【技术实现步骤摘要】
一种操作方便的CVD蚀刻方法和蚀刻装置
[0001]本专利技术涉及蚀刻装置
，具体为一种操作方便的CVD蚀刻方法和蚀刻装置。
技术介绍
[0002]众所周知，随着科技的发展，蚀刻技术也随着出现，蚀刻技术的出现给人们带来了很大的便利，蚀刻是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术，蚀刻技术可以分为湿蚀刻和干蚀刻两类。
[0003]现有的设备在使用时，不方便清洗需要蚀刻的基材，设备的烘干效果差，会影响设备加工的效果。
技术实现思路
[0004](一)解决的技术问题
[0005]针对现有技术的不足，本专利技术提供了一种操作方便的CVD蚀刻方法和蚀刻装置，解决了目前设备不方便清洗和烘干效果差的问题。
[0006](二)技术方案
[0007]为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种操作方便的CVD蚀刻装置，包括底座，所述底座顶部设有水箱、放置台、热风发生器、加热箱和蚀刻仓，所述水箱顶部设有进液管，所述进液管与所述水箱内部相通，所述进液管上设有第一密封阀，所述水箱顶部设有...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种操作方便的CVD蚀刻装置，包括底座(1)，其特征在于：所述底座(1)顶部设有水箱(2)、放置台(10)、热风发生器(12)、加热箱(14)和蚀刻仓(33)，所述水箱(2)顶部设有进液管(3)，所述进液管(3)与所述水箱(2)内部相通，所述进液管(3)上设有第一密封阀(4)，所述水箱(2)顶部设有水泵(5)，所述水泵(5)一端与抽水管(6)一端连接，所述抽水管(6)另一端伸入所述水箱(2)内部，所述水泵(5)另一端与出水管(7)一端连接，所述出水管(7)另一端与雾化喷头(8)一端连接，所述放置台(10)上开设有放置槽(11)，所述放置台(10)顶部一侧与支柱(9)一端连接，所述支柱(9)另一端与所述出水管(7)连接，所述热风发生器(12)上设有出气管(13)，所述出气管(13)一端设置在所述热风发生器(12)上，所述出气管(13)另一端连通所述加热箱(14)，所述加热箱(14)正面铰接有第一开关门(15)，所述第一开关门(15)上设有第一门锁(16)，所述加热箱(14)上设有吹风机构(24)，所述吹风机构(24)包括电机(25)和风扇(26)，所述电机(25)输出端与所述风扇(26)连接，所述吹风机构(24)设有两个且对称设置，所述加热箱(14)内部一端与第一连接块(20)一端连接，所述第一连接块(20)另一端与沥水网(22)一端连接，所述沥水网(22)另一端与第二连接块(21)一端连接，所述第二连接块(21)另一端与所述加热箱(14)内部另一端连接，所述沥水网(22)上设有若干网眼(23)，所述网眼(23)贯穿于所述沥水网(22)，所述加热箱(14)内部设有回收箱(27)，所述回收箱(27)顶部设有开口(32)，所述开口(32)与所述回收箱(27)内部相通，所述加热箱(14)内部设有限位机构(28)，所述蚀刻仓(33)正面铰接有第二开关门(34)，所述第二开关门(34)上设有第二门锁(35)。2.根据权利要求1所述的一种操作方便的CVD蚀刻装置，其特征在于：所述限位机构(28)包括弹簧(29)、按压块(30)和辅助杆(31)，所述弹簧(29)一端与所述加热箱(14)内部一端连接，所述弹簧(29)另一端与所述按压块(30)一端连接，所述按压块(30)上设有辅助杆(31)，所述限位机构(28)设有若干个，若干个所述限位机构(28)对称设置在所述加热箱(14)内部两侧。3.根据权利要求2所述的一种操作方便的CVD蚀刻装置，其特征在于：所述第一开关门(15)四周设有密封圈(17)。4.根据权利要求3所述的一种操作方便的CVD蚀刻装置，其特征在于：所述第二开关门(34)上嵌入观察窗(37)。5.根据权利要求4所述的一种操作方便的CVD蚀刻装置，其特征在于：所述加热箱(14)顶部一侧设有排气管(18)，所述排气管(18)与所述加热箱(14)内部相通，所述排气管(18)上设有第二密封阀(19)。6.根据权利要求5所述的一种操作方便的CVD蚀刻装置，其特征在于：所述底座(1)...
【专利技术属性】
技术研发人员：钟兴进，何淑英，罗长诚，
申请(专利权)人：广州市鸿浩光电半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：
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