稀药液供给装置制造方法及图纸

稀药液供给装置(1)包括：调制稀药液(W1)的稀药液调制部(2)；所调制的稀药液的贮存槽(3)；将贮存于该贮存槽(3)的稀药液(W1)作为清洗水(W2)，向多台单张式清洗机(5A、5B、5C)供给的稀药液调节供给机构(4)；以及分别与单张式清洗机(5A、5B、5C)连接并将该单张式清洗机的剩余水回流至贮存槽(3)的回送机构。如果是这样的稀药液供给装置，则能高精度地调节稀药液的溶质浓度，且能够抑制剩余水的排出，适用于晶片等的清洗。晶片等的清洗。晶片等的清洗。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】稀药液供给装置


[0001]本专利技术涉及一种稀药液供给装置，其能稳定且高效地供给以极低浓度含有在半导体用晶片等的清洗和冲洗工序中有效的碱、氧化剂、气体等溶质的稀药液。

技术介绍

[0002]在半导体的制造工序中，在半导体用硅晶片等的清洗工序中，使用在超纯水中以极低浓度溶解对pH或氧化还原电位的控制有效的溶质而成的水(以下，有时称作稀药液)。该稀药液以超纯水为基本材料，为了赋予符合清洗工序或冲洗工序等各个工序的目的的pH或氧化还原电位等液体性质，有时添加酸或碱、氧化剂或还原剂。在这种情况下，为了不对硅晶片产生过度的影响，希望这些的添加量是需要的最少量。在此，在pH调节中，通常使用微量添加(注药)HCl或NH4OH的方法。另外，在将气体溶解于超纯水中以调节pH或保持非活性化的情况下，溶解CO2气体或N2气体。此外，在想要赋予还原性的情况下，也溶解H2气体。
[0003]作为这样的药液的添加方法，使用柱塞泵等泵的方法、由N2气等非活性气体将填充到密闭容器中的药液加压挤出的方法等已实用化。
[0004]在这种情况下，如果超纯水的流量恒定，则注药容易到达所期望的溶质浓度，但实际上，在使用稀药液的清洗机，尤其是具有多个清洗腔室的单张式清洗机中，由于向晶片浇注的水的供给和停止由多个阀的开闭来控制，因此稀药液的流量不规则地变动。针对该变动，通过比例控制或接收浓度监测器的信号的PID控制等各种方法来控制相对于超纯水流量的药液的添加量，以使稀药液的溶质浓度处于所期望的范围。

