【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种半导体激光器,更具体地涉及一种表面发射激光器和垂直外腔面发射激光器(vertical external cavity surface emitting laser,VECSEL)。
技术介绍
参考图1A,以截面图方式说明了一种传统的垂直腔面发射激光器(VCSEL)。如说明的,该VCSEL的各个层包括n-GaAs(砷化镓)衬底2、在n-DBR(分布式布喇格反射器)层4和p-DBR(分布式布喇格反射器)层8之间的有源层6、和顶导电层10。腔12垂直于上述层,其使得光束在垂直方向上发射。在所述结构中孔大约是20μm。然而,如重叠曲线14所说明,由于在有源层中的不均匀载流子分布(电流拥挤),传统的VCSEL设计受基本横向作用方式的限制。例如,很难完成具有大于7-8μm的孔产生单模式信号的设计,这限制了传统VCSEL中的基本横向功率模式。图1B说明了在美国专利No.6,243,407中公开的洛瓦鲁可斯延伸腔表面发射激光器(Novalux Extended Cavity Surface Emitting Laser,NECSEL)的相关技术。NECSEL ...
【技术保护点】
一种表面发射激光装置,包括: 设置在第一电极层和第一反射层之间的第一衬底; 设置在所述第一反射层和第二反射层之间的有源区,其中电流阻挡层设置在所述有源区和第二电极层之间以形成孔; 设置在所述第二电极层和所述第二反射层之间的第一半导体层,其中所述第二电极层具有基本与所述孔对准的开口;及 在位于所述孔和所述第二电极的开口之间的腔中的电流漏斗区,其中配置电流漏斗区以促进腔内的传导。
【技术特征摘要】
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