色转化层制作方法、显示面板及显示装置制造方法及图纸

本申请涉及显示技术领域，本申请实施例提供了色转化层制作方法、显示面板及显示装置。基于本申请实施例的色转化层制作方法，通过首先在基板的第一表面形成多个彼此间隔设置的光阻层，光阻层由正性光刻胶制成，便于在形成量子点层时调节每个量子点层所占的区域大小，随后在基板的第一表面和光阻层背离基板的一侧表面所形成的外露面上形成量子点层，移除位于基板的第一表面上的光阻层，此时只有位于两个相邻的光阻层之间的量子点层得以保留，因此，所形成的量子点层的线宽自然较窄。同时，可以按照使用需求重复这些步骤，直至满足使用需要。如此，可以使得显示面板中量子点层的线宽及线距较小，显示效果好。显示效果好。显示效果好。

【技术实现步骤摘要】
色转化层制作方法、显示面板及显示装置


[0001]本申请涉及显示
，特别是涉及色转化层制作方法、显示面板及显示装置。

技术介绍

[0002]相关技术中，在制作色转化层时，受限于制作精度，量子点层的线宽无法做到小线宽，带来的问题是显示面板中相邻的像素区域间距较大，显示效果较差。

技术实现思路

[0003]基于此，有必要针对上述技术问题，提供一种色转化层制作方法、显示面板及显示装置，以解决显示面板中相邻的像素区域间距较大、显示效果较差的问题。
[0004]根据本申请的一个方面，本申请实施例提供了一种色转化层制作方法，包括以下步骤：
[0005]在基板的第一表面形成多个彼此间隔设置的光阻层；所述光阻层由正性光刻胶制成；
[0006]在所述基板的所述第一表面和所述光阻层背离所述基板的一侧表面所形成的外露面上形成量子点层；
[0007]移除位于所述基板的所述第一表面上的所述光阻层，以在所述基板的所述第一表面上形成多个彼此间隔设置的量子点层；
[0008]重复上述形成所述光阻层、形成所述量子点层、移除所述光阻层的步骤，直至满足预设条件为止，以形成色转化层；
[0009]其中，除首次外的每一次在所述基板的所述第一表面上形成多个彼此间隔的所述光阻层时，形成的多个所述光阻层包覆所述基板的所述第一表面上所有的所述量子点层。
[0010]在其中一个实施例中，所述在基板的第一表面形成多个彼此间隔设置的光阻层具体包括：
[0011]在所述基板的所述第一表面涂布正性光刻胶以形成光刻胶薄膜；
[0012]通过曝光、显影、烘烤、蚀刻工艺对所述光刻胶薄膜进行处理，形成多个彼此间隔设置的所述光阻层。
[0013]在其中一个实施例中，所述移除位于所述基板的所述第一表面上的所述光阻层，以在所述基板的所述第一表面上形成多个彼此间隔设置的量子点层具体包括：
[0014]通过表面修饰工艺对所述量子点层的表面进行处理，以使所述量子点层的表面具有亲水性；
[0015]通过疏水性溶剂溶解位于所述基板的所述第一表面上的所述光阻层。
[0016]在其中一个实施例中，每一次在所述基板的所述第一表面和所述光阻层背离所述基板的一侧表面所形成的外露面上形成的所述量子点层时，形成的所述量子点层为具有单一颜色的量子点层。
[0017]在其中一个实施例中，沿垂直于所述基板的所述第一表面的方向，每一所述量子
点层的高度相同。
[0018]在其中一个实施例中，所述量子点层的高度为1微米至10微米。
[0019]在其中一个实施例中，每一所述量子点层在所述第一表面上的投影为方形，且所述方形的边长为1微米至10微米。
[0020]在其中一个实施例中，所述色转化层中每两个相邻的所述量子点层之间的距离为3微米至30微米。
[0021]在其中一个实施例中，所述量子点层包括分别间隔设置的红色量子点层、绿色量子点层和蓝色量子点层；
[0022]所述红色量子点层具有红色量子点光阻，所述绿色量子点层具有绿色量子点光阻，所述蓝色量子点层具有蓝色量子点光阻。
[0023]根据本申请的另一个方面，本申请实施例提供了一种显示面板，包括：
[0024]基板，所述基板的第一表面具有如上述所述的制作方法得到的色转化层；以及
[0025]LED芯片，所述LED芯片与所述色转化层相对设置。
[0026]在其中一个实施例中，所述LED芯片包括用于发出白色基础光的LED芯片和/或用于发出蓝色基础光的LED芯片。
[0027]在其中一个实施例中，所述LED芯片为Micro
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LED芯片。
[0028]在其中一个实施例中，所述基板的材料为玻璃或聚酰亚胺。
[0029]根据本申请的又一个方面，本申请实施例提供了一种显示装置，包括如上述所述的显示面板。
[0030]基于本申请实施例的色转化层制作方法、显示面板及显示装置，通过首先在基板的第一表面形成多个彼此间隔设置的光阻层，光阻层由正性光刻胶制成，便于在形成量子点层时调节每个量子点层所占的区域大小，随后在基板的第一表面和光阻层背离基板的一侧表面所形成的外露面上形成量子点层，移除位于基板的第一表面上的光阻层，此时只有位于两个相邻的光阻层之间的量子点层得以保留，因此，所形成的量子点层的线宽自然较窄。同时，可以按照使用需求重复这些步骤，直至满足使用需要。如此，可以使得显示面板中量子点层的线宽和线距较小，显示效果好。
