【技术实现步骤摘要】
一种光刻机能量控制通讯故障的维护用的防护装置
[0001]本技术涉及光刻机维护
,具体为一种光刻机能量控制通讯故障的维护用的防护装置。
技术介绍
[0002]光刻机,又名掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等,是制造芯片的核心装备,它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上,能量控制器是指控制最终照射到硅片上的能量,曝光不足或过足都会严重影响成像质量,且内部电子元件非常精密和脆弱,需要经常进行维护,现有的光刻机能力控制通讯故障在维护时,大多没有设置专门的维护装置,无法引起员工的注意,容易导致人员误入发生碰撞机器的情况,不利于维护人员进行故障维护,进而影响维护进度,为此提出一种光刻机能量控制通讯故障的维护用的防护装置解决上述问题。
技术实现思路
[0003]本技术的目的在于提供一种光刻机能量控制通讯故障的维护用的防护装置,具备便于安装的优点,解决了现有的光刻机能力控制通讯故障在维护时,大多没有设置专门的维护装置,无法引起员工的注意,容易导致人员误入发生碰撞机器的情况,不利于维护人员 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种光刻机能量控制通讯故障的维护用的防护装置,包括光刻机本体(1),其特征在于:所述光刻机本体(1)的两侧均设置有稳定柱(2),所述稳定柱(2)内腔的底部通过轴承活动连接有活动柱(3),所述稳定柱(2)正面的下端固定连接有固定板(4),所述固定板(4)的顶部固定连接有固定柱(5),所述固定柱(5)的顶部开设有活动槽(6),所述固定柱(5)顶部的四周均固定连接有夹持条(7),所述活动槽(6)的内腔活动连接有支撑柱(8),所述夹持条(7)与支撑柱(8)的表面接触,所述固定柱(5)表面的上端螺纹连接有螺纹套(9),所述支撑柱(8)的顶部延伸至螺纹套(9)的外部。2.根据权利要求1所述的一种光刻机能量控制通讯故障的维护用的防护装置,其特征在于:所述螺纹套(9)的表面设置有防护网(10),且防护网(10)的另一侧与稳定柱(2)固定连接。3.根据权利要求1所述的一种光刻机能量控制通讯故障的维护用的防护装置,其特征在于:所述活动柱(3)的顶部贯穿至稳定柱(2)的外部并通过轴承与稳定柱(2)活动连接,所述活动柱(3)的顶部固定连接有转盘(11)。4...
【专利技术属性】
技术研发人员:蒋芳芳,蒋晖晖,
申请(专利权)人:南京尹特利微电子科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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