一种磷化铟加工用输送系统技术方案

本发明专利技术属于输送系统技术领域，具体涉及一种磷化铟加工用输送系统，本磷化铟加工用输送系统包括：上料机构、上料输送机构、转运机构、清理机构和下料输送机构；其中上料机构在磷化铟晶圆放置处吸附单片磷化铟晶圆送至上料输送机构上，转运机构在清理机构上做圆周运动，并吸附相应磷化铟晶圆转运至下料输送机构；以及清理机构对转动的转运机构的表面进行清洁、润滑；本发明专利技术通过设置上料机构将磷化铟晶圆搬运到上料输送机构进行输送、加工，并由转运机构将在上料输送机构加工完成的磷化铟晶圆转运到下料输送机构进行最终下料，同时通过清理机构不断对转运机构进行清洁、润滑，能够避免脏污、不够润滑影响转运机构的输送效率，保证转运持续进行。转运持续进行。转运持续进行。

【技术实现步骤摘要】
一种磷化铟加工用输送系统


[0001]本专利技术属于输送系统
，具体涉及一种磷化铟加工用输送系统。

技术介绍

[0002]磷化铟晶圆需要在输送过程进行加工处理，经过多道输送才能够完成最终出料。
[0003]由于输送过程存在一个转运工序，输送设备需要不断进行旋转，而造成输送设备表面脏污或不够润滑，从而影响输送效率。
[0004]因此，亟需开发一种新的磷化铟加工用输送系统，以解决上述问题。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的是提供一种磷化铟加工用输送系统。
[0006]为了解决上述技术问题，本专利技术提供了一种磷化铟加工用输送系统，其包括：上料机构、上料输送机构、转运机构、清理机构和下料输送机构；其中所述上料输送机构设置上料输入区域，上料输出区域，所述上料机构、转运机构分别位于上料输入区域，上料输出区域处；所述转运机构活动设置在清理机构上，所述下料输送机构位于转运机构的行进路线上；所述上料机构在磷化铟晶圆放置处吸附单片磷化铟晶圆送至上料输送机构上，以使相应磷化铟晶圆沿所述上料输送机构输送至转运机构下方，即所述转运机构在清理机构上做圆周运动，并在所述上料输送机构吸附相应磷化铟晶圆转运至下料输送机构；以及所述清理机构对转动的转运机构的表面进行清洁、润滑。
[0007]进一步，所述上料机构包括：吊装在上料输送机构上方的两个第一X轴滑轨组件、第一Y轴滑轨组件、第一Z轴滑轨组件、上料夹爪组件和上料吸盘组件；两个所述第一X轴滑轨组件平行设置，且两个所述第一X轴滑轨组件与上料输送机构相垂直；所述第一Y轴滑轨组件活动架设在两个第一X轴滑轨组件之间，所述第一Y轴滑轨组件沿上料输送机构的输送方向设置；所述第一Z轴滑轨组件纵向活动安装在第一Y轴滑轨组件上，所述上料夹爪组件固定在第一Z轴滑轨组件的底部，所述上料吸盘组件位于上料夹爪组件的夹持部；所述第一Y轴滑轨组件在两个第一X轴滑轨组件上移动，所述第一Z轴滑轨组件在第一Y轴滑轨组件上移动，所述上料夹爪组件在第一Z轴滑轨组件上移动，以带动所述上料吸盘组件移动至磷化铟晶圆放置处吸附单片磷化铟晶圆送至上料输送机构。
[0008]进一步，所述上料夹爪组件包括：上料柱和若干上料夹块；所述上料柱底部周向设置若干滑动槽，各所述上料夹块活动限位安装在对应滑动槽内，即各所述上料夹块在滑动槽内移动至相应位置，并通过相应螺栓锁住。
[0009]进一步，所述上料吸盘组件包括：若干上料吸附盘；各所述上料吸附盘固定在对应上料夹块的底部，即通过相应上料吸附盘吸附磷化铟晶圆。
[0010]进一步，所述上料输送机构包括：上料输送带；所述上料输送带将上料机构在上料输入区域投放的磷化铟晶圆输送至下料输出区域，以使所述转运机构将磷化铟晶圆转运至下料输送机构。
