镀膜设备制造技术

本实用新型专利技术涉及一种镀膜设备，包括依次排列的预热腔、工艺腔、用以输送镀膜基底的载板，载板包括至少两个前后相邻排列的前载板、后载板，还包括设在前述前载板后端部的遮挡结构，遮挡结构包括收起的第一状态和展开的第二状态，在预热腔和工艺腔之间设有可使遮挡结构由第一状态转为第二状态的转换结构，所述后载板前端和工艺腔远离预热腔的出口处配合设有用以将遮挡结构由第二状态恢复至第一状态的解除结构。当载板在工艺腔内处于不连续的状态时，通过上述结构将遮挡结构展开第二状态，遮挡结构可以遮挡住两个载板之间的缝隙，出口处再恢复至第一状态，避免由于靶材互镀导致的浪费，而且确保镀膜的品质，提升产品的性能与良率。率。率。

【技术实现步骤摘要】
镀膜设备


[0001]本技术涉及光伏应用
，尤其涉及一种镀膜设备。

技术介绍

[0002]PVD镀膜为物理过程，因其沉积速率快、制备膜层均匀、对靶材和基底要求低等优点在太阳电池、液晶显示等半导体行业广泛应用。尤其在HJT电池制备过程中，电池两面需要制备上TCO薄膜，PVD设备为了节约设备制造成本及减少占地面积多采用上下同时镀膜的方式进行薄膜制备。
[0003]在实际生产中，上下两面同时镀膜的过程为：多个载板载着电池依次输送至镀膜设备的工艺腔内进行薄膜制备，这种镀膜方法在提升产能的同时也暴露初一些不容忽视的问题：若输送结构发生异常导致载板呈非连续进入工艺腔时，也就是两个载板之间会产生缝隙，容易出现上下靶材通过缝隙相互镀膜的现象，在靶材表面局部区域沉积上TCO薄膜后，靶材表面的高度和致密度不同，在后续生产过程中靶材表面易出现结瘤现象，进而导致靶材无法继续使用；而且，当载板非连续进入腔室时，在载板间缝隙处气流扰动会影响载板边缘基底表面镀膜效果，以M10硅片为例，载板不连续造成的不良比例高达20％，这将直接影响产品的质量及可靠性，靶材的浪本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种镀膜设备，包括依次排列的预热腔、工艺腔、可依次穿过预热腔和工艺腔用以输送镀膜基底的载板，所述载板包括至少两个前后相邻排列的前载板、后载板，其特征在于：还包括设在前述前载板后端部的遮挡结构，所述遮挡结构包括收起的第一状态和展开的第二状态，在所述预热腔和工艺腔之间设有可使遮挡结构由第一状态转为第二状态的转换结构，所述后载板前端和工艺腔远离预热腔的出口处配合设有用以将遮挡结构由第二状态恢复至第一状态的解除结构。2.如权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于：所述解除结构包括设在所述后载板前端的挂钩件，在所述遮挡结构处于第二状态下，当后载板运动至转换结构位置处时，所述前载板上的遮挡结构后端移动至所述后载板上的挂钩件内。3.如权利要求2所述的镀膜设备，其特征在于：所述遮挡结构包括固定在前载板后端的遮挡帘、遮挡帘后端的底杆，在竖直方向上，所述底杆的顶端同时高于前载板和转换结构的下端设置。4.如权利要求3所述的镀膜设备，其特征在于：所述挂钩件包括固定在后载板前端的连接臂、自连接臂的端部向上突伸的挂钩，所述挂钩具有向后向上延伸的导引面，所述导引面的最高点高于所述转换结构的下端，所述挂钩和所述连接臂之间形成可容纳前侧相邻前载板上底杆的容纳槽。5.如权利要求4所述的镀膜设备，其特征在于：所述挂钩具有连接导引面和连接臂上表面的抵持面，抵持面和连接臂上表面之间的夹角不大于90度。6.如权利要求4所述的镀膜设备，其特征在于：所述预热腔和工艺腔之间设有搁板，隔板位于载板的上方，所述转换结构包括设在搁板上可上下滑动的滑块，滑块的下...

【专利技术属性】
技术研发人员：钟观发，吴坚，蒋方丹，
申请(专利权)人：嘉兴阿特斯技术研究院有限公司，
类型：新型
国别省市：