【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】多级功率放大器的效率提高
技术介绍
[0001]半导体行业继续考虑对具有较低成本、尺寸和功耗的集成电路(IC)器件的需求,特别是对单片微波集成电路(MMIC)器件的需求。MMIC器件包括设计用于在微波频率上(例如,在300MHz到300GHz频率范围中)工作的IC。可以依赖MMIC器件进行混频、功率放大、低噪声放大和高频切换操作等。
[0002]功率放大器的效率受各种因素驱动,这些因素例如是使用的半导体材料的固有能力、放大器的类别和拓扑结构、放大器的谐波调谐,等等。一些功率放大器依赖放大器的若干级联的级来实现期望的增益水平和射频(RF)功率。在级联的各级中,功率放大器的一个或多个驱动级可以向功率放大器的输出级提供输入信号。
技术实现思路
[0003]本文描述了多级功率放大器的效率提高。在一个示例中,功率放大器包括:驱动放大器,使用第一半导体制造工艺形成在第一半导体裸片(die)上;输出放大器,使用第二半导体制造工艺形成在第二半导体裸片上;以及级间匹配网络,形成在驱动放大器与输出放大器之间。在一种情况下,第一半导体制造工艺是较低电压工艺,而第二半导体制造工艺是较高电压工艺。将两个不同的制造工艺和不同的偏压用于第一半导体裸片和第二半导体裸片产生许多优点。优点包括简化功率放大器中的一个或多个级间匹配网络、增大射频带宽、提高功率放大器各级间的阵容效率(line
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up efficiency)、提高整体效率和降低成本。
[0004]根据实施例的一个方面,可以基于第一半导体制造工艺和第二半导体制造工艺的选 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种功率放大器装置,包括:驱动放大器,使用第一半导体制造工艺形成在第一半导体裸片上;输出放大器,使用第二半导体制造工艺形成在第二半导体裸片上;以及级间匹配网络,形成在所述第一半导体裸片上的驱动放大器与所述第二半导体裸片上的输出放大器之间。2.根据权利要求1所述的功率放大器装置,其中,所述驱动放大器与所述输出放大器之间的阻抗转换比基于所述第一半导体制造工艺和所述第二半导体制造工艺的选择而减小以提高所述功率放大器装置的效率。3.根据权利要求2所述的功率放大器装置,其中,与将所述第二半导体制造工艺用于所述驱动放大器相比,使用所述第一半导体制造工艺形成的驱动放大器的栅极宽度增大以减小所述阻抗转换比。4.根据权利要求1到3中任一项所述的功率放大器装置,其中,所述驱动放大器的功率裕度基于所述第一半导体制造工艺和所述第二半导体制造工艺的选择而减小以提高所述功率放大器装置的效率。5.根据权利要求1到4中任一项所述的功率放大器装置,其中:所述第一半导体制造工艺包括第一III
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V族半导体技术工艺;并且所述第二半导体制造工艺包括第二III
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V族半导体技术工艺。6.根据权利要求1到5中任一项所述的功率放大器装置,其中:所述第一半导体制造工艺包括砷化镓(GaAs)假晶高电子迁移率晶体管(PHEMT)半导体制造工艺、砷化镓(GaAs)异质结双极晶体管(HBT)半导体制造工艺或互补金属氧化物半导体(CMOS)半导体制造工艺中的一个;并且所述第二半导体制造工艺包括碳化硅(SiC)基氮化镓(GaN)半导体制造工艺、硅(Si)基氮化镓(GaN)半导体制造工艺或横向扩散金属氧化物半导体(LDMOS)半导体制造工艺中的一个。7.根据权利要求1到6中任一项所述的功率放大器装置,还包括:输入放大器,使用所述第一半导体制造工艺形成在所述第一半导体裸片上;以及第二级间匹配网络,形成在所述第一半导体裸片上的输入放大器与驱动放大器之间。8.根据权利要求1到7中任一项所述的功率放大器装置,其中,所述级间匹配网络包括至少一个键合线,所述至少一个键合线在所述第一半导体裸片上的驱动放大器与所述第二半导体裸片上的输出放大器之间。9.根据权利要求1到8中任一项所述的功率放大器装置,其中:所述功率放大器装置包括多尔蒂放大器;所述输出放大器包括主输出端和峰值输出端;以及所述级间匹配网络包括用于所述主输出端的第一多个键合线和用于所述峰值输出端的第二多个键合线。10.根据权利要求1到9中任一项所述的功率放大器装置,还包括:第一电源,处于第一电压且用于所述驱动放大器;以及第二电源,处于第二电压且用于所述输出放大器,其中,所述第二电压大于所述第一电压。
11.根据权利要求1到10中任一项所述的功率放大器装置,其中,所述驱动放大器在较低的电压下工作,所述输出...
【专利技术属性】
技术研发人员:G,
申请(专利权)人:玛科姆技术方案控股有限公司,
类型:发明
国别省市:
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