用于异质结电池的镀膜设备制造技术

本实用新型专利技术涉及一种用于异质结电池的镀膜设备,其中，包括形成有反应腔的壳体、设于反应腔内用于承载并输送半成品电池的输送单元、用于承载靶材的靶材承载件，所述反应腔包括依次排列且连通的第一反应腔、第二反应腔，所述输送单元贯穿第一反应腔和第二反应腔，并且在第一反应腔内，靶材承载件位于所述输送单元的下方，在第二反应腔内，所述靶材承载件位于所述输送单元的上方。通过上述的镀膜设备，实现不同透明导电层的制备顺序，进而确保掺杂非晶硅层的质量，同时，两层膜在不同反应腔内形成，可以根据需求制备不同性能的透明导电层，进而优化透明导电层的制备工艺。优化透明导电层的制备工艺。优化透明导电层的制备工艺。

【技术实现步骤摘要】
用于异质结电池的镀膜设备


[0001]本技术涉及光伏应用
，尤其涉及一种用于异质结电池的镀膜设备。

技术介绍

[0002]异质结电池是目前比较流行的一种高效电池，异质结电池由于其独特的双面对称结构及非晶硅层优秀的钝化效果，具备着转换效率高、无光致衰减、温度特性良好、制造工艺流程较短等多种天然优势，因此，异质结电池具有较大的市场潜力。
[0003]常规的异质结电池的透明导电层具有导电性和透光性，尤其是背光面的透明导电层需要分别兼顾和非晶硅、金属电极的接触。透明导电层一般采用磁控溅射的方式进行镀膜，在沉积的过程中，对内层非晶硅层产生损伤，不适当的镀膜工艺及镀膜顺序会影响非晶硅层的钝化效果，进而影响电池的效率。

