一种多工位单片式晶圆清洗机用气液分离装置制造方法及图纸

技术编号:33502680 阅读:17 留言:0更新日期:2022-05-19 01:12
本发明专利技术提供了一种多工位单片式晶圆清洗机用气液分离装置,包括:具分离腔的分离壳,分离壳内设将分离腔分隔为内腔与外腔的瓮城组件,瓮城组件用于引导外腔内部的废气废液流入内腔中,分离壳顶部形成连通内腔的排气管路,以供内腔内部的废气流通,排气管路内嵌至少一个喷头,喷头喷洒用于并合排气管路内部流通的废气中呈雾化状的废液微粒的反应液体。通过申请实现了快速地对废气废液进行气液分离,并且能够对废气中运动的呈雾化状的废液微粒发生并合反应,使呈雾化状的废液微粒溶于废液中以实现了呈雾化状的对废液微粒的回收,以便于呈雾化状的废液微粒充分排出,以此实现对呈雾化状的废液微粒的去除处理,避免了腔室出现结晶的现象。的现象。的现象。

【技术实现步骤摘要】
一种多工位单片式晶圆清洗机用气液分离装置


[0001]本专利技术涉及半导体设备
,尤其涉及一种多工位单片式晶圆清洗机用气液分离装置。

技术介绍

[0002]单片式晶圆清洗机在晶圆清洗的过程中会产生废气及废液,在现有技术中,通常采用抽取装置将单片式晶圆清洗机产生的废气与废液抽取并排入气液分离装置内,对废气与废液进行气液分离处理。诸如公开号为CN105161442A等现有技术中所揭示的气液分离装置,难以快速地对废气废液实现气液分离,并且难以对废气中运动的呈雾化状的废液微粒进行去除处理,导致呈雾化状的废液微粒难以充分排出,且气液分离装置的侧壁容易出现结晶现象。同时,如果不对废气与废液予以快速分离,废液本身也会因为温度下降等原因导致出现结晶体。结晶体不仅会堵塞气液分离装置,也会严重影响气液分离装置对后续废气与废液的分离效果。
[0003]有鉴于此,有必要对现有技术中的晶圆等半导体清洗过程中产生的废气废液进行气液分离的气液分离装置予以改进,以解决上述问题。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的在于揭示一种多工位单片式晶圆清洗机用气液分离装置,用于解决现有技术中的晶圆等半导体清洗过程中产生的废气废液进行气液分离的气液分离装置所存在的诸多缺陷,尤其是为了实现快速地对废气废液实现气液分离,并且能够对废气中运动的呈雾化状的废液微粒发生并合反应,使呈雾化状的废液微粒溶于废液中,以实现对呈雾化状的废液微粒的回收,以便于呈雾化状的废液微粒充分排出,从而实现对呈雾化状的废液微粒的去除处理,避免了腔室出现结晶的现象。
[0005]为实现上述目的,本专利技术提供了一种多工位单片式晶圆清洗机用气液分离装置,包括:具分离腔的分离壳,所述分离壳内设将所述分离腔分隔为内腔与外腔的瓮城组件,所述瓮城组件用于引导所述外腔内部的废气废液流入所述内腔中,所述分离壳顶部形成连通所述内腔的排气管路,以供所述内腔内部的废气流通,所述排气管路内嵌至少一个喷头,所述喷头喷洒用于并合所述排气管路内部流通的废气中呈雾化状的废液微粒的反应液体。
[0006]作为本专利技术的进一步改进,所述排气管路被构造出连通所述内腔的气流通道,以供所述内腔内部的废气流通,所述排气管路设置位于所述气流通道内部的喷头,所述喷头喷洒用于并合所述气流通道内流通的废气中呈雾化状的废液微粒的反应液体。
[0007]作为本专利技术的进一步改进,所述瓮城组件包括:第一围板,与所述第一围板对向设置的弧形围板,所述弧形围板面向所述第一围板延伸形成连接第一围板的第二围板与第三围板,所述第一围板、所述第二围板与所述第三围板底部均被构造出供液体流通的导液通孔,以引导所述外腔内部的废液流入所述内腔中,所述弧形围板底部被构造出排液通孔。
[0008]作为本专利技术的进一步改进,所述分离壳径向向外延伸形成用于抽取所述外腔内废
气与废液的气液混合管路,所述气液混合管被构造出供废气废液流通的第一通道,连通所述第一通道的气液抽取组件,所述第一通道的位置高度高于第二通道位置高度;所述气液抽取组件包括:沿所述气液混合管路的侧壁密集排布并与所述第一通道连通的若干抽气管与抽液管。
[0009]作为本专利技术的进一步改进,还包括:供液组件;所述供液组件包括:供液管,连接所述供液管自由端的分液器,纵向设置于所述内腔内部的插管,所述分液器设置连通所述喷头的第一导管,所述第一导管用于向所述喷头输送反应液体,所述分液器设置连通所述插管的第二导管,所述第二导管用于向所述插管输送反应液体。
[0010]作为本专利技术的进一步改进,还包括:同轴设置于所述分离壳内部的圆筒,所述分离壳与所述圆筒之间区域形成分离腔;所述分离腔被所述第一围板、第二围板与第三围板及弧形围板分隔形成内腔与外腔。
[0011]作为本专利技术的进一步改进,所述分离壳沿竖直方向内嵌对称设置于所述弧形围板两侧的隔板,所述隔板的高度尺寸与分离壳的高度尺寸一致;所述隔板与所述弧形围板将外腔部分区域隔离形成隔气腔,以隔绝所述外腔内部的废气,所述隔气腔连通所述排液通孔,以通过排液通孔引导内腔内部的废液流入隔气腔中。
