一种可变光阑及光刻机制造技术

本发明专利技术公开了一种可变光阑及光刻机。可变光阑包括：X向组件以及Y向组件；X向组件包括：X向滑轨；两个X向滑块，两个X向滑块沿X向间隔分布在X向滑轨上；X向刀片，设于X向滑块上；X向驱动装置，与X向滑块连接；Y向组件包括：Y向滑轨；两个Y向滑块，两个Y向滑块沿Y向间隔分布在Y向滑轨上；Y向刀片，设于Y向滑块上；Y向驱动装置，与Y向滑块连接；其中，两个X向滑块上的X向刀片与两个Y向滑块上的Y向刀片共同围成用于曝光的狭缝窗口。本发明专利技术还公开一种光刻机，包括上述可变光阑。本发明专利技术结构紧凑，且能增大刀片的运动行程，提高刀片运行平稳性。提高刀片运行平稳性。提高刀片运行平稳性。

【技术实现步骤摘要】
一种可变光阑及光刻机


[0001]本专利技术涉及半导体设备制造
，尤其涉及一种可变光阑及光刻机。

技术介绍

[0002]由于极大规模集成电路的发展，光刻技术从接触式曝光逐渐过渡到投影式曝光，伴随着光刻分辨率的逐渐提高，曝光系统的数值孔径也不断变大，这使得光刻投影物镜的制造变得越来越复杂。为了降低光刻投影物镜的设计难度，现代光刻机普遍采用步进扫描的方式来实现高分辨率下的大视场曝光。为了在扫描曝光过程中限定掩模面照明视场大小及其中心位置，避免成像光束对曝光视场以外的区域曝光，则需利用可变狭缝单元来作为可变光阑，限定曝光区域，光阑是指在光学系统中对光束起着限制作用的实体，泛指一些用于拦光的零件或组件。可变狭缝单元上设有可移动的刀片，通过多个刀片来挡光，多个刀片之间形成狭缝窗口，狭缝窗口可供光束通过，窗口之外的部分被刀片遮挡，不能透过光。
[0003]可变狭缝与掩模的同步扫描速度、扫描加速度大小直接影响扫描曝光的等待及曝光时间，进而影响步进扫描光刻机的曝光产率。步进扫描光刻机的用于形成狭缝的刀片包括扫描刀片(一般沿Y向运动扫描)和非扫描刀本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种可变光阑，其特征在于，包括：X向组件(10)以及Y向组件(20)；所述X向组件(10)包括：X向滑轨(11)；两个X向滑块(12)，两个所述X向滑块(12)沿X向间隔分布在所述X向滑轨(11)上；X向刀片(13)，设于所述X向滑块(12)上；以及X向驱动装置，与所述X向滑块(12)连接；所述Y向组件(20)包括：Y向滑轨(21)；两个Y向滑块(22)，两个所述Y向滑块(22)沿Y向间隔分布在所述Y向滑轨(21)上，Y向刀片(23)，设于所述Y向滑块(22)上；以及Y向驱动装置，与所述Y向滑块(22)连接；其中，两个所述X向滑块(12)上的所述X向刀片(13)与两个所述Y向滑块(22)上的所述Y向刀片(23)共同围成用于曝光的狭缝窗口(1)。2.根据权利要求1所述的可变光阑，其特征在于，所述X向组件(10)与所述Y向组件(20)中至少一个为扫描组件。3.根据权利要求1所述的可变光阑，其特征在于，所述X向驱动装置包括：磁轨(14)，所述磁轨(14)内设置有磁石定子(16)，所述磁石定子(16)包括相对设置于所述磁轨(14)内的第一磁石定子(161)及第二磁石定子(162)；无铁芯线圈动子(15)，至少部分设于所述第一磁石定子(161)与第二磁石定子(162)之间，所述无铁芯线圈动子(15)连接至所述X向滑块(12)，以驱动所述X向滑块(12)移动。4.根据权利要求3所述的可变光阑，其特征在于，所述磁轨(14)为U形，所述第一磁石定子(161)及所述第二磁石定子(162)分别设置于所述U形的两个相对的侧壁上。5.根据权利要求4所述的可变光阑，其特征在于，所述U形的底部开设有导向槽(141)，所述无铁芯线圈动子(15)伸入所述第一磁石定子(161)与所述第二磁石定子(162)之间的一端延伸至所述导向槽(141)中。6.根据权利要求1所述的可变光阑，其特征在于，所述X向滑轨(11)为气浮滑轨，所述X向滑块(12)为气浮滑块，所述X向滑块(12)的与所述X向滑轨(11)相对的侧壁上设有第一预紧磁铁(121)。7.根据权利要求4所述的可变光阑，其特征在于，所述X向滑轨(11)与所述X向滑块(12)均为L形，所述X向滑块(12)的L形内侧壁叠设于所述X向滑轨(11)的L形外侧壁上，所述X向滑块(12)的L形外侧壁的其中一个L形外侧壁与所述无铁芯线圈动子(15)连接，其中另一L形外侧壁与所述X向刀片(13)连接。8.根据权利要求7所述的可变光阑，其特征在于，所述X向与所述Y向形成第一平面(a)，所述磁轨(14)的U形侧...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄磊，李平欣，
申请(专利权)人：上海微电子装备集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：