一种紫外发光二极管外延结构、紫外发光二极管及电子设备制造技术

本发明专利技术实施例提供一种紫外发光二极管外延结构、紫外发光二极管及电子设备。该外延结构包括自下至上依次生长的衬底、第一AlN层、多周期复合式调控层、n型Al

【技术实现步骤摘要】
一种紫外发光二极管外延结构、紫外发光二极管及电子设备


[0001]本专利技术涉及半导体
，尤其涉及一种紫外发光二极管外延结构、紫外发光二极管及电子设备。

技术介绍

[0002]氮化物材料的紫外发光二极管与传统紫外光源汞灯相比，具有低电压、波长可调、绿色环保等优点。其主要在杀菌消毒、医疗、生化探测等领域有着广泛的应用前景。
[0003]目前，紫外LED外延生长技术还不够成熟，外延结构生长中还存在大失配、低量子效率、掺杂激活效率低和极化控制等关键科学问题。在紫外LED外延结构中，由于AlN层与n型AlGaN接触层间存在晶格失配，在AlN层和n型AlGaN层界面处将产生新的位错，同时n型AlGaN层内产生极大的压应力，导致外延片翘曲度大，进而影响器件的发光效率、波长均匀性和光电特性均匀性。

技术实现思路

[0004]针对上述的问题，本专利技术提供一种紫外发光二极管外延结构、紫外发光二极管及电子设备。
[0005]本专利技术实施例第一方面提供一种紫外发光二极管外延结构，包括自下至上依次生长的衬底、第一AlN层、多周期复合式调控层、n型Al
x
Ga1‑
x
N接触层、多量子阱发光层、p型Al
y
Ga1‑
y
N阻挡层和p型GaN层，所述多周期复合式调控层包括多个自下至上依次生长的周期结构，每个所述周期结构均包括自下至上依次生长的第二AlN层、Al
m
Ga1‑
m
N层、Al
nr/>Ga1‑
n
N层和Al
k
Ga1‑
k
N层，其中，所述n型Al
x
Ga1‑
x
N接触层、Al
m
Ga1‑
m
N层、Al
n
Ga1‑
n
N层和Al
k
Ga1‑
k
N层中的Al组分不同。
[0006]优选地，所述n型Al
x
Ga1‑
x
N接触层、Al
m
Ga1‑
m
N层、Al
n
Ga1‑
n
N层和Al
k
Ga1‑
k
N层中的Al组分为：0＜n＜x＜k＜m＜1。
[0007]优选地，所述周期结构中，第二AlN层的厚度≤Al
m
Ga1‑
m
N层的厚度＜Al
n
Ga1‑
n
N层的厚度＜Al
k
Ga1‑
k
N层的厚度。
[0008]优选地，所述周期结构的个数为2个至100个。
[0009]优选地，所述多周期复合式调控层的生长温度为1000℃至1250℃。
[0010]优选地，所述多周期复合式调控层的生长压力为30torr至150torr。
[0011]优选地，所述n型Al
x
Ga1‑
x
N接触层中，0.4≤x≤1。
[0012]优选地，所述p型Al
y
Ga1‑
y
N阻挡层中，0.5≤y≤1。
[0013]本专利技术实施例第二方面提供一种紫外发光二极管，所述紫外发光二极管包括本专利技术实施例第一方面所述的紫外发光二极管外延结构。
[0014]本专利技术实施例第三方面提供一种电子设备，所述电子设备包括本专利技术实施例第二方面所述的紫外发光二极管。
[0015]本专利技术的实施例提供的技术方案可以包括以下有益效果：
[0016]本专利技术所提出的紫外发光二极管外延结构，通过在第一AlN层和n型Al
x
Ga1‑
x
N接触层之间生长多周期复合式调控层，用以减少第一AlN层和n型Al
x
Ga1‑
x
N接触层之间的晶格失配，调控紫外发光二极管外延片的翘曲，过滤第一AlN层向上延伸的位错，减小n型Al
x
Ga1‑
x
N接触层的压应力，改善晶体质量，进而提升器件的发光效率。
附图说明
[0017]此处所说明的附图用来提供对本申请的进一步理解，构成本申请的一部分，本申请的示意性实施例及其说明用于解释本申请，并不构成对本申请的不当限定。通过结合附图对本专利技术示例性实施方式进行更详细的描述，本专利技术的上述以及其它目的、特征和优势将变得更加明显。在附图中：
[0018]图1为本专利技术实施例1所述的紫外发光二极管外延结构的结构示意图；
[0019]图2为本专利技术实施例1所述的多周期复合式调控层的结构示意图；
[0020]图3为本专利技术实施例1所述的多周期复合式调控层的截面TEM图；
[0021]图4为本专利技术实施例1所述的多周期复合式调控层的SIMS图；
[0022]图5为本专利技术实施例1中不含多周期复合式调控层的外延结构的截面TEM图；
[0023]图6为本专利技术实施例1中包含多周期复合式调控层的外延结构的截面TEM图；
[0024]附图标记说明，
[0025]1、衬底，2、第一AlN层，3、多周期复合式调控层，4、n型Al
x
Ga1‑
x
N接触层，5、多量子阱发光层，6、p型Al
y
Ga1‑
y
N阻挡层，7、p型GaN层；
[0026]3‑
1、第二AlN层，3
‑
2、Al
m
Ga1‑
m
N层，3
‑
3、Al
n
Ga1‑
n
N层，3
‑
4、Al
k
Ga1‑
k
N层。
具体实施方式
[0027]下面将参照附图更详细地描述本专利技术的优选实施方式。虽然附图中显示了本专利技术的优选实施方式，然而应该理解，可以以各种形式实现本专利技术而不应被这里阐述的实施方式所限制。相反，提供这些实施方式是为了使本专利技术更加透彻和完整，并且能够将本专利技术的范围完整地传达给本领域的技术人员。
[0028]实施例1
[0029]如图1所示，本实施例提出了一种紫外发光二极管外延结构，该外延结构包括自下至上依次生长的衬底1、第一AlN层2、多周期复合式调控层3、n型Al
x
Ga1‑
x
N接触层4、多量子阱发光层5、p型Al
y
Ga1‑
y
N阻挡层6和p型GaN层7。
[0030]具体的，本实施例中，多周期复合式调控层3位于AlN层和n型Al
x
Ga1‑
x
N接触层4之间。多周期复合式调控层3包含有多个周期结构。该多个周期结构同样为自下至上依次生长。每个周期结构均包括自下至上依次生长的第二Al本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种紫外发光二极管外延结构，其特征在于，包括自下至上依次生长的衬底、第一AlN层、多周期复合式调控层、n型Al
x
Ga1‑
x
N接触层、多量子阱发光层、p型Al
y
Ga1‑
y
N阻挡层和p型GaN层，所述多周期复合式调控层包括多个自下至上依次生长的周期结构，每个所述周期结构均包括自下至上依次生长的第二AlN层、Al
m
Ga1‑
m
N层、Al
n
Ga1‑
n
N层和Al
k
Ga1‑
k
N层，其中，所述n型Al
x
Ga1‑
x
N接触层、Al
m
Ga1‑
m
N层、Al
n
Ga1‑
n
N层和Al
k
Ga1‑
k
N层中的Al组分不同。2.根据权利要求1所述的紫外发光二极管外延结构，其特征在于，所述n型Al
x
Ga1‑
x
N接触层、Al
m
Ga1‑
m
N层、Al
n
Ga1‑
n
N层和Al
...

【专利技术属性】
技术研发人员：王程刚，
申请(专利权)人：安徽格恩半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：