一种靶材R角半自动抛光系统装置、抛光方法及用途制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种靶材R角半自动抛光系统装置、抛光方法及用途，所述的系统装置包括底座，所述底座的表面设置至少一个抛光单元，所述的抛光单元包括至少两个抛光组件，所述底座的表面开设有至少一个第一滑槽，所述抛光组件在所述第一滑槽内移动，所述的抛光组件包括转动连接的本体与基底，所述的本体上设置至少两个抛光轮。本发明专利技术能够有效地将靶材侧边氧化物抛除，提高工作效率，减少人员体力输出，节约作业时间，实现铝靶材R角抛光进入半自动化。实现铝靶材R角抛光进入半自动化。实现铝靶材R角抛光进入半自动化。

【技术实现步骤摘要】
一种靶材R角半自动抛光系统装置、抛光方法及用途


[0001]本专利技术属于磁控溅射镀膜
，涉及靶材抛光，尤其涉及一种靶材R角半自动抛光系统装置、抛光方法及用途。

技术介绍

[0002]溅射靶材用于磁控溅射镀膜，溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜(PVD)方式。在被溅射的靶极(阴极)与阳极之间加一个正交磁场和电场，在高真空室中充入所需要的惰性气体(通常为Ar气)，在电场的作用下，Ar气电离成正离子和电子，靶上加有一定的负高压，从靶极发出的电子受磁场的作用与工作气体的电离几率增大，在阴极附近形成高密度的等离子体，Ar离子在洛仑兹力的作用下加速飞向靶面，以很高的速度轰击靶面，使靶上被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离靶面飞向基片淀积成膜。
[0003]现代TFT
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LCD(薄膜晶体管液晶显示器)制造中，钼薄膜主要用于导电薄膜中Al的阻挡层，部分用于Cu的阻挡层，TFT
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LCD中对导电膜的主要要求为：低电阻率、均匀性好、外形光滑、附着性好、阶梯覆盖率好、应力最小、异常突起最小、电子迁移率最小本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种靶材R角半自动抛光系统装置，其特征在于，所述的系统装置包括底座，所述底座的表面设置至少一个抛光单元，所述的抛光单元包括至少两个抛光组件，所述底座的表面开设有至少一个第一滑槽，所述抛光组件在所述第一滑槽内移动，所述的抛光组件包括转动连接的本体与基底，所述的本体上设置至少两个抛光轮。2.根据权利要求1所述的系统装置，其特征在于，所述的抛光单元包括驱动组件，所述的驱动组件包括第一电机与第二电机，所述的第一电机用于驱动所述基底在第一滑槽内移动，所述的第二电机用于驱动本体进行转动；优选地，所述的第一电机固定于所述底座的表面，所述的第二电机固定于所述基底的表面。3.根据权利要求1或2所述的系统装置，其特征在于，所述基底的底部设置有齿轮，所述的第一滑槽内设置齿条；优选地，所述的第一电机与齿轮之间设置有第一转轴，所述的第一转轴在所述第一电机的驱动下进行转动，并带动所述齿轮与齿条相互啮合，带动所述的基底在第一滑槽内进行移动。4.根据权利要求1
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3任一项所述的系统装置，其特征在于，所述本体的表面开设有至少两个固定槽，所述的固定槽内分别设置有支架，所述的支架连接所述的抛光轮；优选地，所述的至少两个抛光轮包括至少一个细抛光轮和至少一个粗抛光轮；优选地，所述的抛光轮包括砂轮、布轮或尼龙轮中的任一种或至少两种的组合。5.根据权利要求1
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4任一项所述的系统装置，其特征在于，所述的抛光组件还包括支撑臂，所述支撑臂的一端连接本体，另一端对接所述的基底；优选地，所述基底的表面设置第二滑槽，所述的支撑臂以基底为转动中心在所述第二滑槽内移动；优选地，所述的支撑臂内设置有第二转轴，所述第二转轴的一端连接第二电机，另一端连接所述本体远离抛光轮的一侧表面，所述的第二电机驱动第二转轴带动本体进行转动。6.根据权利要求1
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5任一项所述的系统装置，其特征在于，所述底座远离所述抛光单元的一侧设置至少一个定位单元，所述的定位单元包括两个支柱，所述两个支柱的...

【专利技术属性】
技术研发人员：姚力军，潘杰，王学泽，张晓驰，范文新，周伟君，
申请(专利权)人：武汉江丰电子材料有限公司，
类型：发明
国别省市：