【技术实现步骤摘要】
本申请涉及显示，具体涉及一种显示装置及其制备方法。
技术介绍
1、micro led结合量子点的技术在显示领域具有较大的潜力，相关技术中，量子点在形成微小化图形的时候，量子点图形容易发生膜厚不均、边缘形貌不整齐等现象，导致显示装置出光效果不同，影响产品的显示品味。
技术实现思路
1、本申请的目的在于提供一种显示装置及其制备方法，以解决相关技术中量子点在形成的时候容易发生膜厚不均、边缘形貌不整齐等现象的技术问题。
2、第一方面，本申请提供了一种显示装置及其制备方法，包括：
3、提供承载基板；
4、提供发光层并形成像素定义层，其中，所述发光层包括多个依次间隔设置的第一发光部、第二发光部及第三发光部，所述像素定义层包括挡墙部及多个依次间隔设置的第一像素开口、第二像素开口和第三像素开口，所述像素定义层围设所述发光层，所述第一发光部设于所述第一像素开口内，所述第二发光部设于所述第二像素开口内，所述第三发光部设于所述第三像素开口内；
5、涂布、加热并研磨...
【技术保护点】
1.一种显示装置制备方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的显示装置制备方法，其特征在于，所述提供发光层并形成像素定义层后，包括：
3.根据权利要求2所述的显示装置制备方法，其特征在于，所述涂布、加热并研磨第一量子点层，在所述第一像素开口形成第一量子点部中，包括：
4.根据权利要求3所述的显示装置制备方法，其特征在于，所述涂布、加热并研磨第一量子点层，在所述第一像素开口形成第一量子点部后，包括：
5.根据权利要求4所述的显示装置制备方法，其特征在于，所述涂布、加热并研磨第二量子点层，在所述第二像素开口形成第二量
【技术特征摘要】
1.一种显示装置制备方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的显示装置制备方法，其特征在于，所述提供发光层并形成像素定义层后，包括：
3.根据权利要求2所述的显示装置制备方法，其特征在于，所述涂布、加热并研磨第一量子点层，在所述第一像素开口形成第一量子点部中，包括：
4.根据权利要求3所述的显示装置制备方法，其特征在于，所述涂布、加热并研磨第一量子点层，在所述第一像素开口形成第一量子点部后，包括：
5.根据权利要求4所述的显示装置制备方法，其特征在于，所述涂布、加热并研磨第二量子点层，在所述第二像素开口形成第二量子点部后，包括：
6.根据权利要求2所述的显示装置制备方法，其特征在于，所述挡墙部背离所述承载基板的一端与所述承载基板之间的距离为第一尺...
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