一种半导体加工用清洁装置制造方法及图纸

技术编号:33048211 阅读:35 留言:0更新日期:2022-04-15 09:32
本实用新型专利技术公开了一种半导体加工用清洁装置,包括清洁装置本体,清洁装置本体的顶端活动铰接有翻盖,清洁装置本体内壁的一侧固定安装有电机座,电机座的顶端固定安装有电机,电机的输出轴传动连接有旋转柱,旋转柱的一端与清洁装置本体内壁的另一侧穿插连接,旋转柱的一端部固定套设有两个辅助套,本实用新型专利技术一种半导体加工用清洁装置,通过设置了电机、旋转柱、辅助套、连接架和第二弹簧,启动电机,将带动着旋转柱转动,从而带动两个固定套设在旋转柱一端部的辅助套转动,使清洁箱内部储存的清洗剂能够快速的流动,从而可以与半导体充分接触,通过该结构有效的提高了对半导体的清洁力度,避免了清洗剂的资源浪费。避免了清洗剂的资源浪费。避免了清洗剂的资源浪费。

【技术实现步骤摘要】
一种半导体加工用清洁装置


[0001]本技术涉及清洁装置
,特别涉及一种半导体加工用清洁装置。

技术介绍

[0002]半导体指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料,半导体在集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电、照明、大功率电源转换等领域都有应用,如二极管就是采用半导体制作的器件,无论从科技或是经济发展的角度来看,半导体的重要性都是非常巨大的,大部分的电子产品,如计算机、移动电话或是数字录音机当中的核心单元都和半导体有着极为密切的关联,常见的半导体材料有硅、锗、砷化镓等,硅是各种半导体材料应用中最具有影响力的一种。
[0003]但现有的半导体加工用清洁装置仍然有一些不足之处:
[0004]半导体搁置到清洁装置的内部进行清洁,需要与特定的清洗剂一同搅拌清洗,但清洁装置多为固定状态,有较多的清洗剂未与半导体充分反应,造成了清洗剂的浪费,且半导体的清洁度较低,同时半导体没有外力的作用下将有较多的面积未清洗干净,需要工作人员不断翻动半导体,耗时耗力。

技术实现思路

[0005]本技术的目的在于提供一种半导体加工用清本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种半导体加工用清洁装置,包括清洁装置本体(1),其特征在于:所述清洁装置本体(1)的顶端活动铰接有翻盖(2),所述清洁装置本体(1)内壁的一侧固定安装有电机座,所述电机座的顶端固定安装有电机(3),所述电机(3)的输出轴传动连接有旋转柱(4),所述旋转柱(4)的一端与清洁装置本体(1)内壁的另一侧穿插连接,所述旋转柱(4)的一端部固定套设有两个辅助套(5),两个所述辅助套(5)的两侧均活动铰接有弧形块(6),其中两个所述弧形块(6)的两侧均设有连接架(7),相邻的两个所述连接架(7)的内壁之间均穿插连接有转轴(8)。2.根据权利要求1所述的一种半导体加工用清洁装置,其特征在于:其中两个所述弧形块(6)的两侧分别与四个连接架(7)的一侧固定连接,四个所述弧形块(6)设置的位置为等间距排列。3.根据权利要求1所述的一种半导体加工用清洁装置,其特征在于:两个所述转轴(8)的一端部均活动套设有连接套筒(9),两个所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:张陈军
申请(专利权)人:江苏嘉洛精仪智能科技有限公司
类型:新型
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1