【技术实现步骤摘要】
一种单晶炉液面自动测量补偿一体系统及方法
[0001]本专利技术涉及一种晶体培养装置,更具体地说是一种单晶炉液面自动测量补偿一体系统及方法。
技术介绍
[0002]单晶硅,硅的单晶体,具有基本完整的点阵结构的晶体,不同的方向具有不同的性质,是一种良好的半导材料,在单晶硅的加工过程中,包含引晶、放肩、转肩等径、收尾等各道共工序。
[0003]现在的工序中,炉体本身不动,而结晶后的晶体块向上移动,这就导致结晶块会在移动的过程中有晃动,影响结晶,而现有的液面测量大都采用单面测量的方式,在炉体倾斜的时候,不能很好地测出真实的液体量,而且补液的方式是通过直接注入式对原液面有冲击或振动,由于新液与原液温度存在一些微小的差异,会导致结晶的失败和影响结晶的量;
[0004]为了解决上述问题,所以提供了一种单晶炉液面自动测量补偿一体系统及方法。
技术实现思路
[0005]本专利技术要解决的技术问题在于提供一种单晶炉液面自动测量补偿一体系统及方法,其能够解决晶体块向上移动过程中有晃动,影响结晶,而现有的液面测量大 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种单晶炉液面自动测量补偿一体系统,包括支撑机构(1)、切换机构(2)、平衡机构(3)、炉筒机构(4)、液面检测机构(5)和补偿机构(6),其特征在于:所述切换机构(2)位于支撑机构(1)的上部,切换机构(2)与支撑机构(1)转动连接,平衡机构(3)与切换机构(2)滑动连接,炉筒机构(4)与支撑机构(1)滑动连接,液面检测机构(5)设有两个,液面检测机构(5)固定在炉筒机构(4)的上部两侧,补偿机构(6)与炉筒机构(4)相连接。2.根据权利要求1所述的一种单晶炉液面自动测量补偿一体系统,其特征在于:所述支撑机构(1)包括底座(1
‑
1)、竖直齿条(1
‑
2)和滑槽(1
‑
3),所述竖直齿条(1
‑
2)下部固定在底座(1
‑
1)上,竖直齿条(1
‑
2)一侧加工有齿,与齿相邻的两个面上设有滑槽(1
‑
3)。3.根据权利要求1所述的一种单晶炉液面自动测量补偿一体系统,其特征在于:所述切换机构(2)包括横齿条(2
‑
1)、挂槽(2
‑
2)、结晶挂钩(2
‑
3)、切换电机(2
‑
4)和连接皮带(2
‑
5),所述横齿条(2
‑
1)上部设有齿,横齿条(2
‑
1)截面为凸形,横齿条(2
‑
1)下部设有圆柱轮,横齿条(2
‑
1)与竖直齿条(1
‑
2)转动连接,所述挂槽(2
‑
2)设有两个,挂槽(2
‑
2)位于横齿条(2
‑
1)的两端,结晶挂钩(2
‑
3)设有两个,结晶挂钩(2
‑
3)与挂槽(2
‑
2)相连接,所述切换电机(2
‑
4)固定在竖直齿条(1
‑
2)上,切换电机(2
‑
4)通过连接皮带(2
‑
5)与横齿条(2
‑
1)相连接。4.根据权利要求1所述的一种单晶炉液面自动测量补偿一体系统,其特征在于:所述平衡机构(3)包括滑动架(3
‑
1)、主动轮(3
‑
2)、驱动电机(3
‑
3)、配重(3
‑
4)、挂杆(3
‑
5)、平衡重物(3
‑
6)和从动轮(3
‑
7),滑动架(3
‑
1)与横齿条(2
‑
1)滑动配合,主动轮(3
‑
2)与驱动电机(3
‑
3)相连接,主动轮(3
‑
2)与滑动架(3
‑
1)转动配合,驱动电机(3
‑
3)固定在滑动架(3
‑
1)一侧,配重(3
‑
4)固定在滑动架(3
‑
1)的另一侧,配重(3
‑
4)与驱动电机(3
‑
3)重量相同,位置相对,挂杆(3
‑
5)为圆柱状,挂杆(3
‑
5)固定在滑动架(3
‑
1)的上部,平衡重物(3
‑
6)设有多个,平衡重物(3
‑
6)套在挂杆(3
‑
5)上,从动轮(3
‑
7)与主动轮(3
‑
2)结构相同,从动轮(3
‑
7)与滑动架(3
‑
1)转动连接。5.根据权利要求1所述的一种单晶炉液面自动测量补偿一体系统,其特征在于:所述炉筒机构(4)包括炉体(4
‑
1)、连接架(4
‑
2)、防脱架(4
‑
3)、齿轮(4
‑
4)、补液阀(4
‑
5)、下加热圈(4
‑
6)、上加热圈(4
‑
7)、进料口(4
‑
8)、测量槽(4
‑
9)、螺纹架(4
‑
10)和通孔(4
‑
11),所述炉体(4
‑
1)为圆筒状,炉体(4
‑
1)下部设有通孔(4
‑
11),炉体(4
‑
1)上固定有连接架(4
‑
2),防脱架(4
‑
3)设有两个,防脱架(4
‑
3)固定在连接架(4
‑
2)的上下两端,防脱架(4
‑
3)与滑槽(1
‑
3)滑动连接,齿轮(4
‑
4)与连接架(4
‑
2)转动连接,齿轮(4
‑
4)与电机相连接,齿轮(4
‑
4)与竖直齿条(1
‑
2)相啮合,补液阀(4
‑
5)设有两个,补液阀(4
‑
5)固定在进料口(4
‑
8)上,进料口(4
‑
8)对称固定在炉体(4
‑
1)上,下加热圈(4
‑
6)位于炉体(4
‑
1)的内侧下部,上加热圈(4
‑
7)位于炉体(4
‑
1)的内侧上部,测量槽(4
‑
9)对称设置在炉体(4
‑
1)的上部,螺纹架(4
‑
10)设有两个,螺纹架(4
‑
10)中部加工有螺纹孔。6.根据权利要求1所述的一种单晶炉液面自动测量补偿一体系统,其特征在于:所述液面检测机构(5)包括固定架(5
‑
1)、传感器(5
‑
2)和浮子(5
‑
3),所述固定架(5
‑
1)固定在测量槽(4
‑
9)上,固定架(5
‑
1)中部设有通孔,传感器(5
‑
2)固定在固定架(5
‑
1)上,浮子(5
‑
3)穿过通孔,浮子...
【专利技术属性】
技术研发人员:徐永根,沈凯杰,
申请(专利权)人:浙江晶阳机电股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。