本实用新型专利技术公开了一种半导体清洗溶液监测装置，其技术方案要点是：包括监测外壳、壳盖，加热层的内侧上固定设置有清洁槽，微型马达的传动轴穿过加热层和清洁槽与转盘的下方固定连接，转盘的上方固定设置有多个卡槽，清洁槽的内侧底部固定设置有温度传感器，清洁槽的内壁上固定设置有液体传感器，监测外壳的前面上固定设置有控制面板，监测外壳、清洁槽的对应位置上固定设置有进料口、出料口；本实用新型专利技术解决了监测装置的结构较为简单，监测装置对清洁溶液的温度、浓度不易进行调节的问题和清洁溶液对半导体的清洁效果不佳的问题。清洁溶液对半导体的清洁效果不佳的问题。清洁溶液对半导体的清洁效果不佳的问题。
【技术实现步骤摘要】
一种半导体清洗溶液监测装置
[0001]本技术涉及监测装置的
，尤其是一种半导体清洗溶液监测装置。
技术介绍
[0002]目前，随着国内半导体清洗设备领域的飞速发展，客户对半导体清洗设备的安全性能提出了更高的要求,采用有机溶液的半导体清洗设备用于清除晶圆上的特殊介质或金属表面的刻蚀胶。
[0003]参照现有公开号为CN213633267U的中国专利，公开了一种高浓度氢氟酸溶液在线监测装置，本技术包括校准溶液罐和平流计量泵，校准溶液罐连接有校准液管，平流计量泵连接有废水管，校准液管与废水管之间连接有管道混合器，平流计量泵连通有氢氟酸废水池，管道混合器依次连接有PH检测仪、氟离子浓度测量仪和废液收集桶。
[0004]但是上述的这种监测装置依旧存在着一些缺点，监测装置的结构较为简单，监测装置对清洁溶液的温度、浓度不易进行调节；装置中清洁溶液对半导体的清洁效果不佳。
技术实现思路
[0005]针对
技术介绍
中提到的问题，本技术的目的是提供一种半导体清洗溶液监测装置，以解决
技术介绍
中提到的监测装置的结构较为简单，监测装置对清洁溶液的温度、浓度不易进行调节的问题和清洁溶液对半导体的清洁效果不佳的问题。
[0006]本技术的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：
[0007]一种半导体清洗溶液监测装置，包括监测外壳、壳盖，监测外壳的内侧固定设置有加热层，加热层的内侧上固定设置有清洁槽，监测外壳的内侧底部固定设置有微型马达，微型马达的传动轴穿过加热层和清洁槽与转盘的下方固定连接，转盘的上方固定设置有多个卡槽，清洁槽的内侧底部固定设置有温度传感器，清洁槽的内壁上固定设置有液体传感器，监测外壳的前面上固定设置有控制面板，监测外壳、清洁槽的对应位置上固定设置有进料口、出料口。
[0008]进一步的，控制面板上固定设置有显示区、触控区、处理装置，控制面板与加热层、微型马达、温度传感器、液体传感器电性连接。
[0009]通过采用上述技术方案，显示区可以实时显示清洁溶液的温度和浓度，显示区上设置有背光功能，触控区为触控面板，方便使用者进行控制电气元件的运作。
[0010]进一步的，转盘、卡槽的材质为聚偏氟乙烯。
[0011]通过采用上述技术方案，聚偏氟乙烯具有不燃、抗高温、耐强酸、碱的性质，使得转盘、卡槽与清洗溶液不反应。
[0012]进一步的，加热层的外侧上固定设置有保温层。
[0013]通过采用上述技术方案，保温层的材质为双铝隔热膜，能够阻隔加热层产生的热量向监测外壳传导，对加热层产生的热量进行保温。
[0014]进一步的，监测外壳左、右两侧固定设置有转动把手，监测外壳的上方固定设置有
密封垫。
[0015]通过采用上述技术方案，转动把手方便使用者将装置进行携带，密封垫增强与壳盖之间的密封性，防止清洁试剂挥发，影响半导体材料的清洁效果。
[0016]进一步的，监测外壳上铰链连接有壳盖，壳盖上固定设置有观察窗，观察窗的材质为合成玻璃。
[0017]通过采用上述技术方案，方便使用者进行观察监测外壳中的工作情况。
[0018]综上，本技术主要具有以下有益效果：
[0019]1、该技术，通过在清洁槽的内侧底部固定设置有温度传感器，对半导体清洗的试剂进行温度监测，进而将电信号传递到控制面板上，进而控制加热层对清洗溶液的试剂进行加热处理，清洁槽的内壁上固定设置有液体传感器，液体传感器能够随着清洗溶液对半导体材料清洁液位的降低，监测溶液中的清洗溶液的浓度，相应的数字电路信号传输到控制面板上，由进料口上外接的清洗溶液配试后，进料口上的电磁阀控制将溶液送到清洁槽中进行维持清洗溶液的相应浓度。
