【技术实现步骤摘要】
一种光刻胶中重氮甲烷类光致产酸剂的鉴定方法
[0001]本申请涉及光刻胶分析
,更具体而言,其涉及一种光刻胶中重氮甲烷类光致产酸剂的鉴定方法。
技术介绍
[0002]光刻胶,又称光致抗蚀剂,是一种对光敏感的混合液体,是微电子技术中微细图形加工的关键材料,它由溶剂、树脂、感光剂及其他助剂组成。
[0003]随着集成电路的不断发展,对芯片中微细图形的尺寸要求也在不断提高,图案线宽从微米级逐渐向纳米级发展,同时光刻设备和光刻胶也在不断改进,在曝光设备方面,曝光波长越来越短,从436nm、365nm、248nm、193nm发展,带有更短波长光源的设备与F2激光、EUV(远紫外线)、电子束和X
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射线,或者具有更大透镜数值孔径(NA)的仪器也在逐步使用。适应不同的曝光波长,不同类型的光刻胶也相应被开发出来。光刻胶先后经历了环化橡胶
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双叠氮体系、酚醛树脂
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重氮萘醌体系、化学增大型光刻胶体系(聚对羟基苯乙烯及其衍生物
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光致产酸剂、聚脂环族丙烯酸酯及 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种光刻胶中重氮甲烷类光致产酸剂的鉴定方法,其特征在于,包括以下步骤:S1、从待测的光刻胶样品中提取含有光致产酸剂的待测清液;所述待测清液经过GC
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MS分析检测,得到GC
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MS总离子流色谱图;S2、重氮甲烷类光致产酸剂的鉴定:在所述GC
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MS总离子流色谱图中提取特征离子碎片;通过逐一比对含有所述特征离子碎片的特征组分的保留时间和质谱图,鉴别所述特征离子碎片的峰是否为所述特征组分的信号峰;若所述特征离子碎片的峰是所述特征组分的信号峰,则可判断所述光刻胶样品中含有重氮甲烷类光致产酸剂;若所述特征离子碎片的峰不是所述特征组分的信号峰,则可判断所述光刻胶样品中不含有重氮甲烷类光致产酸剂;其中,所述特征组分的结构式如式I所示:式I中,m为1或2;R1、R2各自独立地选自直链或支链烷基、环烷基、芳基、酰基。2.根据权利要求1所述的鉴定方法,其特征在于,所述R1和所述R2各自独立地选自直链或支链的C1~C8烷基、C5~C7环烷基、C6~C12芳基。3.根据权利要求1或2所述的鉴定方法,其特征在于,所述特征组分包括以下化合物中的至少一种:4.根据权利要求1所述的鉴定方法,其特征在于,步骤S2中,所述GC
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MS分析检测的条件:(1)GC分析检测的条件:进样口温度为150~350℃、柱箱温度为50~320℃、柱箱升温速度为1~30℃/min;(2)MS分析检测的条件:离子阱温度为200~300℃、电离电压为70eV、扫描范围为m/z=40~650。5.根据权利要求1所述的鉴定方法,其特征在于,所述鉴定方法还包括以下步骤:...
【专利技术属性】
技术研发人员:胡小娜,高剑琴,李秋荣,纪爱亮,鲁代仁,董栋,张宁,
申请(专利权)人:上海彤程电子材料有限公司彤程新材料集团股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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