激光模块中使用的半导体激光装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种半导体激光装置、模块及方法，用于提供适于为喇曼放大器提供泵浦光源的光线。该半导体激光装置包括一被构造来发射光线的有源层、一与该有源层接触的间隔层，以及一成形在该间隔层内、并被构造来发射具有多个纵向模式的光束的衍射光栅，这些纵向模式位于该半导体装置的振荡谱的预定谱宽度内。通过改变该纵向模式之间的波长间隔和／或拓宽振荡波长谱的预定谱宽度，在振荡波长谱的预定谱宽度内提供了多个纵向模式。波长间隔通过该半导体激光装置中谐振腔的长度进行设定，同时，通过缩短衍射光栅或者在衍射光栅内改变光栅元件的间距来对振荡波长谱的预定谱宽度进行设定。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于半导体激光模块中的半导体激光装置，所述半导体激光模块适于用作喇曼放大系统中的泵浦光源。
技术介绍
近些年来，随着多媒体在因特网上的增加，产生了这样一种需求，即光通讯系统的更大数据传输能力。传统的光通讯系统是以1310nm或者1550nm的单一波长在单根光纤上对数据进行传输，该系统已经降低了光纤的光吸收性能。但是，为了提高这种单根光纤系统的数据传输能力，必须增加传输路径上所布设的光纤数目，从而导致成本发生所不希望的增加。鉴于这种情况，近年来已经开发了波分复用(WDM)光通讯系统，比如密集型波分复用(DWDM)系统，其中多个具有不同波长的光学信号可以同时通过单根光纤进行传输。这些系统通常利用一种掺铒光纤放大器(EDFA)来根据远距离传输的需要对数据光信号进行放大。利用EDFA的WDM系统起初在1550nm的波段进行工作，此波段是掺铒光纤放大器的工作波段，并且在该波段下易于获得稳定的增益均化(gain flattening)。虽然近年来利用EDFA的WDM通讯系统的应用已经拓展到1580nm的小增益系数波段，但是仍然希望存在有一种能够在EDFA波段之外进行工作的光本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种半导体装置，包括有：一个被构造来发射光线的有源层；以及一个衍射光栅，其中，所述半导体装置被构造来发射一光束，该光束在该半导体装置的振荡波长谱的预定谱宽度之内具有多个纵向模式。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：筑地直树，吉田顺自，舟桥政树，
申请(专利权)人：古河电气工业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]