本发明专利技术提供一种机台清洁装置，涉及半导体设备技术领域，用于解决待加工件的良品率低的技术问题。该机台清洁装置用于对机台主体的顶面进行清洁，包括：设置在机台主体的载台旁的导轨，滑动安装在导轨上的支架，安装在机台清洁装置支架上的清洁部件，与机台清洁装置支架传动连接的驱动装置，以及与机台清洁装置驱动装置连接的控制器；当清洁部件对机台主体的顶面清洁时，控制器控制驱动装置驱动支架沿导轨移动，以带动清洁部件向远离载台的方向清洁机台主体的顶面，清洁时减少异物颗粒掉落污染载台，并通过将异物颗粒从机台主体的顶面清洁掉，从而减少堆积在机台主体的顶面的异物颗粒掉落污染载台，提高待加工件的良品率。提高待加工件的良品率。提高待加工件的良品率。
【技术实现步骤摘要】
机台清洁装置
[0001]本专利技术涉及半导体设备领域，尤其涉及一种机台清洁装置。
技术介绍
[0002]在半导体生产制造过程中，通常需要进行各种制程。半导体的不同制程可以在不同的设备上进行，例如，利用沉积设备形成薄膜，利用研磨设备进行平坦化处理，利用光刻设备进行图形化处理，利用注入设备进行离子注入。
[0003]为保证半导体产品的质量，各种设备可以放置在无尘室中。无尘室通常保持一定压力，并使气体由无尘室的上方向下方流动，从而防止无尘室内有扬尘，减少尘土或者其他异物颗粒对半导体产品的不良影响。然而，当放置待加工件的载台外露于机台主体时，气流扰动下，易使堆积在机台主体的顶面上的灰尘或者异物颗粒掉落到载台上，污染载台，影响待加工件的质量，导致待加工件的良品率低。
技术实现思路
[0004]鉴于上述问题，本专利技术实施例提供一种机台清洁装置，用于提高待加工件的良品率。
[0005]为了实现上述目的，本专利技术实施例提供如下技术方案：
[0006]本专利技术实施例提供一种机台清洁装置，用于对机台主体的顶面进行清洁，所述机台清洁装置包括：设置在所述机台主体的载台旁的导轨，滑动安装在所述导轨上的支架，安装在所述支架上的清洁部件，与所述支架传动连接的驱动装置，以及与所述驱动装置连接的控制器；当所述清洁部件对所述机台主体的顶面清洁时，所述控制器控制所述驱动装置驱动所述支架沿所述导轨移动，以带动所述清洁部件向远离所述载台的方向清洁所述机台主体的顶面。
[0007]本专利技术实施例提供的机台清洁装置具有如下优点：
[0008]本专利技术实施例中，机台主体设置有载台，机台清洁装置对机台主体的顶面进行清洁；机台清洁装置包括导轨、支架、清洁部件、驱动装置和控制器，导轨设置在载台旁，导轨上安装有可以沿导轨滑动的支架，支架与驱动装置传动连接，驱动装置与控制器信号连接，由控制器控制驱动装置驱动支架沿导轨运动，支架上通过安装有清洁部件；当清洁部件对机台主体的顶面清洁时，控制器控制驱动装置驱动清洁部件向远离载台的方向清洁机台主体的顶面，避免清洁过程中异物颗粒掉落污染载台。此外，通过将机台主体的顶面靠近载台的异物颗粒清洁掉，减少或者避免堆积在机台主体的顶面上的异物颗粒掉落在载台上，从而减少异物颗粒污染载台，提高载台的洁净度，进而提高待加工件的良品率。
[0009]如上所述的机台清洁装置中，所述清洁部件包括升降装置和清洁头，所述清洁头通过所述升降装置安装在所述支架上，所述升降装置与所述控制器信号连接；当所述清洁部件对所述机台主体的顶面清洁时，所述控制器控制所述升降装置使所述清洁头接近所述机台主体的顶面。
