显示装置制造方法及图纸

技术编号:41458443 阅读:21 留言:0更新日期:2024-05-28 20:44
一种显示装置,包括:基板;在所述基板上的显示元件;薄膜封装层,在所述显示元件上,并且包括第一无机封装层、第一有机封装层和第二无机封装层;第一遮光层,在所述第一无机封装层和所述第一有机封装层之间,并且具有与所述显示元件的发射区对应的第一开口;以及第二遮光层,在所述薄膜封装层上,并且具有与所述显示元件的所述发射区对应的第二开口。

【技术实现步骤摘要】

实施例的方面涉及一种显示装置


技术介绍

1、近来,显示装置已被广泛使用。由于显示装置的厚度和重量已经减小,因此显示装置的用途已经扩大,并且随着显示装置在各种领域中被利用,对提供高质量图像的显示装置的需求正在增加。


技术实现思路

1、本公开的实施例提供一种显示装置,其通过减少外部光的反射来提供高质量的图像(例如,展示改善的图像再现或显示)。然而,这仅是示例,并且本公开的范围不限于此。

2、本公开的另外的方面和特征将部分地在以下的描述中阐述,并且部分地将从该描述显而易见,或者可以通过实践本公开的所呈现的实施例而被得知。

3、根据本公开的一实施例,一种显示装置包括:基板;在所述基板上的显示元件;薄膜封装层,在所述显示元件上,并且包括第一无机封装层、第一有机封装层和第二无机封装层;第一遮光层,在所述第一无机封装层和所述第一有机封装层之间,并且具有与所述显示元件的发射区对应的第一开口;以及第二遮光层,在所述薄膜封装层上,并且具有与所述显示元件的所述发射区对应的第二开口。p>

4、所述第本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种显示装置,包括:

2.根据权利要求1所述的显示装置,其中所述第一无机封装层包括包含氮化硅的第一子层和包含碳氧化硅的第二子层。

3.根据权利要求1所述的显示装置,其中所述第一开口的尺寸小于所述第二开口的尺寸。

4.根据权利要求1所述的显示装置,进一步包括:像素限定层,在所述基板和所述薄膜封装层之间,并且具有限定所述显示元件的所述发射区的开口,

5.根据权利要求4所述的显示装置,进一步包括:间隔件,在所述像素限定层和所述薄膜封装层之间,并且具有与所述像素限定层中的所述开口重叠的第三开口。

6.根据权利要求5所述的显示装置,其...

【技术特征摘要】

1.一种显示装置,包括:

2.根据权利要求1所述的显示装置,其中所述第一无机封装层包括包含氮化硅的第一子层和包含碳氧化硅的第二子层。

3.根据权利要求1所述的显示装置,其中所述第一开口的尺寸小于所述第二开口的尺寸。

4.根据权利要求1所述的显示装置,进一步包括:像素限定层,在所述基板和所述薄膜封装层之间,并且具有限定所述显示元件的所述发射区的开口,

5.根据权利要求4所述的显示装置,进一步包括:间隔件,在所述像素限定层和所述薄膜封装层之间,并且具有与所述像...

【专利技术属性】
技术研发人员:金铉镐李现范金桐煜金亨基李薰基崔千基洪宗范
申请(专利权)人:三星显示有限公司
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1