成像设备制造技术

一种成像设备，包括：光源，由使用具有第一频率的第一参考信号和具有不同于第一频率的第二频率的第二参考信号生成的光学控制信号操作；多个像素，多个像素中的每一个包括输出与光电二极管的电荷相对应的像素信号的像素电路；以及逻辑电路，被配置为使用像素信号生成原始数据以生成深度图像。多个像素包括第一像素和第二像素，并且逻辑电路将具有第一频率的第一光电控制信号输入到连接到每个第一像素中的光电二极管的像素电路，并将具有第二频率的第二光电控制信号输入到连接到每个第二像素中的光电二极管的像素电路。像素中的光电二极管的像素电路。像素中的光电二极管的像素电路。

【技术实现步骤摘要】
成像设备
[0001]对相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2020年11月26日向韩国知识产权局提交的第10
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2020
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0161099号韩国专利申请的权益，该申请的全部公开内容通过引用被合并于此以用于所有目的。


[0003]一些示例实施例涉及一种成像设备。

技术介绍

[0004]成像设备是通过将光学信号转换成电信号来生成图像的设备，并可以被安装在电子设备上以提供相机功能。最近，使用光学信号生成包括距离信息的深度图像的成像设备已经被安装在各种电子设备上，并且已经积极提出了用于改进生成深度图像的成像设备的性能的方法。

技术实现思路

[0005]一些示例实施例提供了一种成像设备，其中，可以生成具有改进的或优异的噪声特性的深度图像，同时在不降低帧速率的情况下增加大的或最大的可测量距离。
[0006]根据一些示例实施例，成像设备包括：光源，被配置为由使用具有第一频率的第一参考信号和使用具有不同于第一频率的第二频率的第二参考信号生成的光学控制信号操作；多个像素，多个像本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种成像设备，包括：光源，被配置为由光学控制信号操作，其中，光学控制信号使用具有第一频率的第一参考信号和使用具有不同于第一频率的第二频率的第二参考信号生成；多个像素，多个像素中的每一个包括光电二极管和像素电路，光电二极管被配置为响应于由光源输出并从被摄体反射的光接收信号而生成电荷，像素电路被配置为输出与光电二极管的电荷相对应的像素信号；以及逻辑电路，被配置为使用像素信号生成原始数据以生成深度图像，其中，多个像素包括第一像素和第二像素，并且逻辑电路被配置为将具有第一频率的第一光电控制信号输入到连接到每个第一像素中的光电二极管的像素电路，并被配置为将具有第二频率的第二光电控制信号输入到连接到每个第二像素中的光电二极管的像素电路。2.根据权利要求1所述的成像设备，其中，第二频率小于第一频率。3.根据权利要求2所述的成像设备，其中，第一频率是第二频率的整数倍。4.根据权利要求1所述的成像设备，其中，第一像素的数量大于或等于第二像素的数量。5.根据权利要求4所述的成像设备，其中，第一像素的数量是第二像素的数量的整数倍。6.根据权利要求1所述的成像设备，其中，所述多个像素排列在第一方向和与第一方向相交的第二方向上，并且第二像素中的每一个在第一方向和第二方向上与第一像素的一部分相邻。7.根据权利要求1所述的成像设备，其中，第一像素和第二像素具有相同的结构。8.根据权利要求1所述的成像设备，其中，第一光电控制信号包括多个第一光电控制信号，多个第一光电控制信号中的每一个相对于第一参考信号具有0度、90度、180度和270度中的一个的相位差，并且第二光电控制信号包括多个第二光电控制信号，多个第二光电控制信号中的每一个相对于第二参考信号具有0度、90度、180度和270度中的一个的相位差。9.根据权利要求8所述的成像设备，其中，在第一像素和第二像素中的每一个中，像素电路包括共享所述光电二极管的第一至第四像素电路，并且第一至第四像素电路中的每一个包括连接到光电二极管的光电晶体管，以及被配置为放大光电二极管的电荷以生成像素信号的驱动晶体管。10.根据权利要求9所述的成像设备，其中，包括在每个第一像素的第一至第四像素电路中的光电晶体管被配置为接收多个第一光电控制信号，并且包括在每个第二像素的第一至第四像素电路中的光电晶体管被配置为接收多个第二光电控制信号。11.根据权利要求8所述的成像设备，其中，第一像素和第二像素中的每一个包括彼此相邻的四个子像素，并且每个子像素包括光电二极管和像素电路，并且每个子像素的像素电路包括连接到光电二极管的单个光电晶体管以及被配置为放大光电二极管的电荷以生成像素信号的驱动晶体管。12.根据权利要求11所述的成像设备，其中，在每个第一像素中的像素...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑泛植，吉珉墡，奇明吾，金大允，
申请(专利权)人：三星电子株式会社，
类型：发明
国别省市：