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本实用新型涉及一种镀膜设备，包括依次排列的预热腔、工艺腔、用以输送镀膜基底的载板，载板包括至少两个前后相邻排列的前载板、后载板，还包括设在前述前载板后端部的遮挡结构，遮挡结构包括收起的第一状态和展开的第二状态，在预热腔和工艺腔之间设有可使遮...
该专利属于嘉兴阿特斯技术研究院有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过嘉兴阿特斯技术研究院有限公司授权不得商用。

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