一种防掉落的半导体清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种防掉落的半导体清洗装置，其技术方案要点是：包括清洗箱体，支撑底座的上端固定设置有电动机，电动机的输出轴连接有第一锥齿轮副，第一锥齿轮副通过连接杆连接有第二锥齿轮副，第一锥齿轮副与第二锥齿轮副上分别设置有第一转动杆与第二转动杆，第一转动杆与第二转动杆的外端分别设置有多个清洗盘，清洗箱体的上端固定设置有水泵，水泵的一端连接有主水管，主水管伸入至清洗箱体的内部并连接有多个分支水管，分支水管上设置有多个喷水头，蓄水箱的内部设置有过滤装置；本实用新型专利技术解决了现有的半导体清洗机无法同时加工较多的硅片、清洗效果不佳以及在清洗的过程中会造成较多水资源的浪费的问题。程中会造成较多水资源的浪费的问题。程中会造成较多水资源的浪费的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种防掉落的半导体清洗装置


[0001]本技术涉及半导体清洗装置
，尤其是一种防掉落的半导体清洗装置。

技术介绍

[0002]半导体产业是现代电子工业的核心，而半导体产业的基础是硅材料工业。硅片清洗对半导体工业的重要性早在50年代初就已引起人们的高度重视。随着微电子技术的飞速发展以及人们对原料要求的提高，污染物对器件的影响也愈加突出。
[0003]为了提高对半导体器件的清洗效果，公开号为CN207818532U的中国技术专利公开了一种新型半导体清洗机，包括半导体清洗机本体、散热层、清洗层、消毒层、控制层和清洗机底座，所述半导体清洗机本体内顶部设有散热层，且散热层内底部设有通风口，所述出风口一侧设有散热片，所述散热层底部设有控制层，且控制层一侧设有清洗机开关，所述清洗机开关一侧设有信号指示灯，且信号指示灯一侧设有工作指示屏，所述控制层底部设有清洗层，且清洗层内顶部一侧通过连接座安装超声波清洗器，所述超声波清洗器一侧设有清洗设备，所述清洗设备一侧通过安置架安装蒸汽制造器，所述清洗层内底部设有加热电阻。
[0004]上述这种半导体清洗机功能强大，设计科学，操作方便，稳定性好，可靠性高，适合广泛推广，但是上述这种半导体清洗机依然存在一些问题，比如：1、这种清洗机无法同时加工较多的硅片，同时清洗效果不佳；2、在清洗的过程中会造成较多水资源的浪费。

