本实用新型专利技术公开了一种玻璃水钻真空镀膜处理装置，包括真空镀膜机主体、基座和密封板，所述真空镀膜机主体底端固定安装有基座，且基座内对称安装有两组螺纹杆轴，并且螺纹杆轴上对称啮合有螺母，所述螺母固定安装在升降块中央，且升降块一侧固定安装有安装轨道，并且安装轨道侧面开设有限位滑槽，所述密封板顶面对称安装有上料托盘，且上料托盘顶面均匀开设有若干个放置孔，所述密封板两侧侧面对称安装有限位滑块，且限位滑块卡嵌在限位滑槽内。有益效果：本实用新型专利技术设置有密封板和上料托盘，可在一种玻璃水钻真空镀膜处理装置工作时进行玻璃水钻的上下料，且无需人工进行开合密封门，从而提高了一种玻璃水钻真空镀膜处理装置的镀膜效率。的镀膜效率。的镀膜效率。
【技术实现步骤摘要】
一种玻璃水钻真空镀膜处理装置
[0001]本技术涉及玻璃水钻加工
，具体来说，涉及一种玻璃水钻真空镀膜处理装置。
技术介绍
[0002]玻璃水钻又名水晶钻石，是将人造水晶玻璃切割成钻石刻面得到的一种饰品辅件，玻璃水钻在生产过程中，往往需要使用真空镀膜处理装置在其表面镀上银膜和保护膜，以提高其外观光彩并对其进行保护。
[0003]传统的一种玻璃水钻真空镀膜处理装置大多需要人工开合密封门，操作较为繁琐，且耗费实际较长，并且传统的一种玻璃水钻真空镀膜处理装置只有一个上料托盘，工人摆放待镀膜的玻璃水钻或取下完成镀膜的玻璃水钻时，装置需处于停机状态，从而大大降低了镀膜效率，另外，传统的一种玻璃水钻真空镀膜处理装置的上料托盘上的放置孔大多深度固定，当放置孔较浅时，玻璃水钻在上料时易发生晃动偏移等，从影响玻璃水钻的正常上料，而当放置孔较深时，靶材轰击产生的原子团和离子又不能充分均匀沉积在待镀膜玻璃水钻表面，易造成镀膜效果不佳。
技术实现思路
[0004](一)解决的技术问题
[0005]针对现有技术的不足，本技术提供了一种玻璃水钻真空镀膜处理装置，具备可在装置工作时进行玻璃水钻的上下料，且无需人工进行开合密封门，从而提高了镀膜效率、并且能够在完成上料时，使玻璃水钻与靶材更加充分接触，从而既能保障玻璃水钻的稳定上料，又能保障镀膜质量的优点，进而解决上述
技术介绍
中的问题。
[0006](二)技术方案
[0007]为实现上述可在装置工作时进行玻璃水钻的上下料，且无需人工进行开合密封门，从而提高了镀膜效率、并且能够在完成上料时，使玻璃水钻与靶材更加充分接触，从而既能保障玻璃水钻的稳定上料，又能保障镀膜质量的优点，本技术采用的具体技术方案如下：一种玻璃水钻真空镀膜处理装置，包括真空镀膜机主体、基座和密封板，所述真空镀膜机主体底端固定安装有基座，且基座内对称安装有两组螺纹杆轴，并且螺纹杆轴上对称啮合有螺母，所述螺母固定安装在升降块中央，且升降块一侧固定安装有安装轨道，并且安装轨道侧面开设有限位滑槽，所述密封板顶面对称安装有上料托盘，且上料托盘顶面均匀开设有若干个放置孔，所述密封板两侧侧面对称安装有限位滑块，且限位滑块卡嵌在限位滑槽内。
[0008]进一步的，所述真空镀膜机主体底面中央开设有进出料口，且进出料口内侧顶端安装有环形挡板，所述上料托盘顶面通过若干个弹簧连接有活动板，且活动板上均匀开设有若干个限位孔，并且限位孔与放置孔一一对应，所述活动板顶面与环形挡板底面相抵接。
[0009]进一步的，所述进出料口周围设有开设在真空镀膜机主体底面的真空密封槽，所
述上料托盘周围设有开设在密封板顶面的真空密封垫，且真空密封垫卡嵌在真空密封槽内。
[0010]进一步的，所述基座底板内均匀开设有四个安装腔，且安装腔内安装有伺服电机，并且伺服电机输出端连接螺纹杆轴底端。
[0011]进一步的，所述真空镀膜机主体侧面连通安装有真空泵。
[0012]进一步的，所述真空镀膜机主体一侧设置安装有控制箱，且控制箱与真空镀膜机主体、真空泵和伺服电机电性连接。
[0013]进一步的，所述密封板两端侧壁对称安装有把手。
[0014](三)有益效果
[0015]与现有技术相比，本技术提供了一种玻璃水钻真空镀膜处理装置，具备以下有益效果：
