阵列基板、彩膜基板及其制备方法、显示面板技术

技术编号:33126383 阅读:11 留言:0更新日期:2022-04-17 00:36
本申请公开了阵列基板、彩膜基板及其制备方法、显示面板,阵列基板分为显示区和非显示区,阵列基板包括第一绝缘层,第一绝缘层位于显示区以及非显示区,阵列基板还包括第一散热层,第一散热层设置于非显示区的第一绝缘层中。本申请通过在基板的非显示区设置散热层,并利用散热层的相变吸收热量,能够有效降低基板温度,从而降低面板液晶极化的风险,提高产品的品质。品的品质。品的品质。

【技术实现步骤摘要】
阵列基板、彩膜基板及其制备方法、显示面板


[0001]本申请涉及显示
,尤其是涉及阵列基板、彩膜基板及其制备方法、显示面板。

技术介绍

[0002]随着光电显示技术和半导体制造技术的发展,薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor

Liquid Crystal Display,简称TFT

LCD)凭借其轻薄、节能、显示品质高以及制作工艺成熟稳定等优势,已经成为显示面板的主流。TFT

LCD主要包括阵列(Array)基板和彩膜基板(Color Filter,CF),以及配置于阵列基板和彩膜基板之间的液晶层(Liquid Crystal,LC)。
[0003]在TFT

LCD中,液晶的电学和光学特性直接影响到显示的效果。液晶是介于液晶盒结晶态之间的软物质,兼有液体的流动性和晶体的光学各向异性。普通液晶在室温下,为黏性流体状态,如果温度上升到80℃左右,就达到了液晶的清亮点,而液晶到达清亮点会发生极化,继而影响显示效果。
[0004]现有技术中,通常在阵列基板上采用栅驱动集成(Gate driven on Array,GOA)设计代替集成电路驱动,以降低液晶面板的制备成本。然而,GOA的功耗较高,会导致金属走线(bus line)的负载变大,在对产品进行高温老化实验的时候,炉内高温导致金属线路阻值增加,TFT漏电增加,GOA中的各线路电流也增加,导致面板内产生高温,致使液晶达到清亮点发生极化,造成显示不良,最终影响产品品质。

