等离子清洗机制造技术

本发明专利技术公开一种等离子清洗机，该等离子清洗机包括等离子清洗机本体和物料放置轨道；所述物料放置轨道用于放置待清洗物料，所述物料放置轨道设于所述等离子清洗机本体内，所述物料放置轨道的裸露面喷涂有复合陶瓷材料。本发明专利技术技术方案通过改变传统的普通物料放置轨道，在物料放置轨道的裸露面喷涂有复合陶瓷材料，利用复合陶瓷材料的电子绝缘性能，确保物料清洗均匀性、保证等离子清洗能量、延长物料放置轨道使用周期、提高物料清洗的时效性。提高物料清洗的时效性。提高物料清洗的时效性。

【技术实现步骤摘要】
等离子清洗机


[0001]本专利技术涉及等离子清洗设备
，特别涉及一种等离子清洗机。

技术介绍

[0002]等离子清洗机采用气体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗对被清洗物带来的二次污染。等离子清洗机外接一台真空泵，工作时等离子清洗腔中的工艺气体在射频激发下产生等离子体并不断撞击材料表面，同时与被清洗物料表面发生化学反应，短时间的清洗便可以使有机污染物被有效地清洗掉，之后污染物脱离后被真空泵抽走，等离子清洗机除了具有超清洗功能外，在特定条件下还可根据需要改变某些材料表面的性能。
[0003]现有等离子清洗机的物料放置轨道，一般采用普通钢、不锈钢、铝、高级工程塑料等材料。
[0004]普通钢表面处理做物料放置轨道时，因普通钢主要成分是铁无素容易被磁化，轨道被磁化后在其周围形成强弱不同的磁场，等离子体中的电子和正离子都在作高速运动，由于非均匀磁场的作用，运动的带电粒子会发生一种垂直于磁场方向的漂移，引起清洗腔体内的等离子体分布不均匀，影响物料清洗的均匀性。
[0005]不锈钢与铝等非磁性金属材料做轨道时，轨道导电性良好，轨道与清洗物料表面会形成等离子鞘层，等离子清洗首先需要突破鞘层阻挡，才能对物料表面完成清洗，离子能量会有部分损失，清洗效果欠佳。
[0006]高级工程塑料等非金属材料做轨道，清洗效果良好，但工程塑料在高能离子的轰击会分解为其它物质，或挥发后粘到清洗腔体内璧及清洗物料表面，影响物料的清洗效果，且长期使用轨道的重量损失明显，需要经常更换。
[0007]同时，QFN物料键合一片料的时间约需40
‑
60分钟，通常生产中每盒料放置10个料片，因此一盒料打线完成需要400
‑
600分钟，清洗完成的物料普遍要求8小时水滴角小于50度，而现有等离子清洗机物料的放置轨道进行清洗物料，QFN物料清洗完成一般4小时左右水滴角就回升到50度左右，客户为减少打线告警率及打线的可靠性，只能减少每盒料的放置数量或打线异常时进行二次清洗。如此，等离子清洗的物料时效性差，清洗效果不佳。