技术实现思路

[0005]专利技术要解决的课题
[0006]如上所述，单张式清洗机中流量不规则地变动，但不能够实现能充分地追踪该不规则的流量变动的注药控制，其结果是，存在向晶片浇注的清洗水和冲洗水的液质，不得不被控制在脱离理想值的范围的宽范围内的问题。
[0007]因此，考虑优先稀药液浓度的稳定化，并在一定条件下制造过量的稀药液并持续供给，但在这种情况下，会大量排出剩余稀药液。在近年的具有多个清洗腔室的单张式清洗机中，瞬时需要的稀药液的最大流量与最低流量的差增大，但当连续供给比稀药液的最大流量还多的稀药液时，会排出相当多的剩余水(剩余稀药液)，在对用排水设备的负担、稀药液的过剩排出、以及过度浪费作为基本材料的超纯水等方面存在问题。
[0008]就将剩余水(剩余稀药液)、尤其是通过加热装置后的剩余水直接再利用而言，由于H2O2或O3等具有氧化性的氧化剂具有因其自身的自然分解以及与其他药液的反应而分解使得浓度变动的倾向，因此从严格的浓度控制的观点出发，并不适合。同样地，在溶解了H2气体、CO2气体等的气体溶解水的剩余水中，也存在在经过具有气体透过性的管道或罐回送至贮存槽的期间，溶解的气体浓度降低的问题。
[0009]本专利技术是鉴于上述课题而完成的，其目的是提供一种能高精度地调节稀药液的溶
质浓度且抑制剩余水的排出的、适用于晶片等的清洗的稀药液供给装置。
[0010]解决课题的技术方案
[0011]为了达成上述目的，本专利技术提供一种稀药液供给装置，其中，具备：稀药液制造部，通过相对于超纯水的流量添加规定量的药液，以制造该药液的规定浓度的稀药液；贮存槽，贮存所制造的该稀药液；稀药液供给机构，将所述稀药液向使用点供给；以及回送机构，具备将所述使用点处的剩余稀药液回送至贮存槽的回送配管和设置于该回送配管的中途的所述药液成分的浓度检测机构(专利技术1)。
[0012]根据该专利技术(专利技术1)，能够相对于超纯水添加规定量的药液以制造规定浓度的稀药液后，暂时贮存于贮存槽，并从该贮存槽向使用点供给。并且，剩余的稀药液在检测药液成分的浓度后回送至贮存槽，通过适当地管理贮存槽的稀药液浓度，能够再利用剩余的稀药液。
[0013]在上述专利技术(专利技术1)中，优选所述稀药液供给机构具备将规定的气体成分溶解于从所述贮存槽供给的稀药液中的气体溶解机构(专利技术2)。
[0014]根据该专利技术(专利技术2)，能够做成在稀药液中又溶解了气体的药液。
[0015]在上述专利技术(专利技术1、2)中，优选所述稀药液制造部具备添加所述药液的柱塞泵(专利技术3)。
[0016]根据该专利技术(专利技术3)，通过柱塞泵相对于超纯水的流量控制微量的药液的添加量，能够向贮存槽稳定地供给规定浓度的稀药液。
[0017]在上述专利技术(专利技术1、2)中，优选稀药液制造部具备包括贮存所述药液的密闭罐和向该密闭罐供给非活性气体的非活性气体供给机构的药液添加装置(专利技术4)。
[0018]根据该专利技术(专利技术4)，相对于超纯水的流量，使非活性气体挤出药液以供给规定量的药液，从而能够向贮存槽稳定地供给规定浓度的稀药液。
[0019]在上述专利技术(专利技术1～4)中，优选在所述贮存槽中设置有检测该贮存槽的水位的液位传感器，基于该液位传感器的贮存槽的水位信息，能控制稀药液制造部中的稀药液的制造和停止(专利技术5)。
[0020]根据该专利技术(专利技术5)，当贮存槽的水位低于一定液位时，使稀药液制造部工作，由此能够高效地制造稀药液，并能够消除剩余水的产生。
[0021]在上述专利技术(专利技术1～5)中，优选所述贮存槽具备排出机构(专利技术6)。
[0022]根据该专利技术(专利技术6)，将所述稀药液不贮存于所述贮存槽中而排出，直至所述稀药液稳定于所述规定浓度，由此能够将规定浓度的稀药液贮存于贮存槽内，因此能高精度地控制向使用点供给的稀药液的浓度。
[0023]在上述专利技术(专利技术5、6)中，优选所述稀药液供给装置能调节所述稀药液制造部中的稀药液的制造量(专利技术7)。
[0024]根据该专利技术(专利技术7)，通过根据贮存槽的水位调节稀药液的制造量，能够高效地控制贮存槽的水位。
[0025]在上述专利技术(专利技术1～7)中，优选所述贮存槽并列设置有2个以上(专利技术8)。
[0026]根据该专利技术(专利技术8)，通过使向使用点供给稀药液的贮存槽和贮存稀药液的贮存槽，能高精度地控制向使用点供给的稀药液的浓度。
[0027]在上述专利技术(专利技术2～8)中，优选在所述气体溶解机构的前段具备除去所述稀药液
中的溶解气体的气体除去机构(专利技术9)。
[0028]根据该专利技术(专利技术9)，能够将从气体溶解机构供给的气体高精度且有效地溶解于稀药液中。
[0029]专利技术效果
[0030]根据本专利技术的稀药液供给装置，由于能够在检测向使用点供给后的剩余稀药液的药液成分的浓度后回送至贮存槽，因此通过适当地管理贮存槽的稀药液浓度，能够再利用剩余稀药液。由此，能够减少作为所使用的原水的超纯水。
附图说明
[0031]图1是表示本专利技术的第一实施方式的稀药液供给装置的流程图。
[0032]图2是表示该第一实施方式的稀药液供给装置的稀药液调制部的一个例子的流程图。
[0033]图3是表示该第一实施方式的稀药液供给装置的贮存槽的一个例子的流程图。
[0034]图4是表示本专利技术的第二实施方式的稀药液供给装置的流程图。
[0035]图5是表示稀药液调本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种稀药液供给装置，其中，具备：稀药液制造部，通过相对于超纯水的流量添加规定量的药液，以制造该药液的规定浓度的稀药液；贮存槽，贮存所制造的该稀药液；稀药液供给机构，将所述稀药液向使用点供给；以及回送机构，具备将所述使用点处的剩余的稀药液回送至贮存槽的回送配管和设置于该回送配管的中途的所述药液成分的浓度检测机构。2.如权利要求1所述的稀药液供给装置，其中，所述稀药液供给机构具备将规定的气体成分溶解于从所述贮存槽供给的稀药液中的气体溶解机构。3.如权利要求1或2所述的稀药液供给装置，其中，所述稀药液制造部具备添加所述药液的柱塞泵。4.如权利要求1或2所述的稀药液供给装置，其中，稀药液制造部具备包括贮存所述药液的密闭罐和向该密闭罐供给非活...

【专利技术属性】
技术研发人员：饭野秀章，
申请(专利权)人：栗田工业株式会社，
类型：发明
国别省市：