掩模组件以及显示装置的制造装置制造方法及图纸

技术编号:31080083 阅读:16 留言:0更新日期:2021-12-01 11:52
本发明专利技术公开一种掩模组件以及显示装置的制造装置。本发明专利技术的掩模组件包括:掩模框架,包括第一安置面、第二安置面以及第一开口部,其中,所述第二安置面布置为与所述第一安置面有阶梯差;支撑部件,一部分被安置在所述第一安置面,并且将所述第一开口部划分为多个第二开口部;第一掩模,布置在所述支撑部件上,并且包括布置为与所述第二开口部对应的第三开口部;以及第二掩模,一部分被安置在所述第二安置面,并且包括以与所述第三开口部对应的方式排列的多个第四开口部。列的多个第四开口部。列的多个第四开口部。

【技术实现步骤摘要】
掩模组件以及显示装置的制造装置


[0001]本专利技术的实施例涉及装置及其方法,更加详细地,涉及掩模组件以及显示装置的制造装置。

技术介绍

[0002]基于移动性的电子设备正在被广泛应用。除了诸如移动电话等小型电子设备以外,近来,平板电脑作为移动用电子设备正在被广泛使用。
[0003]为了支持多种功能,像这种移动型电子设备包括用于向用户提供诸如图像或者影像等视觉信息的显示装置。近来,随着用于驱动显示装置的其他部件被小型化,具有显示装置在电子设备中占据的比重逐渐增加的趋势,在平坦的状态下可以以具有预定角度的方式弯曲的结构也正在被研发。
[0004]在为了制造如上所述的显示装置而使用的掩模组件中,显示装置的分辨率、显示装置呈现的图像的形态可根据在执行沉积工艺时的耐变形程度而不同。

