本实用新型专利技术公开了一种施釉线输送装置，包括支撑架，所述支撑架上设有转动连接有主动轮组件、从动轮组件以及输送带，所述主动轮组件与从动轮组件之间通过输送带传动连接；所述输送带上设有施釉器，所述输送带位于施釉器的一侧设有凹陷部，所述支撑架上设有对于凹陷部进行清洁的清洁机构。本实用新型专利技术通过设置凹陷部以及清洁件够能够实现输送带传动施釉器之后能够及时的被清洁，进而避免输送带穿过从动皮带轮之后再清洁时，从动皮带轮上会粘附有釉料而影响从动皮带轮的工作或者釉料在输送带上的粘附时间过长而难以清理等情况发生。的粘附时间过长而难以清理等情况发生。的粘附时间过长而难以清理等情况发生。
【技术实现步骤摘要】
一种施釉线输送装置
[0001]本技术属于瓷砖制造
，尤其涉及一种施釉线输送装置。
技术介绍
[0002]瓷砖的制造工艺主要包括研磨、混合、压制、施釉、烧结等工艺，而在施釉工艺中，主要是通过淋釉器实现对于在输送线上的瓷砖进行喷淋，但是这个过程中釉料不可避免上会流到输送皮带上，而输送皮带上的釉料粘在棍棒上将会影响棍棒的使用寿命，为了解决这一问题。
[0003]经检索，中国专利号CN210999285U公开了一种瓷砖施釉输送线清理装置，包括设置在输送皮带下方的至少一组清理机构，清理机构包括储液箱，储液箱底部设有排液口，储液箱上侧设有安装架，海绵辊的转轴转动安装在安装架上，海绵辊外侧紧贴输送皮带设置，海绵辊一侧设有喷淋管，喷淋管上设有向海绵辊喷水的喷头，喷淋管通过输水管和水泵连通水源。该装置能够对对输送皮带上粘附的釉料进行清理，防止瓷砖底部污染。
[0004]但是上述装置中对于输送皮带进行清理为输送皮带与瓷砖分离之后，然后移动至下方才被清理，而这个过程中输送皮带首先会经过与之配合的皮带轮，釉料留在皮带轮上将会影响皮带轮的使用，且釉料在输送带上的时间过程也会导致釉料难以清理等情况发生。
[0005]为此，我们提出来一种施釉线输送装置解决上述问题。
技术实现思路
[0006]针对上述问题，本技术提供一种施釉线输送装置，该装置能够输送带穿过施釉器之后及时的对于输送带进行清理，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0007]为了实现上述目的，本技术采用了如下技术方案：
[0008]一种施釉线输送装置，包括支撑架，所述支撑架上设有转动连接有主动轮组件、从动轮组件以及输送带，所述主动轮组件与从动轮组件之间通过输送带传动连接；
[0009]所述输送带上设有施釉器，所述输送带位于施釉器的一侧设有凹陷部，所述支撑架上设有对于凹陷部进行清洁的清洁机构。
[0010]进一步的，所述凹陷部处设有多个转动连接在支撑架上的转向辊，所述输送带穿过多个转向辊实现向下凹陷设置。
[0011]进一步的，所述清洁机构包括清洁壳体以及清洁条，所述清洁壳体被位于凹陷部的输送带贯穿设置，且清洁壳体内部设有与输送带滑动连接的清洁条。
[0012]进一步的，所述清洁条为倾斜设置，所述清洁条底端一侧设有收集腔。
[0013]进一步的，所述支撑架上固定连接有收集箱，所述收集箱上固定连通有抽吸泵，所述抽吸泵通过负压管与收集腔连通设置。
[0014]进一步的，所述主动轮组件包括主动轴、主动皮带轮以及电机，所述电机固定连接在支撑架上，所述主动轴转动连接在支撑架上，且主动轴与电机输出端固定连接，所述主动
皮带轮与主动轴固定连接。
[0015]进一步的，所述从动轮组件包括从动轴以及从动皮带轮，所述从动轴转动连接在支撑架上，所述从动皮带轮固定连接在从动轴上，所述从动皮带轮与主动皮带轮之间通过输送带传动连接。
[0016]与现有技术相比，本技术的有益效果为：
[0017]1、通过设置凹陷部以及清洁件够能够实现输送带穿过施釉器之后能够及时的被清洁，进而避免输送带穿过从动皮带轮之后再清洁时，从动皮带轮上会粘附有釉料而影响从动皮带轮的工作或者釉料在输送带上的粘附时间过长而难以清理等情况发生；
[0018]2、通过设置抽吸泵以及负压管等结构能够实现通过负压的方式实现釉料更加容易从输送带上流下，从而能够提高对于输送带的清洁效果。
附图说明
[0019]图1为本技术提出的一种施釉线输送装置的立体结构示意图；
[0020]图2为图1中A处放大结构示意图；
[0021]图3为本技术提出的一种施釉线输送装置中清洁壳体的剖视结构示意图。