[0010]如上所述的机台清洁装置中，所述升降装置包括：安装在所述支架上的电磁铁，以及安装在所述支架上的两个连接板，两个所述连接板分别位于所述电磁铁的两侧；所述清洁头滑动安装在两个所述连接板之间，所述电磁铁与所述控制器信号连接，当所述清洁部件对所述机台主体的顶面清洁时，所述控制器控制所述电磁铁失电，所述清洁头接近所述机台主体的顶面并保持。
[0011]如上所述的机台清洁装置中，所述升降装置包括：安装在所述支架上的电磁铁，以及一端与所述支架转动连接的连接杆，所述连接杆的另一端与所述清洁头固定连接；所述电磁铁与所述控制器信号连接，当所述清洁部件对所述机台主体的顶面清洁时，所述控制器控制所述电磁铁失电，所述清洁头接近所述机台主体的顶面并保持。
[0012]如上所述的机台清洁装置中，所述控制器与继电器的绕组电连接，所述继电器的触点与所述电磁铁电连接；当所述清洁部件对所述机台主体的顶面清洁时，所述继电器的触点断开，所述电磁铁失电。
[0013]如上所述的机台清洁装置中，所述升降装置还包括第一弹簧，所述第一弹簧的一端与所述清洁头固定连接，所述第一弹簧的另一端与所述支架固定连接；所述控制器控制所述电磁铁失电时，所述第一弹簧缓冲所述清洁头的下降速度。
[0014]如上所述的机台清洁装置中，所述载台的两侧各设置有一个立柜，所述立柜的顶面与所述机台主体的顶面平齐；所述清洁头为凹字形结构，所述凹字形结构的开口的朝向与所述清洁部件对所述机台主体的顶面清洁时所述清洁部件的移动方向相反；当所述升降装置使所述清洁头朝向所述载台下降时，所述载台暴露在所述凹字形结构的开口内，且两个所述立柜的顶面被所述凹字形结构覆盖。
[0015]如上所述的机台清洁装置中，所述凹字形结构包括两个L形清洁块，两个所述L形清洁块拼合形成所述凹字形结构。
[0016]如上所述的机台清洁装置中，所述清洁头包括清洁刷或者清洁布；当所述清洁部件对所述机台主体的顶面清洁时，所述清洁头与所述机台主体的顶面相接触并保持，且向远离所述载台的方向移动。
[0017]如上所述的机台清洁装置中，所述清洁头包括除尘吸盘；当所述清洁部件对所述机台主体的顶面清洁时，所述清洁头与所述机台主体的顶面具有第一预设距离并保持，且向远离所述载台的方向移动。
[0018]如上所述的机台清洁装置中，所述导轨设置有两条，两条所述导轨平行且相对设置在所述机台主体的顶面上，两条所述导轨位于所述载台的两侧，每个所述导轨设置有轨道槽；所述支架两侧设置有滚轮，位于所述支架一侧的所述滚轮设置在对应的所述轨道槽中。
[0019]如上所述的机台清洁装置中，所述机台清洁装置还包括设置在所述导轨远离所述载台的一端旁的限位装置，所述限位装置被配置为当所述支架移动到所述导轨远离所述载台的一端时，与所述支架相抵。
[0020]如上所述的机台清洁装置中，所述限位装置包括两个限位块，两个所述限位块与两个导轨一一对应，每个限位块朝向所述支架的一侧设置有两个第二弹簧，每个所述第二弹簧的伸缩方向与所述支架的移动方向相同。
[0021]如上所述的机台清洁装置中，所述机台清洁装置还包括定位装置，所述定位装置
与所述控制器信号连接，所述定位装置输出所述支架的位置信息；所述控制器根据接收的所述位置信息控制所述驱动装置和所述清洁部件。
[0022]如上所述的机台清洁装置中，所述定位装置包括设置在所述支架旁且与所述导轨平行的标尺光栅，以及设置在所述支架上的光栅读数头，所述光栅读数头与所述控制器连接，用于检测和发送所述支架的位置信息。
