一种沉降清洗盘以及沉降清洗盘组件制造技术

本实用新型专利技术涉及一种沉降清洗盘以及沉降清洗盘组件，沉降清洗盘包括磁铁安装座和旋转盘，磁铁安装座和旋转盘均呈圆形，旋转盘的外径大于磁铁安装座的外径，旋转盘同轴安装在所述磁铁安装座顶部，旋转盘超出所述磁铁安装座四周边缘的部分形成环边，环边上开设有多个通孔，通孔内安装有反应管托架；磁铁安装座的周侧壁上设有多个磁铁，多个反应管托架与多个磁铁一一对应布置；磁铁安装座的底部设有旋转电机，旋转电机的输出轴连接并驱动磁铁安装座与旋转盘旋转。本实用新型专利技术通过在磁铁安装座的周侧壁上设置磁铁，可对反应管托架的反应管内的磁珠进行吸附沉降；通过旋转电机驱动磁铁安装座和旋转盘旋转，能够使反应管托架内的反应管旋转到清洗位。旋转到清洗位。旋转到清洗位。

【技术实现步骤摘要】
一种沉降清洗盘以及沉降清洗盘组件


[0001]本技术涉及化学仪器相关
，具体涉及一种沉降清洗盘以及沉降清洗盘组件。

技术介绍

[0002]现有的普通流式分析仪的清洗机构是没有沉降盘的，针对需要磁珠进行试验的试剂盒，无法对磁珠进行清洗，无法进行相关试验操作。

技术实现思路

[0003]本技术为了解决上述技术问题中的一种或几种，提供了一种沉降清洗盘以及沉降清洗盘组件。
[0004]本技术解决上述技术问题的技术方案如下：一种沉降清洗盘，包括磁铁安装座和旋转盘，所述磁铁安装座和旋转盘均呈圆形，所述旋转盘的外径大于所述磁铁安装座的外径，所述旋转盘同轴安装在所述磁铁安装座顶部，所述旋转盘超出所述磁铁安装座四周边缘的部分形成环边，所述环边上开设有多个通孔，所述通孔内安装有反应管托架；所述磁铁安装座的周侧壁上设有多个磁铁，多个所述反应管托架与多个磁铁一一对应布置；所述磁铁安装座的底部设有旋转电机，所述旋转电机的输出轴连接并驱动所述磁铁安装座与旋转盘旋转。
[0005]本技术的有益效果是：本技术的沉降清洗盘，通过在磁铁安装座的周侧壁上设置磁铁，可以对反应管托架的反应管内的磁珠进行吸附沉降；通过旋转电机驱动磁铁安装座和旋转盘旋转，能够使反应管托架内的反应管旋转到清洗位。
[0006]在上述技术方案的基础上，本技术还可以做如下改进。
[0007]进一步，多个所述通孔沿所述环边的周向布置，多个所述磁铁沿所述磁铁安装座的周向布置。
[0008]采用上述进一步方案的有益效果是：能够对每个反应管托架内的反应管中的磁珠都能够吸附沉降。
[0009]进一步，多个所述通孔沿所述环边的周向均匀布置，多个所述磁铁沿所述磁铁安装座的周向均匀布置。
[0010]进一步，所述反应管托架的外侧壁与对应的磁铁相接触。
[0011]采用上述进一步方案的有益效果是：吸附沉降效果更好。
[0012]进一步，所述磁铁表面为与所述反应管托架外侧壁适配的弧面。
[0013]采用上述进一步方案的有益效果是：使磁铁与反应管托架外侧壁贴合效果更好。
[0014]进一步，所述磁铁内嵌在所述磁铁安装座的外侧壁上，所述磁铁对应布置在反应管托架的底部一侧。
[0015]采用上述进一步方案的有益效果是：由于磁珠一般都位于反应管的底部，将磁铁对应布置在反应管托架的底部一侧，有利于对反应管内的磁珠吸附沉降。
[0016]一种沉降清洗盘组件，包括上述的沉降清洗盘，还包括清洗机构，所述清洗机构包括底板、背板、清洗针支架和拭子支架，所述背板竖直固定在底板上，所述背板上设有升降驱动部和拭子支架，所述升降驱动部与清洗针支架连接并驱动清洗针支架升降，所述拭子支架上设有清洗拭子，所述清洗针支架上设有吸液针和吐液针，所述吸液针竖直穿设在所述清洗拭子中。
[0017]本技术的有益效果是：本技术的沉降清洗盘组件，升降驱动机构驱动清洗针支架竖直运动，从而实现吸液针和吐液针的升降，吸液针上升时，清洗拭子对吸液针进行清洗。清洗机构升降并配合沉降盘旋转可实现对反应管内的磁珠进行清洗。清洗机构的清洗拭子可对吸液针进行清洗，降低携带污染率。
[0018]进一步，所述升降驱动部包括丝杠电机、丝杠和直线导轨，所述丝杠电机固定在所述背板顶部并与丝杠传动连接，所述丝杠竖直布置在所述背板的一侧，所述直线导轨竖直布置在所述背板的另一侧，所述清洗针支架一端螺纹连接在所述丝杠上，所述清洗针支架另一端滑动连接在所述直线导轨上。
[0019]采用上述进一步方案的有益效果是：利用丝杠驱动升降，有利于升降控制的精度和升降运动的稳定性。
[0020]进一步，所述背板上开设有竖直布置的长孔，所述清洗针支架穿设在所述长孔中且能够沿长孔上下运动。
