一种镀膜机制造技术

一种镀膜机，其特征在于：包括真空室、基片架、镀前清洗机、AF前清洗机，所述真空室内设置有旋转平台，所述真空室绕圆周均匀设置有真空镀膜腔，所述真空室为高1.8m、直径3m的圆心结构，使得真空室体积处于6

【技术实现步骤摘要】
一种镀膜机


[0001]本专利技术涉及一种镀膜设备，具体涉及一种镀膜机。

技术介绍

[0002]目前大部分公司所使用的直列式的连续真空磁控溅射镀膜机，在使用过程中会受到前一工序中镀膜时所使用的氧气或氮气等的影响，部分氧气或者氮气串入下一工序中，使得下一工序的溅射物被前一工序的氮气或者氧气产生反应，得到该工序不需要的反应物，影响该道工序中镀膜层的效果需求，同时直列式的连续真空磁控溅射镀膜机在面对多层镀膜工艺的需求时，需要根据镀膜层数而相应加长或减少该工序的生产线，使得直列式的连续真空磁控溅射镀膜机对生产空间的要求较高，占地较大，影响成本和能耗，故现有直列式镀膜机不能满足新的镀膜工艺，使用现有的直列式的连续真空磁控溅射镀膜机对镀膜产品有影响。
[0003]CN101130452B名为“一种星型双回转磁控溅射导电玻璃镀膜生产线及生产工艺”，提到了一种星型双回转磁控溅射到点玻璃镀膜设备，该设备通过双回转可增加的控制室较少，且由于双回转的设计，使得该设备的生产路程拉长，增加了镀膜产品在磁控溅射镀膜设备内的停留时间，增加了设备故障成本，同时不利于镀膜完成后的镀膜产品质量的保障，该专利技术在针对镀膜工艺较少、产量不高的的镀膜产品时则对产品生产影响较小，但针对镀膜层数、镀膜种类多的镀膜产品，该星型双旋转溅射镀膜设备存在生产效率较低，不能满足现如今工厂产能的需求，影响了现代工厂的经济效益，现如今需要一种高适应性、高效率、高质量的新型磁控溅射镀膜机。
[0004]综上所述，需要设计一种新型磁控溅射镀膜设备来解决上述问题。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的在于为了解决上述技术问题，而提供一种镀膜设备，通过对设备所可能造成的产品缺陷的弥补，保证更高的溅射膜使用效果。
[0006]本专利技术通过以下技术方案来实现上述目的，一种镀膜机，其中：包括真空室、基片架、镀前清洗机、AF前清洗机，所述真空室内设置有旋转平台，所述真空室绕圆周均匀设置有真空镀膜腔体。
[0007]优选的，所述真空室为高1.8m、直径3m的圆心结构，使得真空室体积处于6
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18m3之间。
[0008]优选的，所述真空室为圆形立柱，内部下端安装有360
°
旋转轨道，所述轨道上设置有旋转轴承，所述旋转轴承下方设置有轴承电机，所述轴承电机与所述旋转轴承控制连接，所述真空室上端设置有传输轨道，所述360
°
旋转轨道根据设备真空镀膜腔数量对应分为若干链接点，所述链接点上均设置有光电感应器。
[0009]优选的，所述真空室通过环形设计与出片室、补充台、出片台、出片旋转接送片台、基片架回线台、进片旋转接送片台、进片台、进片室依次相连构成循环回路。
[0010]优选的，所述进片台与所述进片室之间通过阀门十一连接，所述进片室与所述真空室之间通过阀门一连接，所述真空室与所述出片室之间通过阀门十连接，所述出片室与所述补充台通过阀门十二连接。
[0011]优选的，所述真空镀膜腔体设置一个或者多个溅射室，所述旋转平台上设置有双旋转轨道，所述真空镀膜腔体均设置有轨道与所述旋转平台上的所述双旋转轨道对应，所述进片台、所述进片旋转接送片台、所述出片台、所述出片旋转接送片台、所述基片架回线台、所述进片室、所述出片室和所述补充台均设置有轨道使得所述基片架能始终在轨道上运动，所述双旋转轨道一端可绕所述旋转平台转动，所述双旋转轨道一端可绕所述旋转平台转动，所述双旋转轨道外侧设置有圆形盘，所述圆形盘绕自身转动，所述圆形盘上可同时容纳3个基片架，使得所述旋转平台可满足多个基片架同时工作运转。
[0012]优选的，所述真空镀膜腔体与真空室连接处设置有过渡仓，所述进片台和所述进片旋转接送片台设置在装片间，所述镀前清洗机后端与所述装片间连通，所述出片室、出片旋转接送片台设置在卸片间，所述AF前清洗机前端与所述卸片间连通，所述装片间与所述卸片间之间设置有所述基片架回线台。
[0013]综上所述，本专利技术包括以下至少一种有益技术效果：
[0014]（1）本专利技术所设计的一种镀膜机，最大能满足10层镀膜工艺的需求，但不影响生产4层、6层的生产率，每个镀膜腔体单独控制，镀几层膜就用几个腔室，比传统的直列式真空磁控溅射镀膜机省时间，同时本专利技术在生产工艺流程较少时，可同时进行2