[0011]进一步，所述转运机构包括：旋转轴、旋转座、三轴机械手和下料吸盘组件；所述旋转轴穿过清理机构并活动安装在加工平台上，且所述旋转轴的底部与旋转电机连接；所述旋转座安装在旋转轴的顶部，所述三轴机械手安装在旋转座上，所述下料吸盘组件位于三轴机械手的夹持部；所述旋转轴在旋转电机驱动下旋转，以带动所述旋转座、三轴机械手做圆周运动，即转动至所述上料输送机构正上方时，所述三轴机械手带动下料吸盘组件朝向上料输送机构运动，以使所述下料吸盘组件吸附相应磷化铟晶圆并抬起；直至转动至所述下料输送机构正上方时，所述三轴机械手带动下料吸盘组件朝向下料输送机构运动，以使所述下料吸盘组件将吸附的磷化铟晶圆送至下料输送机构。
[0012]进一步，所述清理机构包括：清理圆台、移动管、吹龙、蝶形气囊和弧形板；所述清理圆台的圆心位置开设有圆形槽，所述旋转轴穿过圆形槽；所述旋转轴与圆形槽的槽壁之间形成环形通道，所述移动管位于环形通道内且与圆形槽的槽壁活动连接；所述弧形板位于清理圆台上且与清理圆台同圆心设置；所述移动管的顶部设置有吹龙、蝶形气囊，所述吹龙朝向旋转轴设置，所述蝶形气囊与吹龙反向设置，所述移动管在环形通道内转动，即当所述蝶形气囊未接触弧形板时，所述吹龙处于收缩状态，所述吹龙的外侧面抵于旋转轴表面，以对所述旋转轴的表面进行清洁；当所述蝶形气囊接触弧形板并抵住弧形板继续运动时，所述蝶形气囊向吹龙中鼓入空气以使吹龙展开，以使所述吹龙的内侧面抵于旋转轴表面，且所述吹龙的内侧面开设若干排液孔，所述蝶形气囊中储存有清洗液；所述蝶形气囊中清洗液在气压作用下通过相应排液孔注于旋转轴表面。
[0013]进一步，所述圆形槽的槽底且沿环形通道均匀排列若干收集孔，所述移动管呈棱柱形，且所述移动管的棱尖部与旋转轴相接触，以刮除所述旋转轴表面的混合液。
[0014]进一步，所述清理圆台上开设有弧形槽，所述弧形槽位于圆形槽与弧形板之间，且所述弧形槽的一端与圆形槽之间的距离小于弧形槽的另一端与圆形槽之间的距离；所述弧形槽内设置有移动块，所述移动块与弧形槽的槽壁活动连接，所述弧形板的底部沿周向延伸形成挡块，所述移动块穿有一根挤压杆，所述挤压杆的一端朝向移动管设置，所述挤压杆的另一端朝向挡块设置；所述移动块在弧形槽内移动，以使所述挤压杆的一端抵住挡块，所述挤压杆的另一端抵住移动管，且在所述移动管内存储有润滑液，所述移动管朝向旋转轴设置有通油孔，即所述挤压杆抵压移动管使润滑液从通油孔喷涂在旋转轴上，以对旋转轴表面进行润滑。
[0015]进一步，所述下料输送机构包括：下料输送带；所述下料输送带将磷化铟晶圆输送至相应位置处。
[0016]本专利技术的有益效果是，本专利技术通过设置上料机构将磷化铟晶圆搬运到上料输送机构进行输送、加工，并由转运机构将在上料输送机构加工完成的磷化铟晶圆转运到下料输送机构进行最终下料，同时通过清理机构不断对转运机构进行清洁、润滑，能够避免脏污、不够润滑影响转运机构的输送效率，保证转运持续进行。
[0017]本专利技术的其他特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本专利技术而了解。
[0018]为使本专利技术的上述目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合所附附图，作详细说明如下。
附图说明
