本发明专利技术涉及镀膜技术领域,具体为一种溅镀镀膜设备,包括箱体、固定连接在箱体一侧壁的固定杆、靶材支架、靶材、基片支架和基片,靶材固定安装在靶材支架的一侧,基片支架设于远离靶材一端的箱体内,基片固定安装在基片支架的一侧,所述箱体的侧壁上开设有两个对称设置的滑槽,所述基片支架的两端均固定安装有滚轮,且滚轮在滑槽的内部滑动。本发明专利技术通过设置第一活塞、第一伸缩杆等机构,镀膜开始前基片支架处于滑槽中部的平衡位置,通过观察指针所指刻度,并且根据镀膜材料的特性向第一活塞与箱体之间的空间充入或者释放氩气用来调节第一活塞的位置,实现对基片位置的调节,达到对基片镀膜时的均匀性。镀膜时的均匀性。镀膜时的均匀性。
【技术实现步骤摘要】
一种溅镀镀膜设备
[0001]本专利技术涉及镀膜
,具体为一种溅镀镀膜设备。
技术介绍
[0002]溅镀,通常指的是磁控溅镀,该工艺要求真空度在1
×
10
‑
3Torr左右,即1.3
×
10
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3Pa的真空状态充入惰性气体氩气,并在塑胶基材(阳极)和金属靶材(阴极)之间加上高压直流电,由于辉光放电产生的电子激发惰性气体,产生等离子体,等离子体将金属靶材的原子轰出,沉积在塑胶基材上。
[0003]现有专利(公告号:CN109402584A)一种溅射距离可调的磁控溅射真空镀膜装置,包括:真空室,内部设置有基片架以及输送基片架的传送机构,所述基片架底部具有研磨棒;用于托起基片架的提升机构,包括可竖直升降的提升滑块以及与提升滑块配合的提升滑座,所述提升滑块具有与所述研磨棒的端部相配合的支撑部;以及在托起基片架后驱动提升机构及基片架沿垂直传送机构行进方向移动的平移机构。
[0004]上述专利通过在传统溅镀技术限制基片与靶材之间距离的基础上设置在托起基片架后驱动提升机构及基片架沿垂直传送机构行进方向移动的平移机构,以调节基片和靶材之间的距离,使得在镀膜时可以在基片上形成均匀的膜层。但是上述专利仍存在弊端,在对基片架平移的过程中需要将基片架提升后才可再次平移,并且提升机构与平移机构所需机械元件过于复杂,不能充分体现设计的实用性。
[0005]为此,提出一种溅镀镀膜设备。
技术实现思路
[0006]本专利技术的目的在于提供一种溅镀镀膜设备,以解决上述
技术介绍
中提出传统溅镀技术限制基片与靶材之间的距离的问题。
[0007]为实现上述目的,本专利技术提供如下技术方案:
[0008]一种溅镀镀膜设备,包括箱体、固定连接在箱体一侧壁的固定杆、靶材支架、靶材、基片支架和基片,固定杆的一端固定连接在靶材支架的中部,靶材固定安装在靶材支架的一侧,基片支架设于远离靶材一端的箱体内,基片固定安装在基片支架的一侧,所述箱体的侧壁上开设有两个对称设置的滑槽,所述基片支架的两端均固定安装有滚轮,且滚轮在滑槽的内部滑动,所述基片支架的中部固定安装有第一伸缩杆,所述第一伸缩杆的一端固定安装有第一活塞,所述第一伸缩杆上套设有第一弹簧,且第一弹簧的两端分别固定连接在基片支架和第一活塞上,所述第一活塞的一侧固定安装有两个对称设置的第二弹簧,两个所述第二弹簧的一端固定安装在箱体的内部上,所述箱体的一侧内开设有第一内腔,所述第一内腔的内部固定安装有透明刻度板,所述第一活塞上固定安装有指针,所述指针的针尖指向透明刻度板的刻度;
[0009]所述箱体的一侧固定安装有收集箱,所述收集箱的内部设有用于回收再利用箱体内部的氩气的二次利用机构,所述箱体的侧壁上开设有第一凹槽,所述箱体的顶壁上开设