技术实现思路

[0005]由于以往的掩模组件中磁力根据开口部的形态而不均匀地形成在掩模组件,从而可能无法防止掩模组件的变形或者掩模组件的一部分下垂等。本专利技术的实施例提供一种防止掩模组件的变形和掩模组件的一部分下垂的掩模组件以及能够沉积精密图案的显示装置的制造装置。
[0006]本专利技术的一实施例公开一种掩模组件,包括:掩模框架,包括第一安置面、第二安置面以及第一开口部,其中,所述第二安置面布置为与所述第一安置面有阶梯差;支撑部件,一部分被安置在所述第一安置面,并且将所述第一开口部划分为多个第二开口部;第一掩模,布置在所述支撑部件上,并且包括布置为与所述第二开口部对应的第三开口部;第二掩模,一部分被安置在所述第二安置面,并且包括以与所述第三开口部对应的方式排列的多个第四开口部。
[0007]在本实施例中,所述第二开口部和所述第三开口部的形状可以彼此不同。
[0008]在本实施例中,所述支撑部件可以包括磁性体。
[0009]在本实施例中,所述支撑部件可以为栅格形态,以将所述第一开口部划分为所述多个第二开口部。
[0010]在本实施例中,所述第一安置面和所述第二安置面中的至少一个可以包括狭槽。
[0011]在本实施例中,所述掩模框架可以包括:凸出部,布置有所述第一安置面和所述第二安置面。
[0012]在本实施例中,在平面上观察时,所述第二开口部可以布置在所述第三开口部的内部。
[0013]本专利技术的另一实施例公开一种掩模组件的制造方法,包括如下步骤:在包括第一安置面、第二安置面以及第一开口部的掩模框架,将被所述第一开口部划分为多个第二开
口部的支撑部件布置为安置到所述第一安置面,所述第二安置面布置为与所述第一安置面有阶梯差;将包括与所述第二开口部对应的第三开口部的第一掩模布置为安置到支撑部件;将所述支撑部件和所述第一掩模固定到所述第一安置面;将第二掩模布置到所述第二安置面而固定。
[0014]在本实施例中,还可以包括如下步骤:去除所述支撑部件、所述第一掩模以及所述第二掩模中的至少一个的一部分。
[0015]在本实施例中,所述支撑部件、所述第一掩模以及所述第二掩模中的至少一个可以以布置在所述第一安置面和所述第二安置面中的至少一个的狭槽为基准而被切割。
[0016]在本实施例中,还可以包括如下步骤:拉伸所述支撑部件、所述第一掩模以及所述第二掩模中的至少一个。
[0017]在本实施例中,所述支撑部件可以包括磁性体。
[0018]在本实施例中,在平面上观察时,所述第二开口部可以布置在所述第三开口部的内部。
[0019]在本实施例中,可以配备有在第二方向上彼此相邻地排列的多个第二掩模,所述多个第二掩模中的每一个遮蔽沿第一方向排成一列的所有所述第三开口部。
[0020]在本实施例中,在平面上观察时,所述第四开口部可以仅布置在所述第二掩模的与所述第三开口部重叠的区域。
[0021]本专利技术的又一实施例公开一种显示装置的制造装置,包括:如上所述的掩模组件;腔室,插入有所述掩模组件和基板;以及沉积源,以与所述掩模组件对向的方式布置在所述腔室内部,并且向所述基板供应沉积物质。
[0022]在本实施例中,所述支撑部件可以为栅格形态,以将所述第一开口部划分为所述多个第二开口部。
[0023]在本实施例中,所述第一安置面和所述第二安置面中的至少一个可以包括狭槽。
[0024]在本实施例中,所述掩模框架可以包括:凸出部,布置有所述第一安置面和所述第二安置面。
[0025]在本实施例中,在平面上观察时,所述第二开口部布置在所述第三开口部的内部。
[0026]除前述内容以外的其他方面、特征、优点将从通过以下的附图、权利要求范围以及专利技术的详细说明而变得明确。
[0027]这种普通且具体的方面能够使用系统、方法、计算机程序或者任何系统、方法、计算机程序的组合而实施。
[0028]关于本专利技术的实施例的掩模组件能够在基板上以精密的图案沉积沉积物质。关于本专利技术的实施例的掩模组件的制造方法能够制造具有预先设计的图案的掩模组件。
[0029]关于本专利技术的实施例的显示装置的制造装置能够制造具有精密的图案的显示装置。
附图说明
[0030]图1是示出根据本专利技术的一实施例的显示装置的制造装置的剖面图。
[0031]图2是示出根据本专利技术的一实施例的掩模组件的立体图。
[0032]图3是示出图2所示的掩模框架的一部分的平面图。
[0033]图4是沿图3的
Ⅳ‑Ⅳ′
线截取的剖面图。
[0034]图5是示出图2所示的支撑部件的一部分的平面图。
[0035]图6是示出图2所示的第一掩模的一部分的平面图。
[0036]图7和图8是示出图2所示的掩模组件的制造工艺的局部立体图。
[0037]图9和图10是示出图2所示的掩模组件的制造工艺的平面图。
[0038]图11是示出根据本专利技术的一实施例的显示装置的平面图。
[0039]图12是沿图11的A

A'线截取的剖面图。
[0040]附图标记说明
[0041]20:显示装置
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212:凸出部
[0042]100:显示装置的制造装置
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213:第一安置面
[0043]110:腔室
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221:支撑部件主体部
[0044]120:磁力生成部
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222:栅格部件
[0045]131:第一支撑部
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223:第一连接部件
[0046]132:第二支撑部
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224:支撑部件焊接部
[0047]14本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩模组件,包括:掩模框架,包括第一安置面、第二安置面以及第一开口部,其中,所述第二安置面布置为与所述第一安置面有阶梯差;支撑部件,一部分被安置在所述第一安置面,并且将所述第一开口部划分为多个第二开口部;第一掩模,布置在所述支撑部件上,并且包括布置为与所述第二开口部对应的第三开口部;以及第二掩模,一部分被安置在所述第二安置面,并且包括以与所述第三开口部对应的方式排列的多个第四开口部。2.如权利要求1所述的掩模组件,其中,所述第二开口部和所述第三开口部的形状彼此不同。3.如权利要求1所述的掩模组件,其中,所述支撑部件包括磁性体。4.如权利要求1所述的掩模组件,其中,所述支撑部件为栅格形态,以将所述第一开口部划分为所述多个第二开口部。5.如权利要求1所述的掩模组件,其中,所述第一安置面和所述第二安置面...

【专利技术属性】
技术研发人员:洪宰敏權夏乻卢熙锡李守珍
申请(专利权)人:三星显示有限公司
类型:发明
国别省市:

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