一种具有水循环机构的半导体硅片清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种具有水循环机构的半导体硅片清洗装置，涉及硅片清洗技术领域，针对现有的问题，现提出如下方案，包括底部外壁两端均焊接有支撑板的箱体、烘干机构和夹持机构，所述箱体顶部内壁安装有双电机滑台，且双电机滑台其中一个滑动件底部固定有喷头，所述双电机滑台另一个滑动件底部固定有烘干机构。本实用新型专利技术可对清洗过的水进行吸附过滤，二次利用，实现水循环节约水资源的消耗，可利用电动旋转台带动硅片转动，同时通过双电机滑台带动喷头进行来回移动，使得硅片的正反面都得到有效的冲洗，有效的提高了清洗效果，可利用电扇吹风经过电热丝加热后，对硅片进行烘干，避免人工擦拭对硅片表面造成二次污染。避免人工擦拭对硅片表面造成二次污染。避免人工擦拭对硅片表面造成二次污染。

【技术实现步骤摘要】
一种具有水循环机构的半导体硅片清洗装置


[0001]本技术涉及硅片清洗
，尤其涉及一种具有水循环机构的半导体硅片清洗装置。

技术介绍

[0002]随着大规模集成电路的不断发展，对于硅片抛光后的表面洁净度要求也越来越高，尤其是硅片正面的洁净度，对后期集成电路的加工及其重要，故，硅片清洗是硅片加工的关键工序之一。目前清洗工艺中主要是对小尺寸硅片的清洗，但对于大尺寸硅片，随着硅片面积的增加，使得现有喷淋方式喷出的水液无法全覆盖到硅片正面的表面上。
[0003]为此，中国专利（申请号202020774475.7）公开了“一种半导体硅片清洗喷淋装置”，该装置通过设置两组喷淋管对应硅片正面的不同位置进行喷淋，使得硅片正面表面面积均被兼顾，但是该装置不具备水循环功能，水资源消耗较多，同时该装置不具备烘干功能，在对硅片清洗完之后还需人工将硅片擦干，容易对硅片表面造成二次污染。

