一种掩模版的缺陷检测方法及检测系统技术方案

本申请提供的掩模版的缺陷检测方法及检测系统，极紫外光束入射进入光学单元，所述光学单元改变入射的极紫外光束的光瞳分布，以得到适配检测情况的分辨率，所述极紫外光束对待检测掩模版的缺陷进行检测，本申请提供的掩模版的缺陷检测方法及检测系统，通过针对不同检测情况对分辨率的要求，改变光瞳分布即光瞳函数，从而提高缺陷检测的分辨率。从而提高缺陷检测的分辨率。从而提高缺陷检测的分辨率。

【技术实现步骤摘要】
一种掩模版的缺陷检测方法及检测系统


[0001]本专利技术属于光学检测技术，具体涉及一种掩模版的缺陷检测方法及检测系统。

技术介绍

[0002]无缺陷EUV(extremely ultraviolet)掩模制备是制约EUV光刻走向量产的关键问题之一。因此EUV掩模缺陷检测是实现EUV光刻的关键核心技术。EUV掩模缺陷可以分为振幅型缺陷和相位型缺陷两种，其中相位型缺陷是最重要的缺陷。因相位缺陷为EUV掩模版多层结构畸变引起，需要穿透多层结构进行检测，传统基于深紫外或紫外的检测方法无法满足这种要求，需要利用工作波长进行检测。
[0003]为此，研究人员利用了基于EUV波段的光源穿透多层结构进行缺陷检测的方法，其中最典型的是基于Schwarzschild光学系统的暗场检测方法。主要通过该方法由两个曲面镜和一个平面镜组成，平面镜除了对入射光具有转折作用外，还可以遮挡反射光，两曲面镜将缺陷产生的散射光收集到CCD(charge
‑
coupled device，电荷耦合元件)。该方法的缺点是由于平面反射镜的存在使得曲面反射镜不能太靠近掩模版进行缺陷检测，这就限制了缺陷散射光的接收NA(numerical aperture，数值孔径)，限制了该系统的分辨能力。所以，需一种方法能够在不改变NA，甚至放松结构对NA的严格要求的前提下，进一步地提高检测系统的分辨能力。