[0023]如上所述的机台清洁装置中，所述机台清洁装置还包括对所述机台主体的顶面进行润湿的雾化装置；所述雾化装置包括清洁剂存储装置，与所述清洁剂存储装置连通的泵送装置，与所述泵送装置连通的管道，以及设置在所述管道上且与所述管道连通的喷头；所述泵送装置与所述控制器信号连接，当所述清洁部件对所述机台主体的顶面清洁时，所述控制器控制所述泵送装置将所述清洁剂存储装置中的清洁剂泵入所述管道中，并经所述喷头雾化后喷洒至所述机台主体的顶面。
附图说明
[0024]图1为本专利技术实施例中的机台主体的结构示意图；
[0025]图2为本专利技术实施例中的机台清洁装置的结构示意图；
[0026]图3为本专利技术实施例中的导轨与滚轮的结构示意图；<本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种机台清洁装置，用于对机台主体的顶面进行清洁，其特征在于，所述机台清洁装置包括：设置在所述机台主体的载台旁的导轨，滑动安装在所述导轨上的支架，安装在所述支架上的清洁部件，与所述支架传动连接的驱动装置，以及与所述驱动装置连接的控制器；当所述清洁部件对所述机台主体的顶面清洁时，所述控制器控制所述驱动装置驱动所述支架沿所述导轨移动，以带动所述清洁部件向远离所述载台的方向清洁所述机台主体的顶面。2.根据权利要求1所述的机台清洁装置，其特征在于，所述清洁部件包括升降装置和清洁头，所述清洁头通过所述升降装置安装在所述支架上，所述升降装置与所述控制器信号连接；当所述清洁部件对所述机台主体的顶面清洁时，所述控制器控制所述升降装置使所述清洁头接近所述机台主体的顶面。3.根据权利要求2所述的机台清洁装置，其特征在于，所述升降装置包括：安装在所述支架上的电磁铁，以及安装在所述支架上的两个连接板，两个所述连接板分别位于所述电磁铁的两侧；所述清洁头滑动安装在两个所述连接板之间，所述电磁铁与所述控制器信号连接，当所述清洁部件对所述机台主体的顶面清洁时，所述控制器控制所述电磁铁失电，所述清洁头接近所述机台主体的顶面并保持。4.根据权利要求2所述的机台清洁装置，其特征在于，所述升降装置包括：安装在所述支架上的电磁铁，以及一端与所述支架转动连接的连接杆，所述连接杆的另一端与所述清洁头固定连接；所述电磁铁与所述控制器信号连接，当所述清洁部件对所述机台主体的顶面清洁时，所述控制器控制所述电磁铁失电，所述清洁头接近所述机台主体的顶面并保持。5.根据权利要求3或4所述的机台清洁装置，其特征在于，所述控制器与继电器的绕组电连接，所述继电器的触点与所述电磁铁电连接；当所述清洁部件对所述机台主体的顶面清洁时，所述继电器的触点断开，所述电磁铁失电。6.根据权利要求3所述的机台清洁装置，其特征在于，所述升降装置还包括第一弹簧，所述第一弹簧的一端与所述清洁头固定连接，所述第一弹簧的另一端与所述支架固定连接；所述控制器控制所述电磁铁失电时，所述第一弹簧缓冲所述清洁头的下降速度。7.根据权利要求2所述的机台清洁装置，其特征在于，所述载台的两侧各设置有一个立柜，所述立柜的顶面与所述机台主体的顶面平齐；所述清洁头为凹字形结构，所述凹字形结构的开口的朝向与所述清洁部件对所述机台主体的顶面清洁时所述清洁部件的移动方向相反；当所述升降装置使所述清洁头朝向所述载台下降时，所述载台暴露在所述凹字形结构的开口内，且两个所述立柜的顶面被所述凹字形结构覆盖。8.根据...
【专利技术属性】
技术研发人员：梁学玉，
申请(专利权)人：长鑫存储技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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