一种光刻胶中鎓盐类光致产酸剂的鉴定方法技术

本申请涉及光刻胶分析技术领域，具体涉及一种光刻胶中鎓盐类光致产酸剂的鉴定方法，包括以下步骤：S1、光刻胶的预处理：向待测光刻胶样品中加入提取液，直至光刻胶样品中有沉淀物析出，去除沉淀物，得到待测清液；S2、待测清液的GC

【技术实现步骤摘要】
一种光刻胶中鎓盐类光致产酸剂的鉴定方法


[0001]本申请涉及光刻胶分析
，更具体而言，其涉及一种光刻胶中鎓盐类光致产酸剂的鉴定方法。

技术介绍

[0002]光刻胶，又称光致抗蚀剂，是一种对光敏感的混合液体，是微电子技术中微细图形加工的关键材料，它由溶剂、树脂、感光剂及其他助剂组成。
[0003]随着集成电路的不断发展，对芯片中微细图形的尺寸要求也在不断提高，图案线宽从微米级逐渐向纳米级发展，同时光刻设备和光刻胶也在不断改进，在曝光设备方面，曝光波长越来越短，从436nm、365nm、248nm、193nm发展，带有更短波长光源的设备与F2激光、EUV(远紫外线)、电子束和X
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射线，或者具有更大透镜数值孔径(NA)的仪器也在逐步使用。适应不同的曝光波长，不同类型的光刻胶也相应被开发出来。光刻胶先后经历了环化橡胶
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双叠氮体系、酚醛树脂
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重氮萘醌体系、化学增大型光刻胶体系(聚对羟基苯乙烯及其衍生物
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光致产酸剂、聚脂环族丙烯酸酯及其共聚物
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光刻胶中鎓盐类光致产酸剂的鉴定方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、光刻胶的预处理：向待测的光刻胶样品中加入提取液，所述提取液在与所述光刻胶样品混合后能够有沉淀物析出，随后去除所述沉淀物，得到待测清液；S2、所述待测清液的GC
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MS分析检测：所述待测清液采用气相色谱质谱联用仪进行检测，选择全扫描模式扫描，得到GC
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MS总离子流色谱图；S3、鎓盐类光致产酸剂的鉴定：在所述GC
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MS总离子流色谱图中提取m/z=186、262、431、281、393的特征离子碎片；通过逐一比对所述特征离子碎片的保留时间和质谱图，鉴别m/z=186特征离子碎片的峰是否为二苯基硫的信号峰，鉴别m/z=262特征离子碎片的峰是否为三苯基硫的信号峰，鉴别m/z=431特征离子碎片的峰是否为三(叔丁基苯基)硫的信号峰，鉴别m/z=281特征离子碎片的峰是否为二苯基碘的信号峰，鉴别m/z=393特征离子碎片的峰是否为二(叔丁基苯基)碘的信号峰；若在所述GC
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MS总离子流色谱图中出现所述二苯基硫的信号峰、所述三苯基硫的信号峰、所述三(叔丁基苯基)硫的信号峰、所述二苯基碘的信号峰、所述二(叔丁基苯基)碘的信号峰中的至少一个，则可判断所述光刻胶样品中含有鎓盐类光致产酸剂。2.根据权利要求1所述的鉴定方法，其特征在于，步骤S3中，若在所述 GC
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MS总离子流色谱图中出现所述二苯基硫的信号峰、所述三苯基硫的信号峰、所述三(叔丁基苯基)硫的信号峰中的至少一个，则可判断所述光刻胶样品中含有硫鎓盐类光致产酸剂。3.根据权利要求1所述的鉴定方法，其特征在于，步骤S3中，若在所述GC
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MS总离子流色谱图中出现所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：高剑琴，胡小娜，李秋荣，纪爱亮，鲁代仁，董栋，张宁，
申请(专利权)人：上海彤程电子材料有限公司彤程新材料集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：