[0016](1)、本技术设置有密封板和上料托盘，使用时，工人先将待镀膜的玻璃水钻逐个放置在上料托盘顶面开设的放置孔内，直至一个上料托盘上的放置孔放满玻璃水钻，此时通过把手推拉密封板，使得上料完毕的上料托盘位于真空镀膜机主体底面开设的进出料口正下方，然后通过控制箱启动安装在基座底板内的伺服电机同步转动，使伺服电机带动螺纹杆轴转动，因螺纹杆轴与安装轨道侧面安装的升降块内的螺母相互啮合，而顶面对称安装有上料托盘的密封板两侧对称安装的限位滑块卡嵌在安装轨道内侧开设的限位滑槽内，所以当螺纹杆轴转动时，能够带动安装轨道上下升降，从而能够带动密封板连同上料托盘上下升降，当密封板带动上料托盘上升至进出料口位置时，安装在密封板顶面的真空密封垫卡嵌在真空密封槽内，放置有玻璃水钻的上料托盘位于真空镀膜机主体内腔当中，此时启动真空泵对真空镀膜机主体内腔进行抽真空，然后启动真空镀膜机主体内腔安装的磁控溅射装置轰击靶材，使溅射的靶材沉积在玻璃水钻表面，完成镀膜作业，此段时间内，工人可向密封板上安装的另外一个上料托盘上料待镀膜的玻璃水钻，当完成镀膜的玻璃水钻按上述步骤反向操作从真空镀膜机主体内腔脱出时，推动密封板，使另一上料托盘移动至进出料口正下方，再按照上述方法进行上料，如此循环往复，即可在一种玻璃水钻真空镀膜处理装置工作时进行玻璃水钻的上下料，且无需人工进行开合密封门，从而提高了一种玻璃水钻真空镀膜处理装置的镀膜效率。
[0017](2)、本技术设置有活动板，如上所述，待镀膜的玻璃水钻上料时逐个放置在上料托盘顶面开设的放置孔内，与此同时待镀膜的玻璃水钻也卡嵌在活动板上对应开设的限位孔内，利用限位孔对待镀膜的玻璃水钻进行限位，防止上料过程中发生晃动偏移等现象，当待镀膜的玻璃水钻进入真空镀膜机主体内腔时，限位板顶面与进出料口安装的环形挡板相抵接，当上料托盘继续上升时，活动板下降，安装在上料托盘和活动板之间的弹簧被压缩，玻璃水钻从限位孔内脱出，保障靶材轰击产生的原子团和离子能够充分均匀沉积在待镀膜玻璃水钻表面，从而提高了一种玻璃水钻真空镀膜处理装置的镀膜效果，完成镀膜后进行出料，活动板在弹簧弹力的作用下复位，保障玻璃水钻下料时不易发生晃动偏移等现象。
附图说明
[0018]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例
中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0019]图1是根据本技术实施例的一种玻璃水钻真空镀膜处理装置的结构示意图；
[0020]图2是根据本技术实施例的一种玻璃水钻真空镀膜处理装置的密封板俯视图；
[0021]图3是根据本技术实施例的图1的A处放大图；
[0022]图4是根据本技术实施例的图1的B处放大图；
[0023]图5是根据本技术实施例的一种玻璃水钻真空镀膜处理装置的活动板立体图。
[0024]图中：
[0025]1、真空镀膜机主体；2、真空泵；3、控制箱；4、基座；5、进出料口；6、密封板；7、把手；8、上料托盘；9、安装腔；10、伺服电机；11、螺纹杆轴；12、升降块；13、螺母； 14、安装轨道；15、限位滑槽；16、限位滑块；17、真空密封垫；18、活动板；19、环形挡板；20、真空密封槽；21、放置孔；22、限位孔；23、弹簧。
具体实施方式
[0026]为进一步说明各实施例，本技术提供有附图，这些附图为本技术揭露内本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种玻璃水钻真空镀膜处理装置，包括真空镀膜机主体(1)、基座(4)和密封板(6)，其特征在于，所述真空镀膜机主体(1)底端固定安装有基座(4)，且基座(4)内对称安装有两组螺纹杆轴(11)，并且螺纹杆轴(11)上对称啮合有螺母(13)，所述螺母(13)固定安装在升降块(12)中央，且升降块(12)一侧固定安装有安装轨道(14)，并且安装轨道(14)侧面开设有限位滑槽(15)，所述密封板(6)顶面对称安装有上料托盘(8)，且上料托盘(8)顶面均匀开设有若干个放置孔(21)，所述密封板(6)两侧侧面对称安装有限位滑块(16)，且限位滑块(16)卡嵌在限位滑槽(15)内。2.根据权利要求1所述的一种玻璃水钻真空镀膜处理装置，其特征在于，所述真空镀膜机主体(1)底面中央开设有进出料口(5)，且进出料口(5)内侧顶端安装有环形挡板(19)，所述上料托盘(8)顶面通过若干个弹簧(23)连接有活动板(18)，且活动板(18)上均匀开设有若干个限位孔(22)，并且限位孔(22)与放置孔(21)一一对应，所述活动板(18)顶面与环形...
【专利技术属性】
技术研发人员：包敬敬，徐贤洪，包金亮，
申请(专利权)人：余干县巨起饰品有限公司，
类型：新型
国别省市：
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