本实用新型专利技术涉及反应釜技术领域，提出了一种反应釜的自动清洗装置，包括釜体、转动设置在釜体内的搅拌装置和设置在釜体上的进口和出口，搅拌装置包括设置在釜体顶部的驱动件、由驱动件驱动转动的转轴和设置在转轴上的叶片，转轴具有通腔，还包括升降机构和喷水头，升降机构设置在釜体上，驱动转轴在釜体内升降，喷水头设置在叶片上，喷水头通过通腔与高压水源连通，喷水头跟随叶片转动，转轴带动喷水头在釜体内升降。通过上述技术方案，解决了现有技术中的反应釜清洗不充分问题。技术中的反应釜清洗不充分问题。技术中的反应釜清洗不充分问题。
【技术实现步骤摘要】
一种反应釜的自动清洗装置
[0001]本技术涉及反应釜
，具体的，涉及一种反应釜的自动清洗装置。
技术介绍
[0002]反应釜的广义理解即有物理或化学反应的容器，通过对容器的结构设计与参数配置，实现工艺要求的加热、蒸发、冷却及低高速的混配功能。反应釜广泛应用于石油、化工、橡胶、农药、染料、医药和食品等领域，是用来完成硫化、硝化、氢化、烃化、聚合、缩合等工艺过程的压力容器，例如反应器、反应锅、分解锅、聚合釜等；材质一般有碳锰钢、不锈钢、锆、镍基(哈氏、蒙乃尔、因康镍)合金及其它复合材料。反应釜是综合反应容器，根据反应条件对反应釜结构功能及配置附件的设计。从开始的进料
‑
反应
‑
出料均能够以较高的自动化程度完成预先设定好的反应步骤，对反应过程中的温度、压力、力学控制(搅拌、鼓风等)、反应物/产物浓度等重要参数进行严格的调控。其结构一般由釜体、传动装置、搅拌装置、加热装置、冷却装置、密封装置等组成。反应釜在物料反应之后，会在内壁和搅拌叶片上残留部分物料，需要对反应釜进行清洗，现有技术中，一般采用对反应釜中加水，通过搅拌对反应釜进行清洗，需要大量的水，水资源浪费严重；还有一部分是采用喷头对反应釜进行清洗，但是清洗不充分，搅拌叶片等不能得到有效清洗。
技术实现思路
[0003]本技术提出一种反应釜的自动清洗装置，解决了相关技术中的反应釜清洗不充分问题。
[0004]本技术的技术方案如下：
[0005]一种反应釜的自动清洗装置，包括釜体、转动设置在所述釜体内的搅拌装置和设置在所述釜体上的进口和出口，所述搅拌装置包括设置在所述釜体顶部的驱动件、由所述驱动件驱动转动的转轴和设置在所述转轴上的叶片，所述转轴具有通腔还包括
[0006]升降机构，设置在所述釜体上，驱动所述转轴在所述釜体内升降，
[0007]喷水头，设置在所述叶片上，所述喷水头通过所述通腔与高压水源连通，所述喷水头跟随所述叶片转动，所述转轴带动所述喷水头在所述釜体内升降。
[0008]作为进一步的技术方案，所述升降机构由设置在所述转轴外部的螺纹和设置在所述釜体顶部的螺纹块组成，所述螺纹块与所述转轴通过螺纹配合，驱动件驱动所述转轴转动，所述转轴与所述螺纹块螺纹配合实现升降。
[0009]作为进一步的技术方案，还包括
[0010]伸缩件，设置在所述釜体顶部，所述伸缩件伸缩方向垂直所述转轴升降方向，所述伸缩件带动所述螺纹块移动后，所述螺纹块与所述转轴螺纹连接。
[0011]作为进一步的技术方案，还包括
[0012]芯轴，设置在所述通腔上，所述转轴通过所述芯轴设置在所述驱动件上，所述芯轴与所述通腔连接处具有开口，所述通腔通过所述开口与外界高压水源连通。
[0013]作为进一步的技术方案，还包括
[0014]支撑架，设置在所述驱动件上，所述芯轴位于所述支撑架内。
[0015]作为进一步的技术方案，所述支撑架与所述转轴转动连接还包括
[0016]进水管，设置所述支撑架内，与外界高压水源连通，
[0017]封板，设置在所述支撑架内，所述芯轴穿过所述封板，所述封板与所述通腔组成具有进水口的密封空间，所述进水管通过所述进水口和所述开口与所述通腔连通。
[0018]作为进一步的技术方案，所述驱动件为伺服电机，通过程序控制伺服电机转动。
[0019]本技术的工作原理及有益效果为：
[0020]反应釜是化学反应或物理反应的容器，物料在反应釜内反应，产生所需要的产品，物料在反应之后会在反应釜内壁上产生残留，长时间残留会在内壁上上形成积屑，这时就需要对反应釜内壁进行清洗，但是反应釜内壁结构各部相同，清洗难度大，一般是在反应釜内加水，通过搅拌进行清洗，水资源浪费严重，现有技术中有自动清洗装置，通过喷头对反应釜内壁进行清洗，但是只能对部分部位进行清洗，清洗不充分，不干净。