技术实现思路

[0004]本技术提供一种新的用于异质结电池的镀膜设备来解决上述问题。
[0005]为了实现上述目的，本技术提供的技术方案如下：
[0006]一种用于异质结电池的镀膜设备，包括形成有反应腔的壳体、设于反应腔内用于承载并输送半成品电池的输送单元、用于承载靶材的靶材承载件，所述反应腔包括依次排列且连通的第一反应腔、第二反应腔，所述输送单元贯穿第一反应腔和第二反应腔，并且在第一反应腔内，靶材承载件位于所述输送单元的下方，在第二反应腔内，所述靶材承载件位于所述输送单元的上方。
[0007]进一步地，所述反应腔还包括位于第一反应腔和第二反应腔之间的第三反应腔，在第三反应腔内，所述靶材承载件位于所述输送单元的下方。
[0008]进一步地，所述反应腔还包括依次排列设置于第二反应腔后侧的第三反应腔和第四反应腔，在第三反应腔内，所述靶材承载件位于所述输送单元的下方；在第四反应腔内，所述靶材承载件位于所述输送单元的上方。
[0009]进一步地，相邻两个反应腔之间设有隔离腔，相邻的隔离腔和反应腔之间相互连通。
[0010]进一步地，在输送方向上，相邻反应腔和隔离腔之间相连通的位置形成输送通道，所述输送单元穿设于所述输送通道内。
[0011]进一步地，还包括连通反应腔的气体管路，所述气体管路具有输送气体的出气口，所述出气口相邻所述靶材承载件设置。
[0012]进一步地，还包括位于反应腔内的溅射电源和磁控管，所述溅射电源和磁控管相邻所述靶材承载件设置，磁控管位于靶材承载件远离输送单元方向的一侧。
[0013]进一步地，还包括连通所述反应腔的真空系统。
[0014]进一步地，所述输送单元包括用于承载半成品电池的载板，所述载板上设有若干个镂空槽、形成于镂空槽周围以支撑半成品电池的台阶。
[0015]进一步地，所述台阶的宽度在0.5
‑
1mm之间。
[0016]与现有技术相比，本技术的有益效果在于：本技术的镀膜设备通过反应腔内靶材位置的不同，可以在不用翻片的情况下先制备异质结电池背光面的透明导电层，再制备受光面的透明导电层，不会对背光面的掺杂非晶硅层造成损伤，同时两层膜在不同反应腔内形成，可以根据需求制备不同的性能的透明导电层，进一步优化透明导电层的制备工艺。
附图说明
[0017]图1为本技术用于异质结电池的镀膜设备一个实施例的结构示意图。
[0018]图2为本技术用于异质结电池的镀膜设备另一个实施例的结构示意图。
[0019]图3为本技术用于异质结电池的镀膜设备另一个实施例的结构示意图。
[0020]10
‑
反应腔，11
‑
第一反应腔，12
‑
第二反应腔，13
‑
第三反应腔，14
‑
第四反应腔，15
‑
隔离腔，16
‑
输送通道，21
‑
载板，22
‑
镂空槽，23
‑
台阶，31
‑
靶材，40
‑
磁控管,50
‑
半成品电池。
具体实施方式
[0021]为了使本领域的技术人员更好地理解本技术中的技术方案，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本技术保护的范围。
[0022]一种用于异质结电池的镀膜设备，通过磁控溅射的方法来制备异质结电池的透明导电层。所述镀膜设备包括形成有反应腔10的壳体、设于反应腔10内用于承载并输送半成品电池50的输送单元(未图示)、用于承载靶材31的靶材承载件(未图示)，所述反应腔10包括依次排列且连通的第一反应腔11、第二反应腔12，并且在第一反应腔11内，靶材承载件位于所述输送单元的下方，在第二反应腔12内，所述靶材承载件位于所述输送单元的上方。
[0023]本技术的镀膜设备，可先制备半成品电池50背光面的透明导电层，再制备受光面的透明导电层，避免对背光面的掺杂非晶硅层造成损伤，同时两层膜在不同反应腔10内形成，可以根据需求制备不同性能的透明导电层，优化透明导电层的制备工艺。
[0024]本技术中的半成品电池50是指硅基片的两侧表面分别制备了本征非晶硅层和掺杂非晶硅层的半成品。
[0025]具体地，所述镀膜设备一般还包括上料腔(未图示)、缓存腔(未图示)等，半成品电池50通过上料腔进入缓存腔进行预处理后进入反应腔10，在反应腔10内通过磁控溅射的技术制备透明导电层。磁控溅射是电离产生出氩离子，氩离子在电场作用下加速并以高能量轰击靶材表面，使靶材发生溅射，其中，中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜。
[0026]靶材31通过靶材承载件安装在在反应腔10内，靶材31被轰击的一面朝向输送单元设置，根据具体需求在反应腔10内安装符合要求的靶材31。
[0027]进一步地，所述输送单元贯穿第一反应腔11和第二反应腔12，用于将半成品电池50由一个反应腔10输送至另一个反应腔10内，本实施例中，所述输送单元包括用于承载半成品电池50的载板21，所述载板21上设有若干个镂空槽22、形成于镂空槽22周围以支撑半
成品电池50的台阶23，镂空槽22的位置放置半成品电池50，电池的边缘支撑在台阶23上，通过镂空槽22制备半成品电池50背光面的透明导电层。
[0028]优选地，所述台阶23的宽度在0.5
‑
1mm之间，合适的宽度方便支撑半成品电池50，又不影响背面镀膜的面积。
[0029]进一步地，第一反应腔11和第二反应腔12分别用来制备半成品电池50不同的膜层，本实施例中，在第一反应腔11内，所述靶材31位于输送单元的下方，用来制备半成品电池50朝下的透明导电层，然后输送单元输送半成片电池至第二反应腔12内，在第二反应腔12内，所述靶材31位于输送单元的上方，用来制备半成本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于异质结电池的镀膜设备，其特征在于：包括形成有反应腔的壳体、设于反应腔内用于承载并输送半成品电池的输送单元、用于承载靶材的靶材承载件，所述反应腔包括依次排列且连通的第一反应腔、第二反应腔，所述输送单元贯穿第一反应腔和第二反应腔，并且在第一反应腔内，靶材承载件位于所述输送单元的下方，在第二反应腔内，所述靶材承载件位于所述输送单元的上方。2.如权利要求1所述的用于异质结电池的镀膜设备，其特征在于：所述反应腔还包括位于第一反应腔和第二反应腔之间的第三反应腔，在第三反应腔内，所述靶材承载件位于所述输送单元的下方。3.如权利要求1所述的用于异质结电池的镀膜设备，其特征在于：所述反应腔还包括依次排列设置于第二反应腔后侧的第三反应腔和第四反应腔，在第三反应腔内，所述靶材承载件位于所述输送单元的下方；在第四反应腔内，所述靶材承载件位于所述输送单元的上方。4.如权利要求1至3任一项所述的用于异质结电池的镀膜设备，其特征在于：相邻两个反应腔之间设有隔离腔，相邻的隔离腔和反应腔之间相互连通。5.如权...

【专利技术属性】
技术研发人员：姚铮，崔巍，吴坚，蒋方丹，
申请(专利权)人：嘉兴阿特斯技术研究院有限公司，
类型：新型
国别省市：