一种半导体二极管生产用酸洗设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种半导体二极管生产用酸洗设备，涉及二极管加工技术领域，包括底座和二极管放置篮，所述底座的内部依次设有酸洗池、超声波清洗池和烘干室，所述底座的顶端固定连接有壳体，所述底座的顶端两侧均设有输送链，所述酸洗池、超声波清洗池和烘干室的顶端均设有盖板，所述盖板的顶端设有气缸，所述气缸的一端与壳体固定连接，所述气缸的活塞杆与盖板固定连接，所述壳体的内部固定连接有第一通风管道，所述盖板与第一通风管道通过弹性通风管道连通，所述底座的两端均固定连接有集气罩。该半导体二极管生产用酸洗设备，解决了现有的半导体二极管生产用酸洗设备易污染车间环境和生产效率较低的问题。间环境和生产效率较低的问题。间环境和生产效率较低的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种半导体二极管生产用酸洗设备


[0001]本技术涉及二极管加工
，具体为一种半导体二极管生产用酸洗设备。

技术介绍

[0002]半导体二极管是指利用半导体特性的两端电子器件。最常见的半导体二极管是PN结型二极管和金属半导体接触二极管。它们的共同特点是伏安特性的不对称性，即电流沿其一个方向呈现良好的导电性，而在相反方向呈现高阻特性。可用作为整流、检波、稳压、恒流、变容、开关、发光及光电转换，在二极管加工过程中需要对其进行酸洗。
[0003]现有的二极管生产用酸洗设备，在进行酸洗加工时，产生的酸性气体挥发扩散至车间中，易污染车间环境，同时酸洗后需要将残留酸液进行清洗并对其进行烘干，通常在不同的设备上完成，导致生产效率较低。
[0004]因此，提出一种半导体二极管生产用酸洗设备来解决上述问题很有必要。