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3组生产镀膜生产线，充分利用本专利技术的所有真空镀膜腔体，大大提高了工厂生产的产能效益。
[0015]（2）本专利技术所设计的镀膜机采用环形设计，与传统真空磁控溅射镀膜机比较能够减少所需的设备使用空间，并且在更改工艺过程中不需对设备进行较大更改，能降低时间成本、同时降低能耗。
[0016]（3）本专利技术所设计的一种镀膜机，同时通过对旋转平台的设置，双旋转轨道可在最大程度上提高生产效率，同时也极大的节省了空间，同时也减少了基座架在生产线中的运输路程，同时，旋转平台的的内部体积为6
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18m3，将旋转平台设计为圆形，这样使得每一个圆切点均可分割为通道，理论上每个圆切点均可作为一个通道使用，同时采用圆形腔体的结构，此时轨道相对对称，更加利于设计光电感应，能减少搬送异常，保障生产的连续性。
[0017]（4）本专利技术所设计的一种镀膜机，旋转平台的的内部体积为6
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18m3，一方面，如果旋转平台尺寸过小，不利于量产，生产的镀膜产品膜厚厚度大于200nm时，生产节拍长，设备太小，所需镀膜产品在旋转平台内部周转效率不足，会限制本专利技术的真空镀膜腔的优势，使得产能受限，同时如果旋转平台尺寸过大，材料靶材太高，不利于安装，同时磁场强度不一，生产的产品均匀性不佳，因此旋转平台内部体积6
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18m3为最佳安装体积，能同时满足生产设备对产品的各方面需要。
[0018]（5）本专利技术所设计的镀膜机每一层都单独隔离，制程气体不会乱窜，可很好的完成所需要的生产工艺的要求，确保每层的镀膜不会产生其他的干扰。
附图说明
[0019]图1是本专利技术的一种镀膜机的设备结构示意图；
[0020]图2是本专利技术的一种镀膜机的设备结构局部示意图；
[0021]图3是本专利技术的一种镀膜机的真空镀膜腔体示意图；
[0022]图4是本专利技术的一种镀膜机的真空室示意图；
[0023]图5是本专利技术的一种镀膜机的双旋转轨道结构示意图；
[0024]主要设备说明：1真空室、2真空镀膜腔体、9真空过渡腔体一、10真空过渡腔体二、11基片架、12镀前清洗机、13AF前清洗机、15溅射室、16装片间、17卸片间、18基片架回线台、101 旋转平台、102过渡仓、103双旋转轨道、104轨道、105圆形盘、106360
°
旋转轨道、107旋转轴承、108旋转轴承、109传输轨道、110链接点、111光电感应、901进片旋转接送片台、902进片台、903进片室、904阀门十一、905阀门一、1001出片室、1002补充台、1003出片台、1004出片旋转接送台、本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种镀膜机，其特征在于：包括真空室（1）、基片架（11）、镀前清洗机（12）、AF前清洗机（13），所述真空室（1）内设置有旋转平台（101），所述真空室（1）绕圆周均匀设置有真空镀膜腔体，所述真空室（1）通过环形设计与出片室（1001）、补充台（1002）、出片台（1003）、出片旋转接送片台（1004）、基片架回线台（18）、进片旋转接送片台（901）、进片台（902）、进片室（903）依次相连构成循环回路，所述进片台（902）与所述进片室（903）之间通过阀门十一（904）连接，所述进片室（903）与所述真空室（1）之间通过阀门一（905）连接，所述真空室（1）与所述出片室（1001）之间通过阀门十（1005）连接，所述出片室（1001）与所述补充台（1002）通过阀门十二（1006）连接，所述真空室（1）为圆形立柱，内部下端安装有360
°
旋转轨道（106），所述360
°
旋转轨道（106）上设置有旋转轴承（107），所述旋转轴承（107）下方设置有轴承电机（108），所述轴承电机（108）与所述旋转轴承（107）控制连接，所述真空室上端设置有传输轨道（109），所述360
°
旋转轨道（106）根据设备真空镀膜腔数量对应分为若干链接点（110），所述链接点（110）上均设置有光电感应器（111）。2.根据权利要求1所述的一种镀膜机，其特征在于：所述真空室（1）为高1.8m、直径3m的圆心结构，使...

【专利技术属性】
技术研发人员：李俊华，王文，丁家昌，艾其波，
申请(专利权)人：安徽亦高光电科技有限责任公司，
类型：新型
国别省市：