第一盖体的一侧形成沿第三盖体的宽度方向延伸的第二滑条,第一滑条与第一滑槽适配,第二滑条与第二滑槽适配。
[0025]在一种实施方式中,在掩模版的周缘形成夹持槽还包括:沿夹持槽的周向减薄夹持槽的槽壁,形成沿夹持槽周向延伸的止挡条;
[0026]制作与夹持槽的形状适配的夹盖包括:沿夹盖的周向减薄夹盖的侧壁,形成沿夹盖的周向延伸的止挡槽,止挡槽与止挡条适配。
[0027]在一种实施方式中,该制备方法还可以包括:
[0028]在止挡条的背离夹持槽的一侧的表面形成氧化膜。
[0029]在一种实施方式中,该制备方法还可以包括:
[0030]在夹盖上开设通孔;
[0031]将螺钉穿过通孔与夹持槽连接,并且在螺钉的表面预先设置氧化膜。
[0032]本公开实施例的上述技术方案,利用夹盖夹设于掩模版的夹持槽,可对夹持槽进行封盖,防止夹持槽的表面与工艺气体接触,避免夹持槽的表面与工艺气体发生反应而生锈或腐蚀,从而避免污染工艺环境。再者,由于夹盖与夹持槽的形状适配,因此在夹盖装配于夹持槽的情况下,可确保掩模组件与相关技术中的掩模版的整体外形一致,使掩模组件可适配工艺需求。
[0033]上述概述仅仅是为了说明书的目的,并不意图以任何方式进行限制。除上述描述的示意性的方面、实施方式和特征之外,通过参考附图和以下的详细描述,本公开进一步的方面、实施方式和特征将会是容易明白的。
附图说明
[0034]在附图中,除非另外规定,否则贯穿多个附图相同的附图标记表示相同或相似的部件或元素。这些附图不一定是按照比例绘制的。应该理解,这些附图仅描绘了根据本公开
公开的一些实施方式,而不应将其视为是对本公开范围的限制。
[0035]图1示出根据本公开实施例的掩模组件的俯视示意图。
[0036]图2示出图1中虚线框选中区域的局部示意图。
[0037]图3A示出图2的正视示意图。
[0038]图3B示出图3A中省去第二盖体的示意图。
[0039]图4示出图2的右视示意图。
[0040]图5示出沿图2中的A

A切割线的剖面示意图。
[0041]图6示出沿图2中的B

B切割线的剖面示意图。
[0042]图7示出沿图3A中的C

C切割线的剖面示意图。
具体实施方式
[0043]在下文中,仅简单地描述了某些示例性实施例。正如本领域技术人员可认识到的那样,在不脱离本公开的精神或范围的情况下,可通过各种不同方式修改所描述的实施例。因此,附图和描述被认为本质上是示例性的而非限制性的。
[0044]图1示出根据本公开实施例的掩模组件的俯视示意图。图2示出图1中虚线框选中区域的局部示意图。如图1和图2所示,该掩模组件100可以包括掩模版110和夹盖120,掩模版110的周缘设置有夹持槽110A,夹盖120的形状与夹持槽110A的形状适配。掩模版110位于夹持槽110A之外的表面以及夹盖120本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩模组件,其特征在于,包括:掩模版,所述掩模版的周缘设置有夹持槽;夹盖,所述夹盖的形状与所述夹持槽的形状适配;其中,所述掩模版位于所述夹持槽之外的表面以及所述夹盖的表面均设置有氧化膜。2.根据权利要求1所述的掩模组件,其特征在于,所述夹持槽包括顺次设置的第一槽体、第二槽体和第三槽体,所述第一槽体位于所述掩模版的第一表面且沿第一方向延伸,所述第二槽体位于所述掩模版的端面且沿所述掩模版的厚度方向延伸,所述第三槽体位于与所述掩模版的第二表面且沿所述第一方向延伸,所述第一表面和所述第二表面相对;所述夹盖包括顺次连接的第一盖体、第二盖体和第三盖体,所述第一盖体用于封盖所述第一槽体,所述第二盖体用于封盖所述第二槽体,所述第三盖体用于封盖所述第三槽体。3.根据权利要求2所述的掩模组件,其特征在于,所述第一槽体的槽底设置有沿所述第一方向延伸的第一滑槽,所述第三槽体的槽底设置有沿所述第一方向延伸的第二滑槽;所述夹盖包括与所述第一滑槽适配的第一滑条以及与所述第二滑槽适配的第二滑条,所述第一滑条位于所述第一盖体的朝向所述第三盖体的一侧且沿所述第一盖体的宽度方向延伸,所述第二滑条位于所述第三盖体的朝向所述第一盖体的一侧且沿所述第三盖体的宽度方向延伸。4.根据权利要求2所述的掩模组件,其特征在于,所述夹持槽的槽壁设置有沿所述槽壁的延伸方向延伸的止挡条;所述夹盖的侧壁设置有沿所述夹盖的周向延伸的止挡槽,所述止挡槽与所述止挡条适配。5.根据权利要求4所述的掩模组件,其特征在于,所述止挡条的背离所述夹持槽一侧的表面设置有氧化膜。6.根据权利要求1至5中任一项所述的掩模组件,其特征在于,所述夹盖开设有通孔,所述掩模组件还包括穿设于所述通孔且连接至所述夹持槽的螺钉,所述螺钉的表面设置有氧化膜。7.一种掩模组件的制备方法,其特征在于,包括:...

【专利技术属性】
技术研发人员:王丹名李聪张帅
申请(专利权)人:重庆京东方显示技术有限公司
类型:发明
国别省市:

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