[0019]为了更清楚地说明本专利技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本专利技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0020]图1是本专利技术的磷化铟加工用输送系统的结构图；图2是本专利技术的上料机构的结构图；图3是本专利技术的上料夹爪组件的的结构图；图4是本专利技术的转运机构的结构图；图5是本专利技术的清理机构的结构图；图6是本专利技术的清理机构的俯视图。
[0021]图中：1、上料机构；11、第一X轴滑轨组件；12、第一Y轴滑轨组件；13、第一Z轴滑轨组件；14、上料夹爪组件；141、上料柱；142、上料夹块；15、上料吸盘组件；2、上料输送机构；3、转运机构；31、旋转轴；32、旋转座；33、三轴机械手；34、下料本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种磷化铟加工用输送系统，其特征在于，包括：上料机构、上料输送机构、转运机构、清理机构和下料输送机构；其中所述上料输送机构设置上料输入区域，上料输出区域，所述上料机构、转运机构分别位于上料输入区域，上料输出区域处；所述转运机构活动设置在清理机构上，所述下料输送机构位于转运机构的行进路线上；所述上料机构在磷化铟晶圆放置处吸附单片磷化铟晶圆送至上料输送机构上，以使相应磷化铟晶圆沿所述上料输送机构输送至转运机构下方，即所述转运机构在清理机构上做圆周运动，并在所述上料输送机构吸附相应磷化铟晶圆转运至下料输送机构；以及所述清理机构对转动的转运机构的表面进行清洁、润滑。2.如权利要求1所述的磷化铟加工用输送系统，其特征在于，所述上料机构包括：吊装在上料输送机构上方的两个第一X轴滑轨组件、第一Y轴滑轨组件、第一Z轴滑轨组件、上料夹爪组件和上料吸盘组件；两个所述第一X轴滑轨组件平行设置，且两个所述第一X轴滑轨组件与上料输送机构相垂直；所述第一Y轴滑轨组件活动架设在两个第一X轴滑轨组件之间，所述第一Y轴滑轨组件沿上料输送机构的输送方向设置；所述第一Z轴滑轨组件纵向活动安装在第一Y轴滑轨组件上，所述上料夹爪组件固定在第一Z轴滑轨组件的底部，所述上料吸盘组件位于上料夹爪组件的夹持部；所述第一Y轴滑轨组件在两个第一X轴滑轨组件上移动，所述第一Z轴滑轨组件在第一Y轴滑轨组件上移动，所述上料夹爪组件在第一Z轴滑轨组件上移动，以带动所述上料吸盘组件移动至磷化铟晶圆放置处吸附单片磷化铟晶圆送至上料输送机构。3.如权利要求2所述的磷化铟加工用输送系统，其特征在于，所述上料夹爪组件包括：上料柱和若干上料夹块；所述上料柱底部周向设置若干滑动槽，各所述上料夹块活动限位安装在对应滑动槽内，即各所述上料夹块在滑动槽内移动至相应位置，并通过相应螺栓锁住。4.如权利要求3所述的磷化铟加工用输送系统，其特征在于，所述上料吸盘组件包括：若干上料吸附盘；各所述上料吸附盘固定在对应上料夹块的底部，即通过相应上料吸附盘吸附磷化铟晶圆。5.如权利要求1所述的磷化铟加工用输送系统，其特征在于，所述上料输送机构包括：上料输送带；所述上料输送带将上料机构在上料输入区域投放的磷化铟晶圆输送至下料输出区域，以使所述转运机构将磷化铟晶圆转运至下料输送机构。6.如权利要求1所述的磷化铟加工用输送系统，其特征在于，所述转运机构包括：旋转轴、旋转座、三轴机械手和下料吸盘组件；所述旋转轴穿过清理机构并活动安装在加工平台上，且所述旋转轴的底部与旋转电机
连接；所述旋转座安装在旋转轴的顶部，...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈国祥，张明月，潘功寰，顾正伟，
申请(专利权)人：苏州摘玥兴电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：