[0020]2、该技术，通过微型马达的传动轴穿过加热层和清洁槽与转盘的下方固定连接，微型马达的传动轴经过镀膜处理，不与清洗溶液发生化学反应，转盘的上方固定设置有多个卡槽，可以将半导体的下方卡放在卡槽中，配合微型马达的传动，使得半导体清洗的效果得以提升。
附图说明
[0021]附图用来提供对本技术的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本技术的实施例一起用于解释本技术，并不构成对本技术的限制。在附图中：
[0022]图1为本技术的结构示意图；
[0023]图2为图1中A处的放大图。
[0024]图中：1、监测外壳；2、壳盖；3、加热层；4、清洁槽；5、微型马达； 6、转盘；7、卡槽；8、温度传感器；9、液体传感器；10、控制面板；11、进料口；12、出料口；13、转动把手；14、观察窗。
具体实施方式
[0025]为了使本技术的目的、技术方案进行清楚、完整地描述，及优点更加清楚明白，以下结合附图对本技术实施例进行进一步详细说明。
[0026]在本技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“中”“上”、“下”、“左”、“右”、“内”、“外”、“顶”、“底”、“侧”、“竖直”、“水平”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”、“第四”、“第五”、“第六”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[0027]在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，
可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0028]实施例1
[0029]参考图1
‑
图2，一种半导体清洗溶液监测装置,包括监测外壳1、壳盖2，监测外壳1的内侧固定设置有加热层3，方便为半导体清洗溶液进行加热处理，加热层3的内侧上固定设置有清洁槽4，清洁槽4的材质为石英玻璃，石英玻璃的内槽可以放入浓度较高的强酸、碱性的清洗剂，也能抵住较高的溶液温度，监测外壳1的内侧底部固定设置有微型马达5，微型马达5的转速控制在每分钟30
‑
40转，微型马达5的传动轴穿过加热层3和清洁槽4与转盘6的下方固定连接，微型马达5的传动轴经过镀膜处理，不与清洗溶液发生化学反应，转盘6的上方固定设置有多个卡槽7，可以将半导体的下方卡放在卡槽 7中，配合微型马达5的传动，使得半导体清洗的效果得以提升，清洁槽4的内侧底部固定设置有温度传感器8，对半导体清洗的试剂进行温度监测，进而将电信号传递到控制面板10上，进而控制加热层3对清洗溶液的试剂进行加热处理，清洁槽4的内壁上固定设置有液体传感器9，液体传感器9能够随着清洗溶液对半导体材料清洁液位的降低，监测溶液中的清洗溶液本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种半导体清洗溶液监测装置，包括监测外壳(1)、壳盖(2)，其特征在于：所述监测外壳(1)的内侧固定设置有加热层(3)，所述加热层(3)的内侧上固定设置有清洁槽(4)，所述监测外壳(1)的内侧底部固定设置有微型马达(5)，所述微型马达(5)的传动轴穿过所述加热层(3)和清洁槽(4)与转盘(6)的下方固定连接，所述转盘(6)的上方固定设置有多个卡槽(7)，所述清洁槽(4)的内侧底部固定设置有温度传感器(8)，所述清洁槽(4)的内壁上固定设置有液体传感器(9)，所述监测外壳(1)的前面上固定设置有控制面板(10)，所述监测外壳(1)、清洁槽(4)的对应位置上固定设置有进料口(11)、出料口(12)。2.根据权利要求1所述的一种半导体清洗溶液监测装置，其特征在于：所述控制面板(10)上固定设置有显...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈燏，
申请(专利权)人：无锡市安晏克半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。