有第二凹槽,所述第一凹槽和第二凹槽的内部均设有用于防止箱体内氩气回流的控制机构,所述箱体的外侧设有水泵,所述箱体和靶材内设有用于降低靶材的冷却机构,所述固定杆上设有用于控制水泵启停的控制开关,所述箱体和收集箱的内部设有用于移动基片的驱动机构,所述箱体的侧壁内固定安装有通气管,所述箱体的侧壁内设有用于连通通气管并控制出气的排气机构。
[0010]通过设置第一活塞、第一伸缩杆、第二弹簧等机构,镀膜开始前利用抽真空装置将箱体内部抽成真空而减少镀膜时的氧化反应,之后充入氩气充当反应气体,此时基片支架处于滑槽中部的平衡位置,通过观察指针所指刻度,并且根据镀膜材料的特性向第一活塞与箱体之间的空间充入或者释放氩气用来调节第一活塞的位置,实现对基片位置的调节,达到对基片镀膜时的均匀性。
[0011]优选的,所述二次利用机构包括固定安装在箱体底端的真空泵,所述收集箱的底端固定安装有导气管,所述真空泵的出气管与导气管通过软管连接,所述收集箱的内部固定安装有隔板,所述隔板上开设有第一通气口,且隔板和第一通气口之间设有A分子筛,所述收集箱的侧壁上开设有第二通气口,且第二通气口和第一凹槽连通。
[0012]通过设置收集箱、4A分子筛、第一通气口等机构,镀膜结束时,箱体放大气以平衡箱体内外的压力,镀膜再次开始后,利用真空泵将箱体内部的混合气体抽入收集箱内,通过4A分子筛将混合气体中的氧气吸附而留下氩气,氩气在箱体内部真空的状态下通过第一通气口、第二通气口和第一凹槽进入箱体内,实现氩气的二次利用,节约资源。
[0013]优选的,所述控制机构包括固定安装在第一凹槽内部的固定板,所述固定板的一侧固定安装有第二伸缩杆,且的第二伸缩杆与固定板与之连接处的宽度相同,所述第二伸缩杆的一端固定安装有第一梯形活塞,所述第二伸缩杆上套接有第三弹簧,且第三弹簧的两端分别固定连接在固定板和第一梯形活塞上。
[0014]通过设置固定板、第二伸缩杆、第三弹簧等机构,当收集箱内的氩气进入箱体内时,在箱体内部真空状态下第一梯形活塞移动,从而推动第二伸缩杆和第三弹簧收缩,第一梯形活塞与第二通气口处于分离状态,收集箱内的氩气从而可以进入箱体内,然而箱体内部的氩气无法流入收集箱内,实现氩气再利用时无法回流的效果。
[0015]优选的,所述冷却机构包括开设在靶材内部的蛇形槽,所述箱体的内部设有三通接头,且蛇形槽的两端分别通过水管与水泵和三通接头连通。
[0016]通过设置蛇形槽、三通接头、水泵等机构,在镀膜过程中,随着时间的增加,靶材会产生高热,在高温的情况下对镀膜的效果会产生影响,使得基片上不能形成均匀膜层,利用水泵将冷却水抽入靶材内部,再经过三通接头流出,通过蛇形槽的设计增加冷却水与靶材的接触面积以加速散热,实现对靶材的冷却。
[0017]优选的,所述控制开关包括固定安装在固定杆上的导电块,所述导电块的上端设有导电滑块,所述导电滑块的一侧固定连接有记忆弹簧。
[0018]通过设置导电块、导电滑块、记忆弹簧等机构,在靶材产生高温时,随着时间增加靶材将温度传递给靶材支架和固定杆上,记忆弹簧在温度的影响下伸长,从而推动导电滑块移动,在导电滑块与导电块接触时,水泵在此时接通进行工作,在固定杆温度降低时,记忆弹簧收缩,导电块与导电滑块分离,此时水泵停止工作,实现对水泵启停的控制。
[0019]优选的,所述驱动机构包括固定安装在三通接头内部的汽水分离膜,所述箱体的
