电子枪、电子射线应用装置、由光电阴极射出的电子束的射出轴确认方法以及由光电阴极射出的电子束的射出轴对齐方法制造方法及图纸

本发明专利技术要解决的问题在于提供可确认从光电阴极射出的电子束是否从设计射出中心轴偏移的电子枪。通过本发明专利技术的电子枪可解决上述问题，该电子枪包含：光源；光电阴极，依据来自光源的受光而射出电子束；以及阳极；该电子枪包含：中间电极，配置于光电阴极与阳极之间；电子束遮蔽部件，可遮蔽电子束的一部分；测量部，测量经由电子束遮蔽部件遮蔽的电子束的强度；以及电子束射出方向偏向装置，配置于阳极与电子束遮蔽部件之间，且使通过阳极的电子束到达电子束遮蔽部件时的位置变化；中间电极具有供从光电阴极射出的电子束通过的电子束通过孔；在电子束通过孔中形成在借助于电压的施加而在光电阴极与阳极之间形成有电场时可忽略电场的影响的漂移空间。的影响的漂移空间。的影响的漂移空间。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】电子枪、电子射线应用装置、由光电阴极射出的电子束的射出轴确认方法以及由光电阴极射出的电子束的射出轴对齐方法


[0001]本专利技术涉及一种电子枪、电子射线应用装置、由光电阴极(photo cathode)射出的电子束的射出轴确认方法以及由光电阴极射出的电子束的射出轴对齐方法。

技术介绍

[0002]已知有一种搭载着光电阴极的电子枪、包含该电子枪的电子显微镜、自由电子激光加速器、检查装置等装置(以下有时将包含电子枪的装置简称为“装置”)(参照专利文献1)。
[0003]具备有电子枪的装置必须要获得鲜明的影像和高分辨率。因此，在最初搭载电子枪时、和更换电子枪时，为使从电子枪射出的电子束与装置的电子光学系统的光轴一致，需要有调整从电子枪射出的电子束的射出轴的作业。此外，在通常运转时，为了要调整因为经时变化等所导致的从电子枪射出的电子束和装置的电子光学系统的光轴的偏移，因而根据需要进行电子束的轴偏移的调整(以下有时将电子束的轴偏移的调整记为“对齐”)。
[0004]对齐大多虽在将电子枪搭载于装置之后以手动方式进行操作，但近年来也已进行了本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种电子枪，包含：光源；光电阴极，依据来自光源的受光而射出电子束；以及阳极；该电子枪包含：中间电极，配置于光电阴极与阳极之间；电子束遮蔽部件，可遮蔽电子束的一部分；测量部，测量经由电子束遮蔽部件所遮蔽的电子束的强度；以及电子束射出方向偏向装置，配置于阳极与电子束遮蔽部件之间，且使通过阳极的电子束到达电子束遮蔽部件时的位置变化；其中，中间电极具有电子束通过孔，该电子束通过孔供从光电阴极射出的电子束通过，在电子束通过孔中形成有漂移空间，该漂移空间在借助于电压的施加而在光电阴极与阳极之间形成有电场时可忽略电场的影响。2.如权利要求1所述的电子枪，还包含：光源位置调整部件，调整照射至光电阴极的激发光的位置；和/或光电阴极位置调整部件，调整光电阴极的位置。3.如权利要求1或2所述的电子枪，还包含：电源装置，可变更施加于中间电极的电压值；和/或驱动部，可将配置于光电阴极与阳极之间的中间电极的位置，朝电子束的设计射出中心轴方向调整。4.如权利要求1至3中任一项所述的电子枪，还包含：运算部，依据测量部的测量结果而运算电子束的设计射出中心轴和从光电阴极射出的电子束的偏移。5.如权利要求4所述的电子枪，还包含：控制部，依据运算部的运算结果而控制光源位置调整部件和/或光电阴极位置调整部件。6.如权利要求1至5中任一项所述的电子枪，还包含：电子束偏向装置，为使搭载电子枪的合作伙伴装置的入射轴与从电子枪射出的电子束的射出方向一致，使通过电子束遮蔽部件的电子束偏向。7.一种电子射线应用装置，包含如权利要求1至6中任一项所述的电子枪，所述电子射线应用装置为自由电子激光加速器、电子显微镜、电子射线全息照相装置、电子射线图案化装置、电子射线绕射装置、电子射线检查装置、电子射线金属层积造型装置、电子射线平版印刷装置、
电子射线加工装置、电子射线硬化装置、电子射线灭菌装置、电子射线杀菌装置、等离子体产生装置、原子状元素产生装置、旋转偏极电子射线产生装置、阴极发光装置、或逆光电子...

【专利技术属性】
技术研发人员：饭岛北斗，
申请(专利权)人：日商光电魂股份有限公司，
类型：发明
国别省市：