技术实现思路

[0004]本技术的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种具有水循环机构的半导体硅片清洗装置。
[0005]为了实现上述目的，本技术采用了如下技术方案：
[0006]一种具有水循环机构的半导体硅片清洗装置，包括底部外壁两端均焊接有支撑板的箱体、烘干机构和夹持机构，所述箱体顶部内壁安装有双电机滑台，且双电机滑台其中一个滑动件底部固定有喷头，所述双电机滑台另一个滑动件底部固定有烘干机构，且箱体下方设有水箱，所述水箱一侧内壁焊接有挡板，且挡板上放置有吸附网箱，所述箱体一侧外壁安装有水泵，且箱体一侧外壁通过轴承插接有夹持机构，所述箱体一侧外壁焊接有安装板，且安装板顶部外壁安装有电动旋转台，所述电动旋转台转动件与夹持机构相连接。
[0007]优选的，所述烘干机构包括连接管，且连接管内壁通过固定杆安装有电扇，连接管内壁固定有等距离分布的电热丝。
[0008]优选的，所述夹持机构包括转杆，且转杆一侧外壁焊接有电动夹爪,电动夹爪两个夹持件上均固定有夹板，转杆外壁安装有电滑环。
[0009]优选的，所述箱体底部内壁焊接有下水管，且吸附网箱内填充有活性炭。
[0010]优选的，所述水泵进水端通过进水管与水箱内部相连通，且水泵出水端通过出水管与喷头相连通，所述水箱内盛放有清洗水，且清洗水的液面低于挡板底部外壁二至三厘米。
[0011]优选的，所述箱体正面外壁开有安装口，且安装口内壁铰接有带透明观察窗的门板。
[0012]优选的，所述电动夹爪通过导线与电滑环相连接，且电滑环、双电机滑台、水泵、电动旋转台、电扇和电热丝均通过导线连接有开关，开关通过电源线连接有外部电源。
[0013]本技术的有益效果为：
[0014]1、通过吸附网箱内的活性炭可对清洗过的水进行吸附过滤，二次利用，实现水循环节约水资源的消耗，在对硅片进行清洗时，可利用电动旋转台带动硅片转动，同时通过双电机滑台带动喷头进行来回移动，使得硅片的正反面都得到有效的冲洗，有效的提高了清洗效果；
[0015]2、在对硅片清洗完之后，可利用电扇吹风经过电热丝加热后，对硅片进行烘干，避免人工擦拭对硅片表面造成二次污染，同时还可通过门板上的透明观察窗在硅片清洗和烘干的过程中进行观察。
附图说明
[0016]图1为本技术提出的一种具有水循环机构的半导体硅片清洗装置的立体剖视图；
[0017]图2为本技术提出的一种具有水循环机构的半导体硅片清洗装置的第一视角立体图；
[0018]图3为本技术提出的一种具有水循环机构的半导体硅片清洗装置的第二视角立体图；
[0019]图4为本技术提出的一种具有水循环机构的半导体硅片清洗装置的连接管立体剖视图。
[0020]图中：1、箱体；2、支撑板；3、双电机滑台；4、喷头；5、水箱；6、挡板；7、吸附网箱；8、水泵；9、安装板；10、电动旋转台；11、连接管；12、电扇；13、电热丝；14、转杆；15、电动夹爪；16、夹板；17、门板；18、电滑环。
具体实施方式
[0021]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。
[0022]参照图1
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4，一种具有水循环机构的半导体硅片清洗装置，包括底部外壁两端均焊接有支撑板2的箱体1、烘干机构和夹持机构，箱体1正面外壁开有安装口，且安装口内壁铰接有带透明观察窗的门板17，箱体1底部内壁焊接有下水管，且吸附网箱7内填充有活性炭，通过吸附网箱7内的活性炭可对清洗过的水进行吸附过滤，二次利用，实现水循环节约水资源的消耗，在对硅片进行清洗时，可利用电动旋转台10带动硅片转动，同时通过双电机滑台3带动喷头4进行来回移动，使得硅片的正反面都得到有效的冲洗，有效的提高了清洗效果；
[0023]夹持机构包括转杆14，且转杆14一侧外壁焊接有电动夹爪15,电动夹爪15通过导线与电滑环18相连接，且电滑环18、双电机滑台3、水泵8、电动旋转台10、电扇12和电热丝13均通过导线连接有开关，开关通过电源线连接有外部电源，电动夹爪15两个夹持件上均固定有夹板16，转杆14外壁安装有电滑环18，烘干机构包括连接管11，且连接管11内壁通过固定杆安装有电扇12，在对硅片清洗完之后，可利用电扇12吹风经过电热丝13加热后，对硅片进行烘干，避免人工擦拭对硅片表面造成二次污染，同时还可通过门板17上的透明观察窗在硅片清洗和烘干的过程中进行观察；
[0024]连接管11内壁固定有等距离分布的电热丝13，箱体1顶部内壁安装有双电机滑台3，且双电机滑台3其中一个滑动件底部固定有喷头4，双电机滑台3另一个滑动件底部固定有烘干机构，且箱体1下方设有水箱5，水箱5一侧内壁焊接有挡板6，且挡板6上放置有吸附网箱7，箱体1一侧外壁安装有水泵8，水泵8进水端通过进水管与水箱5内部相连通，且水泵8出水端通过出水管与喷头4相连通，水箱5内盛放有清洗水，且清洗水的液面低于挡板6底部外壁二至三厘米，且箱体1一侧外壁通过轴承插接有夹持机构，箱体1一侧外壁焊接有安装板9，且安装板9顶部外壁安装有电动旋转台10，电动旋转台10转动件与夹持机构相连接。
[0025]工作原理：打开门板17，将硅片放入箱体1内，利用电动夹爪15将其夹持固定住，关闭门板17，通过水泵8将水箱5内的水抽至喷头4处喷出，通过电动旋转台10带动转杆14转动，进而带动硅片转动，同时通过双电机滑台3带动喷头4进行来回移动，使得硅片的正反面都得到有效的冲洗，冲洗过的水通过下水管流入到水箱5内，经过吸附网箱7内的活性炭吸附净化后再流入到水箱5内底部，对硅片冲洗完之后，可通过双电机滑台3将连接管11移至合适位置，利用电扇12吹风经过电热丝13加热后，对硅片进行烘干。
[0026]本技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种具有水循环机构的半导体硅片清洗装置，包括底部外壁两端均焊接有支撑板(2)的箱体(1)、烘干机构和夹持机构，其特征在于，所述箱体(1)顶部内壁安装有双电机滑台(3)，且双电机滑台(3)其中一个滑动件底部固定有喷头(4)，所述双电机滑台(3)另一个滑动件底部固定有烘干机构，且箱体(1)下方设有水箱(5)，所述水箱(5)一侧内壁焊接有挡板(6)，且挡板(6)上放置有吸附网箱(7)，所述箱体(1)一侧外壁安装有水泵(8)，且箱体(1)一侧外壁通过轴承插接有夹持机构，所述箱体(1)一侧外壁焊接有安装板(9)，且安装板(9)顶部外壁安装有电动旋转台(10)，所述电动旋转台(10)转动件与夹持机构相连接。2.根据权利要求1所述的一种具有水循环机构的半导体硅片清洗装置，其特征在于，所述烘干机构包括连接管(11)，且连接管(11)内壁通过固定杆安装有电扇(12)，连接管(11)内壁固定有等距离分布的电热丝(13)。3.根据权利要求1所述的一种具有水循环机构的半导体硅片清洗装置，其特征在于，所述夹持机构包括转杆(14)，且转杆(14)一侧外壁焊接有...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵细海，韩忠良，李方良，
申请(专利权)人：康耐威自动化科技昆山有限公司，
类型：新型
国别省市：