[0012]作为本专利技术的进一步改进,所述瓮城组件还包括:沿所述分离壳的垂轴呈镜像对称布置的两组导气管,所述导气管分别连接第二围板与第三围板,所述导气管被构造出供废气流通的导气通道,以引导所述外腔内部的废气流入所述内腔中,以通过两组导气管均匀地对废气进行导流。
[0013]作为本专利技术的进一步改进,所述分离壳沿环形排布若干连通所述外腔的排废管路,以通过所述排废管路向所述外腔内注入废气与废液。
[0014]作为本专利技术的进一步改进,所述分离壳靠近所述隔板的一侧设置连通所述隔气腔的排液管,所述排液管的第二通道最低进液液位高度高于所述排液通孔与导液通孔的最高高度。
[0015]作为本专利技术的进一步改进,还包括:纵向设置并延伸至外腔内部的若干静电销。
[0016]与现有技术相比,本专利技术的有益效果是:外腔内的废气废液会通过瓮城组件流入内腔中,同时通过排气管路对内腔中的废气进行抽取,并控制喷头对排气管路抽取的废气喷洒出碳酸水雾滴,使碳酸水能够与废气中呈雾化状的废液微粒发生并合反应,从而使呈雾化状的废液微粒溶于废液中以实现了对呈雾化状的废液微粒的回收,以便于呈雾化状的废液微粒充分排出,实现对呈雾化状的废液微粒的去除处理,进而避免了分离腔出现结晶的现象。
附图说明
[0017]图1为本专利技术气液分离装置的立体图;图2为本专利技术气液分离装置另一个视角的立体图;图3为分离壳与圆筒的立体图;
图4为分离壳与排气管路的立体图;图5为分离壳与瓮城组件的立体图;图6为分离壳与弧形围板的立体图;图7为分离壳与排液管的剖视图。
具体实施方式
[0018]下面结合附图所示的各实施方式对本专利技术进行详细说明,但应当说明的是,这些实施方式并非对本专利技术的限制,本领域普通技术人员根据这些实施方式所作的功能、方法、或者结构上的等效变换或替代,均属于本专利技术的保护范围之内。
[0019]需要理解的是,在本申请中,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“轴向”、“径向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本技术方案和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本技术方案的限制。
[0020]尤其需要说明的是,在本发的实施例中,术语
ꢀ“
竖直”是指与地平线或水平面的垂直方向。术语
ꢀ“
纵向”等同于术语
ꢀ“
竖直”。术语
ꢀ“
横向”是指与地平线或水平面的平行方向。术语“围设”是指在壳体内部形成包围设置。术语“垂轴”是指附图7中轴线A。
[0021]请参图1至图7所揭示的本专利技术一种多工位单片式晶圆清洗机用气液分离装置的一种具体实施方式。<本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种多工位单片式晶圆清洗机用气液分离装置,其特征在于,包括:具分离腔的分离壳,所述分离壳内设将所述分离腔分隔为内腔与外腔的瓮城组件,所述瓮城组件用于引导所述外腔内部的废气废液流入所述内腔中,所述分离壳顶部形成连通所述内腔的排气管路,以供所述内腔内部的废气流通,所述排气管路内嵌至少一个喷头,所述喷头喷洒用于并合所述排气管路内部流通的废气中呈雾化状的废液微粒的反应液体。2.根据权利要求1所述的多工位单片式晶圆清洗机用气液分离装置,其特征在于,所述排气管路被构造出连通所述内腔的气流通道,以供所述内腔内部的废气流通,所述排气管路设置位于所述气流通道内部的喷头,所述喷头喷洒用于并合所述气流通道内流通的废气中呈雾化状的废液微粒的反应液体。3.根据权利要求1所述的多工位单片式晶圆清洗机用气液分离装置,其特征在于,所述瓮城组件包括:第一围板,与所述第一围板对向设置的弧形围板,所述弧形围板面向所述第一围板延伸形成连接第一围板的第二围板与第三围板,导气管所述第一围板、所述第二围板与所述第三围板底部均被构造出供液体流通的导液通孔,以引导所述外腔内部的废液流入所述内腔中,所述弧形围板底部被构造出排液通孔。4.根据权利要求1所述的多工位单片式晶圆清洗机用气液分离装置,其特征在于,所述分离壳径向向外延伸形成用于抽取所述外腔内废气与废液的气液混合管路,所述气液混合管被构造出供废气废液流通的第一通道,连通所述第一通道的气液抽取组件,所述第一通道的位置高度高于第二通道位置高度;所述气液抽取组件包括:沿所述气液混合管路的侧壁密集排布并与所述第一通道连通的若干抽气管与抽液管。5.根据权利要求2所述的多工位单片式晶圆清洗机用气液分离装置,其特征在于,还包括:供液组件;所述供液组件包括:供液管,连接所述供液管自由端的分液器,纵向设置于所述内腔内部的...

【专利技术属性】
技术研发人员:顾雪平时新宇
申请(专利权)人:智程半导体设备科技昆山有限公司
类型:发明
国别省市:

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