[0021]本技术中解决思路是通过在搅拌机构上设置喷头，通过升降结构带动搅拌装置升降，搅拌装置在升降的同时转动，可以对反应釜内壁进行清洗。搅拌装置转动带动喷头转动，可以对反应釜内壁同一处进行反复清洗，升降机构带动搅拌装置升降，可以对反应釜内壁不同位置进行清洗，对反应釜内壁进行充分清洗。
[0022]具体的是搅拌装置转动设置在釜体内，驱动件驱动搅拌装置转动，搅拌装置包括转轴和设置在转轴上的叶片，升降结构设置在釜体顶部，带动转轴和驱动件升降，喷水头设置在叶片上，通过转轴内的通腔与高压水源连接，在清洗釜体内壁时，驱动件通过转轴带动喷水头转动，喷水头开始喷水，可以对釜体同一位置多次清洗，升降机构带动转轴和驱动件升降，带动喷水头在釜体内升降，可以清洗釜体内壁不同部分，充分清洗釜体内壁；清洗的内壁的水会堆积在反应釜底部，转轴带动叶片在积水内转动，将叶片清洗干净，使用水资源少，清洗充分。
附图说明
[0023]下面结合附图和具体实施方式对本技术作进一步详细的说明。
[0024]图1为本技术结构示意图；
[0025]图2为图1中A处放大图；
[0026]图3为本技术开口结构示意图；
[0027]图中：1、釜体，2、搅拌装置，3、进口，4、出口，5、驱动件，6、转轴，7、叶片，8、通腔，9、喷水头，10、螺纹块，11、伸缩件，12、芯轴，13、开口，14、支撑架，15、进水管，16、封板，17、升降机构。
具体实施方式
[0028]下面将结合本技术实施例，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都涉及本技术保护的范围。
[0029]如图1～图3所示，本实施例提出了
[0030]一种反应釜的自动清洗装置，包括釜体1、转动设置在釜体1内的搅拌装置2和设置在釜体1上的进口3和出口4，搅拌装置2包括设置在釜体1顶部的驱动件5、由驱动件5驱动转动的转轴6和设置在转轴6上的叶片7，转轴6具有通腔8还包括
[0031]升降机构17，设置在釜体1上，驱动转轴6在釜体1内升降，
[0032]喷水头9，设置在叶片7上，喷水头9通过通腔8与高压水源连通，喷水头9跟随叶片7转动，转轴6带动喷水头9在釜体1内升降。
[0033]反应釜是化学反应或物理反应的容器，物料在反应釜内反应，产生所需要的产品，物料在反应之后会在反应釜内壁上产生残留，长时间残留会在内壁上上形成积屑，这时就需要对反应釜内壁进行清洗，但是反应釜内壁结构各部相同，清洗难度大，一般是在反应釜内加水，通过搅拌进行清洗，水资源浪费严重，现有技术中有自动清洗装置，通过喷头对反应釜内壁进行清洗，但是只能对部分部位进行清洗，清洗不充分，不干净。
[0034]本实施例中解决思路是通过在搅拌机构上设置喷头，通过升降结构带动搅拌装本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种反应釜的自动清洗装置，包括釜体(1)、转动设置在所述釜体(1)内的搅拌装置(2)和设置在所述釜体(1)上的进口(3)和出口(4)，所述搅拌装置(2)包括设置在所述釜体(1)顶部的驱动件(5)、由所述驱动件(5)驱动转动的转轴(6)和设置在所述转轴(6)上的叶片(7)，其特征在于，所述转轴(6)具有通腔(8)还包括升降机构(17)，设置在所述釜体(1)上，驱动所述转轴(6)在所述釜体(1)内升降，喷水头(9)，设置在所述叶片(7)上，所述喷水头(9)通过所述通腔(8)与高压水源连通，所述喷水头(9)跟随所述叶片(7)转动，所述转轴(6)带动所述喷水头(9)在所述釜体(1)内升降。2.根据权利要求1所述的一种反应釜的自动清洗装置，其特征在于，所述升降机构(17)由设置在所述转轴(6)外部的螺纹和设置在所述釜体(1)顶部的螺纹块(10)组成，所述螺纹块(10)与所述转轴(6)通过螺纹配合，驱动件(5)驱动所述转轴(6)转动，所述转轴(6)与所述螺纹块(10)螺纹配合实现升降。3.根据权利要求2所述的一种反应釜的自动清洗装置，其特征在于，还包括伸缩件(11)，设置在所述釜体(1)顶部，所述伸缩件(11)伸缩方向垂直所述转轴(6)...
【专利技术属性】
技术研发人员：郭朝振，高洁，王霞，左凯旋，
申请(专利权)人：石家庄东华金龙化工有限公司，
类型：新型
国别省市：
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