[0022]图中：1、支撑架；2、主动轮组件；201、主动轴；202、主动皮带轮；203、电机；3、从动轮组件；301、从动轴；302、从动皮带轮；4、输送带；5、施釉器；6、凹陷部；7、清洁机构；701、清洁壳体；702、清洁条；703、收集腔；8、转向辊；9、收集箱；10、抽吸泵；11、负压管。
具体实施方式
[0023]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。
[0024]在本技术的描述中，需要理解的是，术语"中心"、"纵向"、"横向"、"长度"、"宽度"、"厚度"、"上"、"下"、"前"、"后"、"左"、"右"、"坚直"、"水平"、"顶"、"底"、"内"、"外"、"顺时针"、"逆时针"等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
[0025]参照图1
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3，一种施釉线输送装置，包括支撑架1，支撑架1上设有转动连接有主动轮组件2、从动轮组件3以及输送带4，主动轮组件2与从动轮组件3之间通过输送带4传动连接。
[0026]主动轮组件2包括主动轴201、主动皮带轮202以及电机203，电机203固定连接在支撑架1上，主动轴201转动连接在支撑架1上，且主动轴201与电机203输出端固定连接，主动皮带轮202与主动轴201固定连接。
[0027]从动轮组件3包括从动轴301以及从动皮带轮302，从动轴301转动连接在支撑架1上，从动皮带轮302固定连接在从动轴301上，从动皮带轮302与主动皮带轮202之间通过输送带4传动连接。
[0028]电机203带动主动皮带轮202转动时，主动皮带轮202将会通过输送带4实现从动皮带轮302的转动，且过程中瓷砖可放置在两个并行的输送带4上，从而实现瓷砖的移动。
[0029]输送带4上设有施釉器5，在瓷砖通过施釉器5时，施釉器5将会将釉料喷淋在瓷砖上，而输送带4位于施釉器5的一侧设有凹陷部6，输送带4带动瓷砖穿过施釉器5后，将会经过凹陷部6，而输送带4将会在凹陷部6中被清理。
[0030]凹陷部6处设有多个转动连接在支撑架1上的转向辊8，输送带4穿过多个转向辊8实现向下凹陷设置。
[0031]支撑架1上设有对于凹陷部6进行清洁的清洁机构7，清洁机构7包括清洁壳体701以及清洁条702，清洁壳体701被位于凹陷部6的输送带4贯穿设置，且清洁壳体701内部设有与输送带4滑动连接的清洁条702。
[0032]清洁条702为倾斜设置，清洁条702底端一侧设有收集腔703，当输送带4穿过清洁壳体701时，此时的输送带4上的釉料将会被清洁条702刮下，并且沿着清洁条702向下流动进入到收集腔703中。
[0033]支撑架1上固定连接有收集箱9，收集箱9上固定连通有抽吸泵10，抽吸泵10通过负压管11与收集腔703连通设置，通过抽吸泵10能够四线负压管11以及收集腔703内部产生负压本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种施釉线输送装置，包括支撑架(1)，其特征在于，所述支撑架(1)上设有转动连接有主动轮组件(2)、从动轮组件(3)以及输送带(4)，所述主动轮组件(2)与从动轮组件(3)之间通过输送带(4)传动连接；所述输送带(4)上设有施釉器(5)，所述输送带(4)位于施釉器(5)的一侧设有凹陷部(6)，所述支撑架(1)上设有对于凹陷部(6)进行清洁的清洁机构(7)。2.根据权利要求1所述的施釉线输送装置，其特征在于，所述凹陷部(6)处设有多个转动连接在支撑架(1)上的转向辊(8)，所述输送带(4)穿过多个转向辊(8)实现向下凹陷设置。3.根据权利要求1所述的施釉线输送装置，其特征在于，所述清洁机构(7)包括清洁壳体(701)以及清洁条(702)，所述清洁壳体(701)被位于凹陷部(6)的输送带(4)贯穿设置，且清洁壳体(701)内部设有与输送带(4)滑动连接的清洁条(702)。4.根据权利要求3所述的施釉线输送装置，其特征在于，所述清洁条(702)为倾斜设置，所述清洁条...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘平平，杨武涛，
申请(专利权)人：佛山市玖鼎机械设备有限公司，
类型：新型
国别省市：
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