一种Al2O3纳米片的制备及其修饰方法技术

本发明专利技术提供一种Al2O3纳米片的制备及其修饰方法，该制备方法包括：以氧化石墨烯为模板，利用铝源的水解生成GO/Al(OH)

【技术实现步骤摘要】
一种Al2O3纳米片的制备及其修饰方法


[0001]本专利技术涉及复合材料领域，具体是一种Al2O3纳米片的制备及其修饰方法。

技术介绍

[0002]γ
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Al2O3纳米片是一种应用前景十分广阔的材料，其具有比表面积大、强度高、吸附性能好和耐高温等优异性能，可用于催化剂的载体、重金属离子的吸附或者是陶瓷材料的增强相。
[0003]目前，Al2O3纳米片常用的制备方法有熔盐法。熔盐法制备的Al2O3纳米片具有形貌均一、产量高和制备工艺简单等优势，但是其制备的纳米片厚度较厚(约为100～200nm)，故其无法发挥纳米片比表面积高的优势，而且采用熔盐法制备的Al2O3纳米片是α相，不具备γ相在催化剂载体或者重金属离子吸附等方面具有的优势。

技术实现思路

[0004]针对现有技术存在的上述不足，本专利技术的目的提供一种Al2O3纳米片的制备及其修饰方法，使用模板法制备的γ
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Al2O3纳米片具有非常大的比表面积，可以充分发挥γ
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Al2O3材料的性能，同时使用PDA进行修饰改本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种γ
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Al2O3纳米片的制备方法，其特征在于，包括：以氧化石墨烯为模板，利用铝源的水解生成GO/Al(OH)
x
前驱体，GO/Al(OH)
x
前驱体通过高温煅烧去除模板，得到γ
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Al2O3纳米片。2.如权利要求书1所述的γ
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Al2O3纳米片的制备方法，其特征在于，所述铝源为AlCl3、Al2(SO4)3以及Al(NO3)3的一种或者几种的混合。3.如权利要求书1所述的γ
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Al2O3纳米片的制备方法，其特征在于，所述铝源的水解程度通过调节PH和水浴温度控制。4.如权利要求书3所述的γ
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Al2O3纳米片的制备方法，其特征在于，通过加入尿素的含量调节PH值。5.如权利要求书4所述的γ
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Al2O3纳米片的制备方法，其特征在于，所述铝源的物质的量为0.005～0.015mol，加入的所述尿素的物质的量0.01～0.05mol。6.如权利要求书3所述的γ
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【专利技术属性】
技术研发人员：李和平，郑忠洋，严有为，
申请(专利权)人：华中科技大学，
类型：发明
国别省市：