附图说明
[0031]图1为本申请实施例的一种实施方式中色转化层制作方法的流程示意图；
[0032]图2为本申请实施例的一种实施方式中色转化层制作方法中色转化层处于中间态的结构示意图；
[0033]图3为本申请实施例的一种实施方式中制作色转化层时处于第一状态下的结构示意图；
[0034]图4为本申请实施例的一种实施方式中制作色转化层时处于第二状态下的结构示意图；
[0035]图5为本申请实施例的一种实施方式中制作色转化层时处于第三状态下的结构示意图；
[0036]图6为本申请实施例的一种实施方式中制作色转化层时处于第四状态下的结构示意图；
[0037]图7为本申请实施例的一种实施方式中制作色转化层时处于第五状态下的结构示意图；
[0038]图8为本申请实施例的一种实施方式中制作色转化层时处于第六状态下的结构示意图；
[0039]图9为本申请实施例的一种实施方式中制作色转化层时处于第七状态下的结构示意图；
[0040]图10为本申请实施例的一种实施方式中制作色转化层时处于第八状态下的结构示意图；
[0041]图11为本申请实施例的一种实施方式中制作色转化层时处于第九状态下的结构示意图；
[0042]图12为本申请实施例的一种实施方式中制作色转化层时处于第十状态下的结构示意图；
[0043]图13为本申请实施例的一种实施方式中制作色转化层时处于第十一状态下的结构示意图；
[0044]图14为本申请实施例的一种实施方式中制作色转化层时处于第十二状态下的结构示意图；
[0045]元件符号简单说明：
[0046]100：基板
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110：第一表面
[0047]200：光阻层
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300：量子点层
[0048]300a：红色量子点层
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300b：绿色量子点层
[0049]300c：蓝色量子点层
[0050]h：高度
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x：边长
[0051]d：距离
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z：第一方向
具体实施方式
[0052]为使本申请的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本申请实施例的具体本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种色转化层制作方法，其特征在于，包括以下步骤：在基板的第一表面形成多个彼此间隔设置的光阻层；所述光阻层由正性光刻胶制成；在所述基板的所述第一表面和所述光阻层背离所述基板的一侧表面所形成的外露面上形成量子点层；移除位于所述基板的所述第一表面上的所述光阻层，以在所述基板的所述第一表面上形成多个彼此间隔设置的量子点层；重复上述形成所述光阻层、形成所述量子点层、移除所述光阻层的步骤，直至满足预设条件为止，以形成色转化层；其中，除首次外的每一次在所述基板的所述第一表面上形成多个彼此间隔的所述光阻层时，形成的多个所述光阻层包覆所述基板的所述第一表面上所有的所述量子点层。2.根据权利要求1所述的色转化层制作方法，其特征在于，所述在基板的第一表面形成多个彼此间隔设置的光阻层具体包括：在所述基板的所述第一表面涂布正性光刻胶以形成光刻胶薄膜；通过曝光、显影、烘烤、蚀刻工艺对所述光刻胶薄膜进行处理，形成多个彼此间隔设置的所述光阻层。3.根据权利要求1所述的色转化层制作方法，其特征在于，所述移除位于所述基板的所述第一表面上的所述光阻层，以在所述基板的所述第一表面上形成多个彼此间隔设置的量子点层具体包括：通过表面修饰工艺对所述量子点层的表面进行处理，以使所述量子点层的表面具有亲水性；通过疏水性溶剂溶解位于所述基板的所述第一表面上的所述光阻层。4.根据权利要求1所述的色转化层制作方法，其特征在于，每一次在所述基板的所述第一表面和所述光阻层背离所述基板的一侧表面所形成的外露面上形成的所述量子点层时，形成的所述量子点层为具有单一颜色的量子点层。5.根据权利要求1
‑
4中任一项所述的色转化层制作方法，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘建平，
申请(专利权)人：业成光电深圳有限公司业成光电无锡有限公司英特盛科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：