技术实现思路

[0005]（一）解决的技术问题
[0006]本技术的目的在于提供一种半导体二极管生产用酸洗设备，以解决上述
技术介绍
中提出的现有的半导体二极管生产用酸洗设备易污染车间环境和生产效率较低的问题。
[0007]（二）技术方案
[0008]为实现以上目的，本技术通过以下技术方案予以实现：一种半导体二极管生产用酸洗设备，包括底座和二极管放置篮，所述底座的内部依次设有酸洗池、超声波清洗池和烘干室，所述底座的顶端固定连接有壳体，所述底座的顶端两侧均设有输送链，所述酸洗池、超声波清洗池和烘干室的顶端均设有盖板，所述盖板的顶端设有气缸，所述气缸的一端与壳体固定连接，所述气缸的活塞杆与盖板固定连接，所述壳体的内部固定连接有第一通风管道，所述盖板与第一通风管道通过弹性通风管道连通，所述底座的两端均固定连接有集气罩，所述二极管放置篮由自回滑轨、支撑架、固定框和网板组成，所述固定框的两侧顶端均设有支撑架，所述固定框通过自回滑轨与支撑架滑动连接，所述网板固定连接在固定框的底端。
[0009]优选的，所述输送链的内部设有多个链轮，所述链轮与底座转动连接，所述输送链由步进电机驱动。
[0010]优选的，所述盖板的底端外侧固定连接有弹性缓冲圈。
[0011]优选的，所述输送链的外侧固定连接有限位块，所述支撑架的两端均开设有限位孔，所述限位孔与限位块相适配，两个所述支撑架的间距与两个输送链的间距相适配。
[0012]优选的，所述集气罩的顶端固定连接有防护网，所述底座的一侧固定连接有第二通风管道，所述集气罩与第二通风管道连通。
[0013]优选的，所述酸洗池与超声波清洗池的间距与超声波清洗池和烘干室的间距相同。
[0014]优选的，所述烘干室的内部固定连接有热风机。
[0015]（三）有益效果
[0016]与现有技术相比，本技术提供了一种半导体二极管生产用酸洗设备，具备以下有益效果：
[0017]1、该半导体二极管生产用酸洗设备，通过设置二极管放置篮、弹性通风管道、盖板和集气罩，可以将酸洗时产生的废气及时抽送至废气处理系统，避免废气扩散至车间中，影响车间环境，解决了易污染车间环境的问题。
[0018]2、该半导体二极管生产用酸洗设备，通过设置二极管放置篮、气缸、输送链、酸洗池、超声波清洗池和烘干室，通过气缸和输送链可将二极管放置篮依次移动至酸洗池、超声波清洗池和烘干室中对二极管进行加工处理，在不同工序上转移更加方便，解决了生产效率较低的问题。
附图说明
[0019]图1为本技术结构的立体示意图；
[0020]图2为本技术结构的主视剖面示意图；
[0021]图3为本技术结构的俯视剖面示意图；
[0022]图4为本技术二极管放置篮的立体示意图。
[0023]图中：1、壳体；2、第一通风管道；3、第二通风管道；4、防护网；5、底座；6、二极管放置篮；7、弹性通风管道；8、气缸；9、盖板；10、弹性缓冲圈；11、输送链；12、链轮；13、集气罩；14、酸洗池；15、超声波清洗池；16、烘干室；17、热风机；19、自回滑轨；20、支撑架；21、限位孔；22、固定框；23、网板；24、限位块。
具体实施方式
[0024]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。
[0025]请参阅图1
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4所示，一种半导体二极管生产用酸洗设备，包括底座5和二极管放置篮6，底座5的内部依次设有酸洗池14、超声波清洗池15和烘干室16，烘干室16的内部固定连接有热风机17，底座5的顶端固定连接有壳体1，底座5的顶端两侧均设有输送链11，输送链11的内部设有多个链轮12，链轮12与底座5转动连接，输送链11由步进电机驱动，酸洗池14、超声波清洗池15和烘干室16的顶端均设有盖板9，盖板9的底端外侧固定连接有弹性缓冲圈10，盖板9的顶端设有气缸8，气缸8的一端与壳体1固定连接，气缸8的活塞杆与盖板9固定连接，壳体1的内部固定连接有第一通风管道2，盖板9与第一通风管道2通过弹性通风管道7连通，底座5的两端均固定连接有集气罩13，集气罩13的顶端固定连接有防护网4，底座5的一侧固定连接有第二通风管道3，集气罩13与第二通风管道3连通，二极管放置篮6由自回滑轨19、支撑架20、固定框22和网板23组成，固定框22的两侧顶端均设有支撑架20，固定框22通过自回滑轨19与支撑架20滑动连接，网板23固定连接在固定框22的底端，输送链11的外侧
固定连接有限位块24，支撑架20的两端均开设有限位孔21，限位孔21与限位块24相适配，两个支撑架20的间距与两个输送链11的间距相适配，酸洗池14与超声波清洗池15的间距与超声波清洗池15和烘干室16的间距相同。
[0026]该文中出现的电器元件均与外界的主控器及220V市电电连接，并且主控器可为计算机等起到控制的常规已知设备。
[0027]工作原理：在使用时，将第一通风管道2和第二通风管道3与废气处理系统连通，将待酸洗工件置于二极管放置篮6中，并将二极管放置篮6通过支撑架20放置在两个输送链11上，通过限位块24和限位孔21进行限位，然后通过步进电机带动输送链11转动，输送链11带动二极管放置篮6移动，当二极管放置篮6移动至酸洗池14上方时，步进电机关闭，位于酸洗池14顶端的气缸8启动，带动盖板9压向固定框22，并推动固定框22向酸洗池14底部移动，酸液通过网板23进入固定框22中，通过酸液对工件进行酸洗加工，同时废气通过弹性通风管道7抽送至废气处理系统，从而减少废气的散发，酸洗完成后气缸8收缩，带动盖板9上升，在自回滑轨19的作用下，二极管放置篮6上升复位，然后通过输送链11带动二极管放置篮6依次移动至超声波清洗池15和烘干室16的上方，采用同样的方法将其推送至超声波清洗池15和烘干室16中对其进行清洗和烘干，最后通过输送链11将二极管放置篮6从壳体1另一端送出，通过集气罩1本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种半导体二极管生产用酸洗设备，包括底座（5）和二极管放置篮（6），其特征在于：所述底座（5）的内部依次设有酸洗池（14）、超声波清洗池（15）和烘干室（16），所述底座（5）的顶端固定连接有壳体（1），所述底座（5）的顶端两侧均设有输送链（11），所述酸洗池（14）、超声波清洗池（15）和烘干室（16）的顶端均设有盖板（9），所述盖板（9）的顶端设有气缸（8），所述气缸（8）的一端与壳体（1）固定连接，所述气缸（8）的活塞杆与盖板（9）固定连接，所述壳体（1）的内部固定连接有第一通风管道（2），所述盖板（9）与第一通风管道（2）通过弹性通风管道（7）连通，所述底座（5）的两端均固定连接有集气罩（13），所述二极管放置篮（6）由自回滑轨（19）、支撑架（20）、固定框（22）和网板（23）组成，所述固定框（22）的两侧顶端均设有支撑架（20），所述固定框（22）通过自回滑轨（19）与支撑架（20）滑动连接，所述网板（23）固定连接在固定框（22）的底端。2.根据权利要求1所述的一种半导体二极管生产用酸洗设备，其特征在于：所述输送链（11）的内部设有多个链轮（...

【专利技术属性】
技术研发人员：王进安，肖永念，王敏轩，方赢通，吕广南，谭响，
申请(专利权)人：信阳市亮剑通信科技有限公司，
类型：新型
国别省市：