技术实现思路

[0004]鉴于此，有必要针对现有技术存在的缺陷提供一种提高检测系统的分辨能力的掩模版的缺陷检测方法及检测系统。<br/>[0005]为解决上述问题，本专利技术采用下述技术方案：
[0006]本申请目的之一，在于提供一种掩模版的缺陷检测方法，包括下述步骤：
[0007]极紫外光束入射进入光学单元；
[0008]所述光学单元改变入射的极紫外光束的光瞳分布，以得到适配检测情况的分辨率；
[0009]所述极紫外光束对待检测掩模版的缺陷进行检测。
[0010]在其中一些实施例中，所述光学单元包括不同相干因子的相干片，所述相干片安装于旋转盘上，通过所述旋转盘的旋转将所述旋转盘位于光路中的适当位置。
[0011]在其中一些实施例中，所述旋转盘位于光阑处。
[0012]在其中一些实施例中，所述光学单元包括沿所述极紫外光束出射方向设置的视场复眼与光阑复眼，通过所述视场复眼与光阑复眼的位置配合，从而在所述光学单元的出瞳处实现多种照明模式。
[0013]本申请目的之二，在于提供一种掩模版的缺陷检测系统，包括：
[0014]光源模块，包括用于提供极紫外光束的光源；
[0015]光学单元，所述光学单元可改变入射的极紫外光束的光瞳分布，以得到适配检测
情况的分辨率；
[0016]检测单元，所述检测单元设置有待检测掩模版，所述极紫外光束对待检测掩模版的缺陷进行检测。
[0017]在其中一些实施例中，所述光学单元包括不同相干因子的相干片，所述相干片安装于旋转盘上，通过所述旋转盘的旋转将所述旋转盘位于光路中的适当位置。
[0018]在其中一些实施例中，所述旋转盘位于光阑处。
[0019]在其中一些实施例中，所述光学单元包括沿所述极紫外光束出射方向设置的视场复眼与光阑复眼，通过所述视场复眼与光阑复眼的位置配合，从而在所述光学单元的出瞳处实现多种照明模式。
[0020]本申请采用上述技术方案具备下述效果：
[0021]本申请提供的掩模版的缺陷检测方法及检测系统，极紫外光束入射进入光学单元，所述光学单元改变入射的极紫外光束的光瞳分布，以得到适配检测情况的分辨率，所述极紫外光束对待检测掩模版的缺陷进行检测，本申请提供的掩模版的缺陷检测方法及检测系统，通过针对不同检测情况对分辨率的要求，改变光瞳分布即光瞳函数，从而提高缺陷检测的分辨率。
附图说明
[0022]为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案，下面将对本专利技术实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面所描述的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0023]图1为本专利技术实施例1提供的掩模版的缺陷检测方法的步骤流程图。
[0024]图2本专利技术实施例1提供的载有不同相干因子相干片的旋转盘。
[0025]图3本专利技术实施例1提供的具有不同照明模式的照明系统。
[0026]图4本专利技术实施例1提供的光阑复眼排布示意图。
[0027]图5本专利技术实施例1提供的光阑复眼排布示意图。
[0028]图6本专利技术实施例1提供的光阑复眼排布示意图。
具体实施方式
[0029]下面详细描述本专利技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本专利技术，而不能理解为对本专利技术的限制。
[0030]在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。
[0031]此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本专利技术的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，
除非另有明确具体的限定。
[0032]为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本专利技术进行进一步详细说明。
[0033]实施例1
[0034]请参阅图1，为本申请提供的掩模版的缺陷检测方法的步骤流程图，包括下述步骤：
[0035]步骤S110：极紫外光束入射进入光学单元。
[0036]步骤S120：所述光学单元改变入射的极紫外光束的光瞳分布，以得到适配检测情况的分辨率。
[0037]请参阅图2，为本申请一实施例提供的所述光学单元的结构示意图。
[0038]在本实施例中，光学单元包括不同相干因子的相干片110，所述相干片110安装于旋转盘120上，通过所述旋转盘120的旋转将所述旋转盘120位于光路中的适当位置。
[0039]可以理解，将不同相干因子的相干片预先装于一个旋转盘上，并根据光路结构，将旋转盘装于光路中的适当位置，例如检测系统照明部分的光阑处，从而可以根据检测要求，把使用的相干片转入到光路中应用，从而改变光瞳分布，得到适配检测情况的分辨率。
[0040]请参阅图3，为本申请另一实施例提供的所述光学单元的结构示意图。
[0041]在本实施例中，所述光学单元包括沿所述极紫外光束出射方向设置的视场复本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩模版的缺陷检测方法，其特征在于，包括下述步骤：极紫外光束入射进入光学单元；所述光学单元改变入射的极紫外光束的光瞳分布，以得到适配检测情况的分辨率；所述极紫外光束对待检测掩模版的缺陷进行检测。2.根据权利要求1所述的掩模版的缺陷检测方法，其特征在于，所述光学单元包括不同相干因子的相干片，所述相干片安装于旋转盘上，通过所述旋转盘的旋转将所述旋转盘位于光路中的适当位置。3.根据权利要求2所述的掩模版的缺陷检测方法，其特征在于，所述旋转盘位于光阑处。4.根据权利要求1所述的掩模版的缺陷检测方法，其特征在于，所述光学单元包括沿所述极紫外光束出射方向设置的视场复眼与光阑复眼，通过所述视场复眼与光阑复眼的位置配合，从而在所述光学单元的出瞳处实现多种照明模式。5.一种掩模版的缺陷检测系统，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：王丽萍，张旭，金春水，
申请(专利权)人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，
类型：发明
国别省市：