一种复合集流体的制备设备和制备方法技术

本发明专利技术提供一种复合集流体的制备设备和制备方法，所述复合集流体的制备设备，包括真空蒸镀设备，在所述真空蒸镀设备的后方设置有水镀设备，所述真空蒸镀设备包括真空腔体，所述真空腔体内部设置有第一蒸镀架和第二蒸镀架，基材经过所述第一蒸镀架和第二蒸镀架进行真空蒸镀后，再进入所述水镀设备进行水电镀，得到复合集流体。其可以解决现有镀膜空间利用率低和镀膜效率低的问题。率低和镀膜效率低的问题。率低和镀膜效率低的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种复合集流体的制备设备和制备方法


[0001]本专利技术涉及薄膜蒸镀
，具体涉及一种复合集流体的制备设备和制备方法。

技术介绍

[0002]蒸镀是指将待蒸镀材料放置在坩埚等耐高温容器里，加热使其融化，从而使得待蒸镀材料气化，沉积在路过的薄膜上。其中，坩埚是实验室中使用的一种杯状器皿，用来对固体进行高温加热。蒸镀的物理过程包括：沉积材料蒸发或升华为气态粒子
→
气态粒子快速从蒸发源向基片表面输送
→
气态粒子附着在基片表面形核、长大成固体薄膜
→
薄膜原子重构或产生化学键合。
[0003]在实现本专利技术过程中，专利技术人发现现有技术中至少存在如下问题：现有的蒸镀机为平铺设计，占地空间大，空间利用率低。另外，当前的蒸镀设备需要完成一卷镀膜后，需要打开真空腔体，继续放卷，镀膜效率低下。

技术实现思路

[0004]有鉴于此，本专利技术实施例的目的在于提供一种复合集流体的制备设备和制备方法，以解决现有镀膜空间利用率低和镀膜效率低的问题。
[0005]为达上述目的，第本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种复合集流体的制备设备，其特征在于，包括真空蒸镀设备，在所述真空蒸镀设备的后方设置有水镀设备，所述真空蒸镀设备包括真空腔体，所述真空腔体内部设置有第一蒸镀架和第二蒸镀架，基材经过所述第一蒸镀架和第二蒸镀架进行真空蒸镀后，再进入所述水镀设备进行水电镀，得到复合集流体。2.根据权利要求1所述的复合集流体的制备设备，其特征在于，所述第一蒸镀架和所述第二蒸镀架间隔设置；所述第一蒸镀架包括：第一支撑柱、第二支撑柱、放卷辊、第一蒸发源、第一组蒸镀辊、第二蒸发源、第二组蒸镀辊和转向辊；所述放卷辊、第一蒸发源、第一组蒸镀辊、第二蒸发源、第二组蒸镀辊和转向辊从下到上依次设置在所述第一支撑柱和所述第二支撑柱的相对表面；所述第一组蒸镀辊包括第一蒸镀辊和第二蒸镀辊，所述第二组蒸镀辊包括第三蒸镀辊和第四蒸镀辊；所述第二蒸镀架包括：第三支撑柱、第四支撑柱、第三组蒸镀辊、第三蒸发源、第四组蒸镀辊、第四蒸发源和收卷辊；所述第三组蒸镀辊、所述第三蒸发源、所述第四组蒸镀辊、所述第四蒸发源和所述收卷辊从上到下依次设置在所述第三支撑柱和所述第四支撑柱的相对表面；所述第三组蒸镀辊包括第五蒸镀辊和第六蒸镀辊，所述第四组蒸镀辊包括第七蒸镀辊和第八蒸镀辊。3.根据权利要求2所述的复合集流体的制备设备，其特征在于，所述第一支撑柱、所述第二支撑柱、所述第三支撑柱和所述第四支撑柱的沿垂直于其长度方向的横截面的形状为方形、圆形或椭圆形；和/或，所述第一支撑柱和所述第三支撑柱沿水平方向对齐设置，所述第二支撑柱和所述第四支撑柱沿水平方向对齐设置。4.根据权利要求2所述的复合集流体的制备设备，其特征在于，所述第一蒸镀辊和所述第二蒸镀辊分别设置在所述第一蒸发源的宽度方向的两侧；所述第三蒸镀辊和所述第四蒸镀辊分别设置在所述第二蒸发源的宽度方向的两侧。5.根据权利要求4所述的复合集流体的制备设备，其特征在于，所述第一蒸镀辊的左侧竖直切线与所述放卷辊的左侧竖直切线重合；所述第二蒸镀辊的右侧竖直切线与所述第四蒸镀辊的右侧竖直切线重合。6.根据权利要求2所述的复合集流体的制备设备，其特征在于，所述第一蒸镀辊的竖直方向安装高度低于所述第二蒸镀辊；所述第三蒸镀辊的竖直方向安装高度高于所述第四蒸镀辊；所述转向辊、所述第五蒸镀辊和所述第六蒸镀辊的竖直方向安装高度相同；所述第七蒸镀辊的竖直方向安装高度低于所述第八蒸镀辊；所述放卷辊、所述第一组蒸镀辊、所述第二组蒸镀辊、所述转向辊、所述第三组蒸镀辊、所述第四组蒸镀辊和所述收卷辊相互平行；所述第一蒸发源和所述第二蒸发源相对于所述第一蒸镀辊的顶部切面或者所述第二蒸镀辊的底部切面对称设置；所述第三蒸发源和所述第四蒸发源相对于所述第七蒸镀辊的顶部切面或者所述第八蒸镀辊...

【专利技术属性】
技术研发人员：贾孟，
申请(专利权)人：昆山鑫美源电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：