【技术实现步骤摘要】
一种物理气相沉积装备溅射靶材安装定位装置
[0001]本专利技术涉及半导体制造物理气相沉积设备
，具体为一种物理气相沉积装备溅射靶材安装定位装置。
技术介绍
[0002]物理气相沉积技术表示在真空条件下，采用物理方法，将靶材表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体(或等离子体)过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。靶材是物理气相沉积设所用的材料源，靶材在使用过程中不断消耗，消耗到一定数量后需要更换靶材。不同的工艺所用的靶材也不相同，不同工艺之间转换时需要更换靶材。常用的靶材如：铝铜，铜，钛，等，更换靶材的主要步骤：将原来设备上的旧靶材拆下，安装新的靶材。
[0003]然而，现有的物理气相沉积装备溅射靶材拆装方式存在以下的问题：(1)多采用人工操作的方式，靶材较重，人工移出与安装不便，易造成人员受伤并且容易对靶材造成碰撞，造成靶材和设备受损；(2)安装时无对位装置，凭肉眼对位，造成对位不准，重复操作，浪费时间。为此，需要设计相应的技术方案解决存在的技术问题。
技术实现思路
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种物理气相沉积装备溅射靶材安装定位装置，包括溅射靶材安装定位装置，其特征在于：所述溅射靶材安装定位装置包括底座(1)、升降机构(2)、靶材提放螺栓(3)和靶材定位插销(4)，所述底座(1)的拐角处均匀安装有四组滚轮(5)，所述升降机构(2)内置底座(1)的内部且由驱动电机(6)、皮带(7)、丝杠(8)、滑块(9)和升降杆(10)组成，所述驱动电机(6)垂直安装于底座(1)上且动力输出端通过皮带(7)与丝杠(8)相连接，所述丝杠(8)垂直安装于底座(1)内且底端与底座(1)转动连接，所述滑块(9)螺纹穿插于丝杠(8)上且外端与升降杆(10)相连接，所述升降杆(10)的下端固定于底座(1)上且外端连接有交叉式支撑机构(11)，所述交叉式支撑机构(11)的下端连接有两组支架(12)，所述靶材提放螺栓(3)分设有若干组且螺纹固定于支架(12)上，若干组所述靶材提放螺栓(3)的下端螺纹连接有靶材本体(13)，所述靶材定位插销(4)分设有若干组且螺纹穿插于交叉式支撑机构(11)上。2.根据权利要求1所述的一种物理气相沉积装备溅射靶材安装定位装置，其特征在于：所述底座(1)的外围垂直安装有四组侧板(14)且内部形成有安装槽(15)，所述侧板(14)上安装有调节按钮(16)，所述调节按钮(16)通过线路与驱动电机(6)相连接。3.根据权利要求2所述的一种物理气相沉积装备溅射靶材安装定位装置，其特征在于：所述交叉式支撑机构(11)由主筒(17)、提升杆(1...
【专利技术属性】
技术研发人员：罗正勇，金補哲，
申请(专利权)人：盛吉盛宁波半导体科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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