量测系统、相干加扰器照射源及其方法技术方案

一种系统包括辐射源和相控阵列。相控阵列包括光学元件、波导和相位调制器。相控阵列产生辐射束。光学元件辐射辐射波。波导将辐射从辐射源引导到光学元件。相位调制器调整辐射波的相位，使得辐射波累积以形成束。束的非相干量基于相位的随机化。量基于相位的随机化。量基于相位的随机化。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】量测系统、相干加扰器照射源及其方法
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2019年9月27日提交的美国临时专利申请No.62/907,049的优先权，在此将其全文引入作为参考。


[0003]本公开涉及具有集成光学器件的量测系统，例如，在用于检查光刻工艺和晶片对准的量测系统中使用的具有片上相干加扰器的照射系统。

技术介绍

[0004]光刻设备是将所需图案施加到衬底上——通常施加到衬底的目标部分上的机器。光刻设备可用于例如集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，图案形成装置(可替换地称为掩模或掩模版)可用于产生要在IC的个体层上形成的电路图案。可将此图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一个或若干个裸片的一部分)上。图案的转移通常经由到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上的成像来进行。通常，单个衬底将包含连续图案化的相邻目标部分的网络。已知的光刻设备包括：所谓的步进器，其中通过一次将整个图案曝光到目标部分上来照射每个目标部分；以及所谓的扫描仪，其中通过在给定方向(“扫描”方向)上通过辐射束扫描本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种系统，包括：辐射源；以及相控阵列，被配置成生成辐射束，所述相控阵列包括：光学元件，被配置成辐射辐射波；波导，被配置成将辐射从所述辐射源引导到所述光学元件；以及相位调制器，被配置为调整所述辐射波的相位，使得所述辐射波累积以形成所述束，其中所述束的不相干量基于所述相位的随机化。2.根据权利要求1所述的系统，还包括：控制器，被配置成控制所述相位调制器以控制所述随机化，以便调整所述不相干量。3.根据权利要求1所述的系统，其中所述相控阵列被配置成在没有移动元件的情况下调整所述不相干量。4.根据权利要求1所述的系统，其中所述相控阵列还包括光子集成电路。5.根据权利要求1所述的系统，其中每个所述相位调制器包括电光相位调制器。6.根据权利要求1所述的系统，其中每个所述相位调制器包括热光调制器或压电光调制器。7.根据权利要求1所述的系统，其中所述辐射源被配置成生成宽带波长或者两个或更多个窄带波长。8.权利要求6所述的系统，其中：所述辐射源包括源元件；以及每个所述源元件被配置成生成所述宽...

【专利技术属性】
技术研发人员：I，
申请(专利权)人：ASML控股股份有限公司，
类型：发明
国别省市：