技术实现思路

[0005]针对
技术介绍
中提到的问题，本技术的目的是提供一种防掉落的半导体清洗装置，以解决
技术介绍
中提到的现有的半导体清洗机无法同时加工较多的硅片、清洗效果不佳以及在清洗的过程中会造成较多水资源的浪费的问题。
[0006]本技术的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：
[0007]一种防掉落的半导体清洗装置，包括清洗箱体与设置在清洗箱体下端的支撑底座，支撑底座的上端固定设置有电动机，电动机的输出轴连接有第一锥齿轮副，第一锥齿轮副通过连接杆连接有第二锥齿轮副，第一锥齿轮副与第二锥齿轮副上分别设置有第一转动杆与第二转动杆，第一转动杆与第二转动杆贯穿清洗箱体并伸入清洗箱体的内部，第一转动杆与第二转动杆的外端分别固定设置有多个轴套，轴套的外端固定套设有清洗盘，清洗箱体的上端固定设置有水泵，水泵的一端连接有主水管，主水管伸入至清洗箱体的内部并连接有多个分支水管，分支水管上设置有多个喷水头，清洗箱体的下端通过出水管连接有蓄水箱，蓄水箱的内部设置有过滤装置，蓄水箱通过回水管与水泵相连接。
[0008]进一步的，第一锥齿轮副包括与电动机的输出轴固定连接的主动锥齿轮，主动锥齿轮上啮合有第一转动锥齿轮，第一转动锥齿轮上啮合有第一从动锥齿轮，主动锥齿轮与第一从动锥齿轮的轴线相同。
[0009]进一步的，第二锥齿轮副包括第二从动锥齿轮，第二从动锥齿轮通过连接杆与第一从动锥齿轮相连接，第二从动锥齿轮上啮合有第二转动锥齿轮，第一转动锥齿轮与第二转动锥齿轮的轴线竖直设置。
[0010]进一步的，清洗盘的中部开设有多个用于放置半导体的放置槽。
[0011]进一步的，蓄水箱的下端设置有污水排放管。
[0012]进一步的，支撑底座的上端在对应于连接杆的位置处固定设置有支撑件。
[0013]综上所述，本技术主要具有以下有益效果：
[0014]1、该技术，通过设置第一转动杆、第二转动杆以及多个清洗盘，电动机工作后能够同时带动第一转动杆与第二转动杆上的多个清洗盘同时工作，因此可以同时加工较多数量的硅片，同时在清洗的过程中，清洗盘不停地转动，保证了清洗的效果。
[0015]2、该技术，通过设置蓄水箱，清洗后的水流能够通过出水管流入蓄水箱，经过过滤装置的过滤之后，能够被水泵重新利用，避免了水资源的浪费。
附图说明
[0016]附图用来提供对本技术的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本技术的实施例一起用于解释本技术，并不构成对本技术的限制。在附图中：
[0017]图1为本技术的结构示意图；
[0018]图2为清洗盘的结构示意图；
[0019]图3为第一锥齿轮副与第二锥齿轮副的结构示意图。
[0020]图中：1、清洗箱体；2、支撑底座；3、电动机；4、第一锥齿轮副；401、主动锥齿轮；402、第一转动锥齿轮；403、第一从动锥齿轮；5、连接杆；6、第二锥齿轮副；601、第二从动锥齿轮；602、第二转动锥齿轮；7、第一转动杆；8、第二转动杆；9、轴套；10、清洗盘；1001、放置槽；11、水泵；12、主水管；13、分支水管；14、喷水头；15、出水管；16、蓄水箱；17、过滤装置；18、回水管；19、污水排放管；20、支撑件。
具体实施方式
[0021]为了使本技术的目的、技术方案进行清楚、完整地描述，及优点更加清楚明白，以下结合附图对本技术实施例进行进一步详细说明。
[0022]在本技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“中”“上”、“下”、“左”、“右”、“内”、“外”、“顶”、“底”、“侧”、“竖直”、“水平”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”、“第四”、“第五”、“第六”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[0023]在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0024]实施例1
[0025]参考图1
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图3，一种防掉落的半导体清洗装置，包括清洗箱体1与设置在清洗箱体1下端的支撑底座2，支撑底座2的上端固定设置有电动机3，电动机3的输出轴连接有第一锥齿轮副4，第一锥齿轮副4通过连接杆连接5有第二锥齿轮副6，第一锥齿轮副4与第二锥齿轮副6上分别设置有第一转动杆7与第二转动杆8，第一转动杆7与第二转动杆8贯穿清洗箱体1并伸入清洗箱体1的内部，第一转动杆7与第二转动杆8的外端分别固定设置有多个轴套9，轴套9的外端固定套设有清洗盘10，清洗盘10的中部开设有多个用于放置半导体的放置槽1001，放置槽1001的形状可以根据不同硅片的形状进行设置。
[0026]参考图1，清洗箱体1的上端固定设置有水泵11，水泵11的一端连接有主水管12，主水管12伸入至清洗箱体1的内部并连接有多个分支水管13，分支水管13上设置有多个喷水头14，喷水头14朝向清洗盘10中放置槽1001的位置设置，清洗箱体1的下端通过出水管15连接有蓄水箱16，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种防掉落的半导体清洗装置，包括清洗箱体(1)与设置在清洗箱体(1)下端的支撑底座(2)，其特征在于：所述支撑底座(2)的上端固定设置有电动机(3)，所述电动机(3)的输出轴连接有第一锥齿轮副(4)，所述第一锥齿轮副(4)通过连接杆连接(5)有第二锥齿轮副(6)，所述第一锥齿轮副(4)与所述第二锥齿轮副(6)上分别设置有第一转动杆(7)与第二转动杆(8)，所述第一转动杆(7)与所述第二转动杆(8)贯穿所述清洗箱体(1)并伸入所述清洗箱体(1)的内部，所述第一转动杆(7)与所述第二转动杆(8)的外端分别固定设置有多个轴套(9)，所述轴套(9)的外端固定套设有清洗盘(10)，所述清洗箱体(1)的上端固定设置有水泵(11)，所述水泵(11)的一端连接有主水管(12)，所述主水管(12)伸入至所述清洗箱体(1)的内部并连接有多个分支水管(13)，所述分支水管(13)上设置有多个喷水头(14)，所述清洗箱体(1)的下端通过出水管(15)连接有蓄水箱(16)，所述蓄水箱(16)的内部设置有过滤装置(17)，所述蓄水箱(16)通过回水管(18)与所述水泵(11)相连接。2.根据权利要求1所述的一种防掉落的半导体清洗装置，...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈燏，
申请(专利权)人：无锡市安晏克半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：