技术实现思路

[0008]本专利技术的主要目的是提出一种等离子清洗机，旨在解决等离子清洗机清洗效果不佳的问题。
[0009]为实现上述目的，本专利技术提出的等离子清洗机，该等离子清洗机包括等离子清洗机本体；
[0010]物料放置轨道，用于放置待清洗物料，所述物料放置轨道设于所述清洗机本体，所述物料放置轨道的裸露面喷涂有复合陶瓷材料。
[0011]在一实施例中，所述复合陶瓷材料由氧化铝和氧化硅组成，所述氧化铝占比65％至75％，所述氧化硅占比25％至35％。
[0012]在一实施例中，所述复合陶瓷材料通过等离子喷涂在所述物料放置轨道的裸露面。
[0013]在一实施例中，所述物料放置轨道包括多个支撑架和底座，多个所述支撑架设于所述底座上，所述支撑架用于放置所述待清洗物料，所述支撑架和所述底座的每个裸露面均等离子喷涂有所述复合陶瓷材料。
[0014]在一实施例中，所述支撑架包括固定支撑架和活动支撑架，所述活动支撑架与所述固定支撑架彼此交错间隔排布，所述固定支撑架和所述活动支撑架的每个裸露面均等离子喷涂有所述复合陶瓷材料。
[0015]在一实施例中，所述底座包括活动底板和固定导轨，所述活动底板可活动地设于所述固定导轨，所述活动支撑架固定于所述活动底板上，多个所述固定支撑架固定于所述固定导轨上，所述固定导轨和所述活动底板的每个裸露面均等离子喷涂有所述复合陶瓷材料。
[0016]在一实施例中，所述活动底板连接有驱动件，所述驱动件驱动所述活动底板在所述滑槽上滑动。
[0017]在一实施例中，所述固定导轨呈中空设置，所述固定导轨的两侧均设有滑槽，所述活动底板可滑动地连接于两所述滑槽。
[0018]在一实施例中，每个所述固定支撑架之间间距相等。
[0019]在一实施例中，多个所述活动支撑架与多个所述固定支撑架相互平行。
[0020]本专利技术技术方案通过改变传统的普通物料放置轨道，在物料放置轨道的裸露面喷涂复合陶瓷材料，利用复合陶瓷材料的电子绝缘性能，确保物料清洗均匀性、保证等离子清洗能量、延长物料放置轨道使用周期、提高物料清洗的时效性。
附图说明
[0021]为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。
[0022]图1为本专利技术等离子清洗机一实施例的物料放置轨道的结构示意图；
[0023]图2为本专利技术等离子清洗机一实施例的物料放置轨道的另一角度结构示意图；
[0024]图3为本专利技术等离子清洗机一实施例的固定导轨的结构示意图；
[0025]图4为本专利技术等离子清洗机一实施例的支撑架的部分结构示意图；
[0026]图5为本专利技术等离子清洗机一实施例的活动底板的结构示意图；
[0027]图6为本专利技术等离子清洗机一实施例的清洗实验数据图；
[0028]图7为本专利技术等离子清洗机一实施例的氧化铝与氧化硅不同配比的清洗实验数据图。
[0029]附图标号说明：
[0030]标号名称标号名称100支撑架210活动底板110活动支撑架220固定导轨
120固定支撑架221滑槽200底座
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[0031]本专利技术目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。
具体实施方式
[0032]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0033]需要说明，若本专利技术实施例中有涉及方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后
……
)，则该方向性指示仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。
[0034]另外，若本专利技术实施例中有涉及“第一”、“第二”等的描述，则该“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，若全文中出现的“和/或”的含义为，包括三个并列的方案，以“A和/或B”为例，包括A方案，或B方案，或A和B同时满足的方案。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本专利技术要求的保护范围之内。...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种等离子清洗机，其特征在于，包括等离子清洗机本体；物料放置轨道，用于放置待清洗物料，所述物料放置轨道设于所述等离子清洗机本体内，所述物料放置轨道的裸露面喷涂有复合陶瓷材料。2.如权利要求1所述的等离子清洗机，其特征在于，所述复合陶瓷材料由氧化铝和氧化硅组成，所述氧化铝占比65％至75％，所述氧化硅占比25％至35％。3.如权利要求2所述的等离子清洗机，其特征在于，所述复合陶瓷材料通过等离子喷涂在所述物料放置轨道的裸露面。4.如权利要求3所述的等离子清洗机，其特征在于，所述物料放置轨道包括多个支撑架和底座，多个所述支撑架设于所述底座上，所述支撑架用于放置所述待清洗物料，所述支撑架和所述底座的每个裸露面均等离子喷涂有所述复合陶瓷材料。5.如权利要求4所述的等离子清洗机，其特征在于，所述支撑架包括固定支撑架和活动支撑架，所述活动支撑架与所述固定支撑架彼此交错间隔排布，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：孔令民，钟军勇，邵文林，朱霆，周学慧，张凯，
申请(专利权)人：深圳泰德半导体装备有限公司，
类型：发明
国别省市：