【技术实现步骤摘要】
一种等离子体镀膜机
[0001]本技术涉及镀膜机领域,尤其涉及一种等离子体镀膜机。
技术介绍
[0002]目前,真空镀膜机中的磁控溅射和电弧溅射的磁场是局部磁化磁场,溅射离化后的离子成分不能远距离扩散,更难贯通整个真空室空间,多数是集中在靶材附近,离化离子的利用率低,不仅影响镀膜质量,生产效率也较低。
技术实现思路
[0003]本技术为了弥补现有技术的不足,提供了一种等离子体镀膜机,设置了八个功能面板,可以使等离子体镀膜腔室结构更合理、功能最全、效率更高,实现被镀材料多种等离子体参数膜及等离子体参数的准确控制。
[0004]本技术为解决上述技术问题所采用的技术方案是:
[0005]一种等离子体镀膜机,包括八角形筒状机体,所述八角形筒状机体的侧部沿周向均匀设有八个功能面板,八个功能面板和八角形筒状机体能够围成一用于镀膜的真空腔室,八个功能面板两两正对以形成四组功能面板,其中,第一组功能面板为两个正对的分别带有外控磁场的板式PVD镀膜源,第二组功能面板为射频发射的电感耦合等离子体源和与其正对的等离子体 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种等离子体镀膜机,其特征在于,包括八角形筒状机体,所述八角形筒状机体的侧部沿周向均匀设有八个功能面板,八个功能面板和八角形筒状机体能够围成一用于镀膜的真空腔室,八个功能面板两两正对以形成四组功能面板,其中,第一组功能面板为两个正对的分别带有外控磁场的板式PVD镀膜源,第二组功能面板为射频发射的电感耦合等离子体源和与其正对的等离子体参数测量窗,第三组功能面板为两个正对的分别带有外控磁场的直流电弧溅射靶源,第四组功能面板为抽气面板和与其正对的观察窗;两个板式PVD镀膜源的外控磁场贯通真空腔室内部形成N
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S级相吸的第一磁场位形,两个直流电弧溅射靶源的外控磁场贯通真空腔室内部形成N
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S级相吸的第二磁场位形,第一磁场位形和第二磁场位形相互垂直以构成复合磁场约束位形。2.根据权利要求1所述...
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