带质量平衡补偿的可变光阑及光刻机制造技术

本发明专利技术公开了一种带质量平衡补偿的可变光阑及光刻机。可变光阑包括：基座；X向组件，设于基座上，X向组件包括两个X向刀片；Y向组件，设于基座上且与X向组件垂直，Y向组件包括两个Y向刀片，两个Y向刀片与两个X向刀片共同围成用于曝光的狭缝窗口；补偿组件，设于基座上与Y向组件相同的一侧，且与Y向组件平行设置，补偿组件用于向基座输出与Y向组件输出至基座的推力相反的反推力，以对Y向组件进行质量平衡补偿。该发明专利技术提供一种能对Y向组件进行质量平衡补偿且结构紧凑、质量平衡补偿效果较好的可变光阑及光刻机。光阑及光刻机。光阑及光刻机。

【技术实现步骤摘要】
带质量平衡补偿的可变光阑及光刻机


[0001]本专利技术涉及半导体设备制造
，尤其涉及一种带质量平衡补偿的可变光阑及光刻机。

技术介绍

[0002]在光刻机中，为了在扫描曝光过程中限定掩模面照明视场大小及其中心位置，避免成像光束对曝光视场以外的区域曝光，需要利用可变狭缝单元来作为可变光阑100，限定曝光区域，光阑是指在光学系统中对光束起着限制作用的实体，泛指一些用于拦光的零件或组件。可变光阑100上设有可移动的刀片，通过多个刀片来挡光，多个刀片之间形成狭缝窗口，狭缝窗口可供光束通过，窗口之外的部分被刀片遮挡，不能透过光。
[0003]如图1和图2所示，可变光阑100竖直安装固定在步进扫描光刻机顶部照明系统的基准板2上，可变光阑100上设置有能沿X向运动的刀片和能沿Y向运动的刀片，沿X向运动的刀片和沿Y向运动的刀片共同围成狭缝窗口。可变光阑100沿Z向的前方设置有聚光镜组3，后方设置有照明镜组4，聚光镜组3和照明镜组4均安装在基准板2上，光轴方向沿Z向。
[0004]Y向周期性高加速度运动会对可变光阑100的主体框架以及基准本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种带质量平衡补偿的可变光阑，其特征在于，包括：基座(1)；X向组件(10)，设于所述基座(1)上，所述X向组件(10)包括两个X向刀片(13)；Y向组件(20)，设于所述基座(1)上且与所述X向组件(10)垂直，所述Y向组件(20)包括两个Y向刀片(23)，两个所述Y向刀片(23)与两个所述X向刀片(13)共同围成用于曝光的狭缝窗口；补偿组件(30)，设于所述基座(1)上与所述Y向组件(20)相同的一侧，且与所述Y向组件(20)平行设置，所述补偿组件(30)用于向所述基座(1)输出与所述Y向组件(20)输出至所述基座(1)的推力相反的反推力，以对所述Y向组件(20)进行质量平衡补偿。2.根据权利要求1所述的带质量平衡补偿的可变光阑，其特征在于，所述Y向组件(20)包括：Y向滑轨(21)，设于所述基座(1)上；两个Y向滑块(22)，两个所述Y向滑块(22)沿Y向间隔分布在所述Y向滑轨(21)上，两个所述Y向刀片(23)分别设置在两个所述Y向滑块(22)上；以及Y向驱动装置，与所述Y向滑块(22)连接以驱动所述Y向滑块(22)沿所述Y向移动。3.根据权利要求2所述的带质量平衡补偿的可变光阑，其特征在于，所述补偿组件(30)包括：补偿组件滑轨(31)，设于所述基座(1)上，所述补偿组件滑轨(31)与所述Y向滑轨(21)平行设置；补偿组件滑块(32)，设于所述补偿组件滑轨(31)上；以及补偿组件驱动装置，与所述补偿组件滑块(32)连接以驱动所述补偿组件滑块(32)沿所述Y向移动。4.根据权利要求3所述的带质量平衡补偿的可变光阑，其特征在于，所述补偿组件滑轨(31)的结构与所述Y向滑轨(21)的结构相同；所述补偿组件滑块(32)与所述Y向滑块(22)的结构相同；所述补偿组件驱动装置的结构与所述Y向驱动装置的结构相同。5.根据权利要求1-4中任意一项所述的带质量平衡补偿的可变光阑，其特征在于，所述补偿组件(30)与所述Y向组件(20)设于所述基座(1)上同一侧，且分别设于两个互相垂直的侧壁上。6.根据权利要求2所述的带质量平衡补偿的可变光阑，其特征在于，所述Y向刀片(23...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄磊，
申请(专利权)人：上海微电子装备集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：