[0021]采用上述进一步方案的有益效果是：通过设置长孔，使清洗针支架穿设在长孔中，有利于连接安装结构的稳定可靠。
[0022]进一步，所述底板上设有安装板，所述安装板通过支柱间隔布置在底板上且位于所述背板的一侧，所述旋转电机固定在所述安装板的下侧面且位于所述安装板与底板之间的间隔中，所述磁铁安装座与旋转盘位于所述安装板的上侧面，所述旋转电机的输出轴穿过所述安装板连接并驱动所述磁铁安装座与旋转盘旋转。
[0023]采用上述进一步方案的有益效果是：有利于安装结构的紧凑稳定。
附图说明
[0024]图1为本技术沉降清洗盘的立体结构示意图；
[0025]图2为本技术沉降清洗盘组件的立体结构示意图；
[0026]图3为本技术清洗机构的立体结构示意图；
[0027]图4为本技术清洗拭子的俯视结构示意图；
[0028]图5为图4的A
‑
A面的剖视结构示意图。
[0029]附图中，各标号所代表的部件列表如下：
[0030]300、沉降清洗盘；301、磁铁安装座；302、旋转盘；303、反应管托架；304、磁铁；305、旋转电机；306、环边；307、电机支架；308、反应管；
[0031]400、清洗机构；401、底板；402、背板；403、拭子支架；404、清洗针支架；405、吸液针；406、吐液针；407、清洗拭子；408、丝杠电机；409、直线导轨；410、长孔；411、安装板；412、支柱；413、进水口；414、出水口；415、清洗通道。
具体实施方式
[0032]以下结合附图对本技术的原理和特征进行描述，所举实例只用于解释本技术，并非用于限定本技术的范围。
[0033]实施例1
[0034]如图1和图2所示，本实施例的一种沉降清洗盘，包括磁铁安装座301和旋转盘302，所述磁铁安装座301和旋转盘302均呈圆形，所述旋转盘302的外径大于所述磁铁安装座的外径，所述旋转盘同轴安装在所述磁铁安装座顶部，所述旋转盘302超出所述磁铁安装座301四周边缘的部分形成环边306，所述环边306上开设有多个通孔，所述通孔内安装有反应管托架303；所述磁铁安装座301的周侧壁上设有多个磁铁304，多个所述反应管托架303与多个磁铁304一一对应布置；所述磁铁安装座301的底部设有旋转电机305，所述旋转电机305的输出轴连接并驱动所述磁铁安装座301与旋转盘302旋转。
[0035]具体的，所述旋转盘302通过螺栓固定在磁铁安装座301上，所述旋转电机305的输出轴可以直接连接磁铁安装座301并同时驱动磁铁安装座301和旋转盘302进行转动，也可以穿过磁铁安装座301连接旋转盘302并同时驱动磁铁安装座301和旋转盘302进行转动。
[0036]如图1和图2所示，多个所述通孔沿所述环边306的周向布置，多个所述磁铁304沿所述磁铁安装座301的周向布置。能够对每个反应管托架内的反应管308中的磁珠都能够吸附沉降。
[0037]如图1和图2所示，多个所述通孔沿所述环边306的周向均匀本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种沉降清洗盘，其特征在于，包括磁铁安装座和旋转盘，所述磁铁安装座和旋转盘均呈圆形，所述旋转盘的外径大于所述磁铁安装座的外径，所述旋转盘同轴安装在所述磁铁安装座顶部，所述旋转盘超出所述磁铁安装座四周边缘的部分形成环边，所述环边上开设有多个通孔，所述通孔内安装有反应管托架；所述磁铁安装座的周侧壁上设有多个磁铁，多个所述反应管托架与多个磁铁一一对应布置；所述磁铁安装座的底部设有旋转电机，所述旋转电机的输出轴连接并驱动所述磁铁安装座与旋转盘旋转。2.根据权利要求1所述一种沉降清洗盘，其特征在于，多个所述通孔沿所述环边的周向布置，多个所述磁铁沿所述磁铁安装座的周向布置。3.根据权利要求2所述一种沉降清洗盘，其特征在于，多个所述通孔沿所述环边的周向均匀布置，多个所述磁铁沿所述磁铁安装座的周向均匀布置。4.根据权利要求1所述一种沉降清洗盘，其特征在于，所述反应管托架的外侧壁与对应的磁铁相接触。5.根据权利要求1所述一种沉降清洗盘，其特征在于，所述磁铁表面为与所述反应管托架外侧壁适配的弧面。6.根据权利要求1所述一种沉降清洗盘，其特征在于，所述磁铁内嵌在所述磁铁安装座的外侧壁上，所述磁铁对应布置在反应管托架的底部一侧。7.一种沉降清洗盘组件，其特征在于，包括权利要求1至6任一...

【专利技术属性】
技术研发人员：雷少军，宋昌亮，马永波，李根，
申请(专利权)人：北京指真生物科技有限公司，
类型：新型
国别省市：