侧壁上固定安装有保温管,且保温管的两端分别通过导管与三通接头和收集箱连通,所述收集箱的内部滑动安装有第二活塞,所述收集箱的一侧固定安装有出气管,且第二凹槽与出气管连通,所述箱体的侧壁上固定安装有进气管,所述出气管与进气管通过软管连接。
[0020]通过设置汽水分离膜、保温管、第二活塞等机构,冷却水经过对靶材温度的吸收后变为热水,在流经三通接头时经过汽水分离膜,水蒸气进入保温管中进行保温,在镀膜开始对基片进行位置调节时打开保温管上的控制阀,水蒸气进入收集箱内增大收集箱内压强,从而推动第二活塞移动,箱体和收集箱在第二通气口处处于近平衡状态,从而氩气主要经过第二凹槽进入箱体内部,实现对基片位置的调节。
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种溅镀镀膜设备,包括箱体(1)、固定连接在箱体(1)一侧壁的固定杆(2)、靶材支架(3)、靶材(4)、基片支架(5)和基片(6),固定杆(2)的一端固定连接在靶材支架(3)的中部,靶材(4)固定安装在靶材支架(3)的一侧,基片支架(5)设于远离靶材(4)一端的箱体(1)内,基片(6)固定安装在基片支架(5)的一侧,其特征在于:所述箱体(1)的侧壁上开设有两个对称设置的滑槽(7),所述基片支架(5)的两端均固定安装有滚轮(8),且滚轮(8)在滑槽(7)的内部滑动,所述基片支架(5)的中部固定安装有第一伸缩杆(9),所述第一伸缩杆(9)的一端固定安装有第一活塞(10),所述第一伸缩杆(9)上套设有第一弹簧(11),且第一弹簧(11)的两端分别固定连接在基片支架(5)和第一活塞(10)上,所述第一活塞(10)的一侧固定安装有两个对称设置的第二弹簧(12),两个所述第二弹簧(12)的一端固定安装在箱体(1)的内部上,所述箱体(1)的一侧内开设有第一内腔(13),所述第一内腔(13)的内部固定安装有透明刻度板(14),所述第一活塞(10)上固定安装有指针(15),所述指针(15)的针尖指向透明刻度板(14)的刻度;所述箱体(1)的一侧固定安装有收集箱(16),所述收集箱(16)的内部设有用于回收再利用箱体(1)内部的氩气的二次利用机构,所述箱体(1)的侧壁上开设有第一凹槽(23),所述箱体(1)的顶壁上开设有第二凹槽(37),所述第一凹槽(23)和第二凹槽(37)的内部均设有用于防止箱体(1)内氩气回流的控制机构,所述箱体(1)的外侧设有水泵(28),所述箱体(1)和靶材(4)内设有用于降低靶材(4)温度的冷却机构,所述固定杆(2)上设有用于控制水泵(28)启停的控制开关,所述箱体(1)和收集箱(16)的内部设有用于移动基片(6)的驱动机构,所述箱体(1)的侧壁内固定安装有通气管(40),所述箱体(1)的侧壁内设有用于连通通气管(40)并控制出气的排气机构。2.根据权利要求1所述的一种溅镀镀膜设备,其特征在于:所述二次利用机构包括固定安装在箱体(1)底端的真空泵(17),所述收集箱(16)的底端固定安装有导气管(18),所述真空泵(17)的排气管与导气管(18)通过软管连接,所述收集箱(16)的内部固定安装有隔板(19),所述隔板(19)上开设有第一通气口(20),且隔板(19)和第一通气口(20)之间设有4A分子筛(21),所述收集箱(16)的侧壁上开设有第二通...
【专利技术属性】
技术研发人员:汪子健,周进,
申请(专利权)人:汪子健,
类型:发明
国别省市:
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