一种功能薄膜制造技术

本实用新型专利技术公开了一种功能薄膜，包括Sio2层、调色层、氮化碳膜层和耐磨层；基材正面沉积Sio2层，所述调色层设在Sio2层上，所述氮化碳膜层上制备耐磨层，所述氮化碳膜层和耐磨层之间均设有过渡层。本实用新型专利技术使用碳硅综合膜系改善其硬度和耐磨测试指标；膜系第一层使用sio2层打底层缓冲，第二层再叠加调色层，改善膜层颜色和光学透过效果，然后镀氮化碳膜层作为超硬耐磨功能层，叠加耐磨层实现耐磨效果增强。强。强。

【技术实现步骤摘要】
一种功能薄膜

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[0001]本技术涉及显示屏
，特别涉及一种功能薄膜。

技术介绍
：
[0002]随着手机的更新换代及人们对于高品质产品的追求，普遍的手机前后盖表面都镀有AF膜层，具有很好的疏水、抗指纹、抗油污能力。有些高端品牌还镀有AR减反膜层加AF膜层，显示更清晰。但是使用一段时间后，随着手滑动手机屏幕和衣服摩擦的次数增多，表面的AR和AF膜层逐渐的刮伤、脱落，失去了上面优良的性能，耐磨效果明显不足。

技术实现思路

[0003]本技术提出一种功能薄膜,以提高玻璃表面抗划伤、橡皮摩擦、钢丝绒摩擦效果。
[0004]为了实现以上目的，本技术采用的技术方案为：
[0005]一种功能薄膜，包括打底层、调色层、氮化碳膜层和耐磨层；
[0006]基材正面沉积Sio2层作为打底层，所述调色层设在打底层上，所述氮化碳膜层上制备耐磨层。
[0007]本技术的进一步技术：
[0008]优选的，所述调色层采用Si3N4层和Sio2层交替组合的2层以上膜系。
[0009]优选的，所述氮化碳膜层和耐磨层之间均设有过渡层。
[0010]优选的，所述过渡层采用Sio2层。
[0011]本技术具有以下有益效果：
[0012]使用碳硅综合膜系改善其硬度和耐磨测试指标；膜系第一层使用sio2层打底层缓冲，第二层再叠加调色层，改善膜层颜色和光学透过效果，然后镀氮化碳膜层作为超硬耐磨功能层，叠加AF耐磨层实现耐磨效果增强。
附图说明
[0013]为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0014]图1为本技术产品结构示意图；
[0015]图2为本技术产品具体膜层结构示意图。
具体实施方式:
[0016]下面将结合本技术实施例，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。
[0017]一种功能薄膜，膜层设计如图1：
[0018]基材1以上，第一层使用sio2层2打底层缓冲，增加整个膜层的附着力；
[0019]第二层再叠加调色层3，所述调色层采用Si3N4层和Sio2层交替组合的2层以上膜系。调色层作用：电子产品选用玻璃基材，一般要求都是无色透明，透过率要高，通常镀AR增加透过率，使显示效果更加清晰。下一层是氮化碳CNx，氮化碳本身颜色偏淡黄向，用在电子产品上影响视觉效果。通过调色层能很好减少膜层偏黄。同时调色层组合还能起到AR增透的效果。
[0020]然后镀氮化碳膜层4作为超硬耐磨功能层，叠加耐磨层(AF)5实现耐磨效果增强。
[0021]所述氮化碳膜层和耐磨层之间设有过渡层6。
[0022]过渡层采用Sio2层，起到缓冲和增强耐磨层(AF)膜层附着力。
[0023]镀膜工艺
[0024]如图2，首先在玻璃基材1上镀一层薄薄的Sio2层2，镀Sio2用中频电源溅射，功率设12KW，电压在400vv,氩气流量600sccm，氧气流量在80sccm。膜厚用晶控仪控制，厚度在10nm。
[0025]接着镀调色层3，采用第一Si3N4层31、第一Sio2层32、第二Si3N4层33交替组合的膜系。
[0026]镀第一Si3N4层的工艺参数设置：靶功率10KW,靶电压为400V、氩气供气量为200sccm,氮气流量在200sccm,膜层厚度15nm。
[0027]镀第一Sio2层的工艺参数设置：靶功率12KW，靶电压为300V，氩气供气量为200sccm，氧气供气量为100sccm,膜层厚度86nm。
[0028]镀第二Si3N4层的工艺参数设置：靶功率10KW,靶电压为400V、氩气供气量为2000sccm,氮气流量在200sccm,膜层厚度5nm。
[0029]接着镀氮化碳膜层4，氮化碳采用直流溅射的方法，在高真空的镀膜室充入高纯氮气和氩气，氩气作为辅助溅射气体，流量在200sccm。氮气作为反应气体，流量在150sccm。石墨靶采用大功率溅射方法，电流在20A，大电流溅射出的碳原子能量密度大，能充分的与氮离子结合形成稳定氮化碳。膜层厚度10nm，都能起到很好效果。
[0030]接着镀过渡层6,过渡层采用Sio2层，镀Sio2层的工艺参数设置：靶功率12KW，靶电压为300V，氩气供气量为200sccm，氧气供气量为100sccm，膜层厚度在8nm。
[0031]最后蒸镀耐磨层5，AF药丸采用市面上常用的都可以，采用电阻加热的方式，将AF药水均匀蒸发到产品的膜层表面。AF蒸发的工艺参数：加热电流500A，膜层厚度在25nm。
[0032]通过以上的工艺方法，能得到稳定氮化碳组合的膜层，从而使玻璃耐磨性能指标得到提高，能广泛应用在电子产品领域。
[0033]以上显示和描述了本技术的基本原理、主要特征和本技术的优点。本行业的技术人员应该了解，本技术不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本技术的原理，在不脱离本技术精神和范围的前提下，本技术还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本技术范围内。本技术要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种功能薄膜，其特征在于：包括打底层、调色层、氮化碳膜层和耐磨层；基材正面沉积Sio2层作为打底层，所述调色层设在打底层上，所述氮化碳膜层上制备耐磨层。2.根据权利要求1中所述的一种功能薄膜，其特征在于：所述调色层采用Si...

【专利技术属性】
技术研发人员：尤俊衡，李俊华，艾其波，张东东，
申请(专利权)人：安徽亦高光电科技有限责任公司，
类型：新型
国别省市：