技术实现思路

[0005]本申请主要解决的技术问题是提供阵列基板、彩膜基板及其制备方法、显示面板,通过在基板的非显示区设置散热层,能够解决基板内高温导致液晶极化的问题。
[0006]为解决上述技术问题,本申请采用的第一技术方案是提供一种阵列基板,阵列基板分为显示区和非显示区,阵列基板包括第一绝缘层,第一绝缘层位于显示区以及非显示区,阵列基板还包括第一散热层,第一散热层设置于非显示区的第一绝缘层中。
[0007]因此,第一散热层能够有效降低阵列基板的环境温度,避免液晶层极化。
[0008]其中,第一散热层设置于显示区的四周。
[0009]因此,第一散热层能够有效避免显示区四周位置的液晶发生极化。
[0010]其中,第一散热层包括多个第一散热块,多个第一散热块间隔设置,且分散于非显示区。
[0011]因此,第一散热块间隔设置,可以降低第一散热层的有效面积,从而降低散热材料的使用量,继而降低制备成本。
[0012]为解决上述技术问题,本申请采用的第二技术方案是提供一种彩膜基板,彩膜基板分为显示区和非显示区,彩膜基板包括平坦层,平坦层位于显示区以及非显示区,彩膜基板还包括第二散热层,第二散热层设置于非显示区的平坦层中。
[0013]因此,第二散热层能够有效降低彩膜基板的环境温度,避免液晶层极化。
[0014]其中,第二散热层设置于显示区的四周。
[0015]因此,第二散热层能够有效避免显示区四周位置的液晶发生极化。
[0016]为解决上述技术问题,本申请采用的第三技术方案是提供一种阵列基板的制备方法,包括:获取第一基板,在第一基板的非显示区上依次形成栅极绝缘层、第一金属层以及第一绝缘层;利用第一光罩对位于非显示区的第一绝缘层进行曝光、显影,以在第一绝缘层上形成多个均匀分布的第一凹槽;在第一凹槽内填充散热材料,以形成第一散热层。
[0017]因此,通过在阵列基板的非显示区设置第一散热层,并利用第一散热层的相变吸收热量,能够有效降低阵列基板温度,从而降低面板液晶极化的风险,提高产品的品质。
[0018]其中,第一凹槽均匀分布在显示区的四周。
[0019]因此,第一凹槽分布在显示区的四周,后续填充散热材料后,能够有效对显示区的边缘进行散热,从而避免液晶因高温极化而影响显示效果。
[0020]其中,散热材料的相变温度为50~70℃,散热材料包括有机硅材料或石墨烯材料。
[0021]因此,散热材料能够在液晶达到清亮点(70~100℃)前发生相变,从固态变成液态,并在温度更高时,从液态变成气态,以吸收更多热量。
[0022]为解决上述技术问题,本申请采用的第四技术方案是提供一种彩膜基板的制备方法,包括:获取第二基板,在第二基板的非显示区上依次形成黑矩阵以及平坦层;利用第二光罩对位于非显示区的平坦层进行曝光、显影,以在平坦层上形成多个均匀分布的第二凹槽;在第二凹槽内填充散热材料,以形成第二散热层。
[0023]通过在彩膜基板的非显示区设置第二散热层,并利用第二散热层的相变吸收热量,能够有效降低彩膜基板温度,从而降低面板液晶极化的风险,提高产品的品质。
[0024]其中,第二凹槽均匀分布在显示区的四周。
[0025]因此,第二凹槽分布在显示区的四周,后续填充散热材料后,能够有效对显示区的边缘进行散热,从而避免液晶因高温极化而影响显示效果。
[0026]为解决上述技术问题,本申请采用的第五技术方案是提供一种显示面板的制备方法,包括:获取上述的阵列基板以及上述的彩膜基板;在阵列基板或彩膜基板上注入液晶,并对阵列基板与彩膜基板进行对盒,以形成显示面板。
[0027]因此,通过在阵列基板与彩膜基板的显示区四周的非显示区均上设置散热层,能够有效降低显示面板的温度,从而降低面板液晶极化的风险,提高产品的品质。
[0028]本申请的有益效果是:区别于现有技术,本申请提供一种阵列基板与彩膜基板及其制备方法、显示面板制备方法,通过在基板的非显示区设置散热层,并利用散热层的相变吸收热量,能够有效降低基板温度,从而降低面板液晶极化的风险,提高产品的品质。
附图说明
[0029]为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0030]图1是本申请阵列基板第一实施例的俯视图;
[0031]图2是图1中阵列基板的剖面结构示意图;
[0032]图3是本申请阵列基板的制备方法一实施方式的流程示意图;
[0033]图4是本申请彩膜基板第一实施例的俯视图;
[0034]图5是图4中彩膜基板的剖面结构示意图;
[0035]图6是本申请彩膜基板的制备方法一实施方式的流程示意图;
[0036]图7是本申请显示面板的制备方法一实施方式的流程示意图。
[0037]附图标记说明:
[0038]100

阵列基板;10

显示区;20

非显示区;101

第一基板;
[0039]102

栅极绝缘层;201
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板,所述阵列基板分为显示区和非显示区,所述阵列基板包括第一绝缘层,所述第一绝缘层位于所述显示区以及所述非显示区,其特征在于,所述阵列基板还包括第一散热层,所述第一散热层设置于所述非显示区的所述第一绝缘层中。2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述第一散热层设置于所述显示区的四周。3.根据权利要求1或2所述的阵列基板,其特征在于,所述第一散热层包括多个第一散热块,所述多个第一散热块间隔设置,且分散于所述非显示区。4.一种彩膜基板,所述彩膜基板分为显示区和非显示区,所述彩膜基板包括平坦层,所述平坦层位于所述显示区以及所述非显示区,其特征在于,所述彩膜基板还包括第二散热层,所述第二散热层设置于所述非显示区的所述平坦层中。5.根据权利要求4所述的彩膜基板,其特征在于,所述第二散热层设置于所述显示区的四周。6.一种阵列基板的制备方法,其特征在于,包括:获取第一基板,在所述第一基板的非显示区上依次形成栅极绝缘层、第一金属层以及第一绝缘层;利用第一光罩对位于所述非显示区的所述第一绝缘层进行曝光、显影...

【专利技术属性】
技术研发人员:熊钦孙松卢劲松蒲洋洪文进许哲豪李荣荣
申请(专利权)人:惠科股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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