【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种使液体发生雾化的雾化装置及设有该装置的餐 具清洗机。
技术介绍
附图说明图13为日本专利公开公报特开2005 — 287993中所示的、装有雾化 装置56的现有餐具清洗机5001的截面图。为了清除掉沾附在餐具上的 污垢,餐具清洗机5001预先向餐具上喷射呈雾状的清洗剂溶液,使污垢 变得湿润、膨胀,然后利用喷水时产生的机械力及清洗剂的化学作用将 餐具清洗干净。下面对餐具清洗机5001的构成进行描述。餐具清洗机5001的机体 51中设有用于存放餐具的餐具筐60、用于供餐具筐60装入的清洗槽 53、和设在清洗槽53的开口部分52中的机门54。喷嘴55将存贮在清洗 槽53中的清洗水朝餐具喷出。雾化装置56中设有超声波振荡器57,使 存贮在清洗槽53内的清洗水进行雾化。这里,如果超声波振荡器57直 接设置在清洗槽53的底面上的话,水锈及异物会在超声波振荡器57的 表面上发生堆积,来自外部的撞击也会使振荡器57受损。为了防止发生 这样的情况,超声波振荡器57先用保护容器58罩住,再隔着保护液59 使清洗水发生雾化。餐具清洗机5001的操作情况如下。首先,将脏餐具装入到 ...
【技术保护点】
一种雾化装置,其特征在于包括: 设置成用于贮存液体的水箱, 设有暴露在所述水箱内、与所述液体发生接触而且与垂直方向基本上平行的振动面的振荡器, 设置在所述水箱内、位于所述液体中而且将所述振荡器的所述振动面产生的振动能量朝着所述液体的液面向上方反射的反射单元。
【技术特征摘要】
JP 2006-7-14 2006-193818;JP 2007-5-15 2007-1289491.一种雾化装置,其特征在于包括设置成用于贮存液体的水箱,设有暴露在所述水箱内、与所述液体发生接触而且与垂直方向基本上平行的振动面的振荡器,设置在所述水箱内、位于所述液体中而且将所述振荡器的所述振动面产生的振动能量朝着所述液体的液面向上方反射的反射单元。2. 如权利要求1中所述的雾化装置,其特征在于由所述反射单元 加以反射的所述振动能量使所述液体的所述液面隆起,并使所述液体雾 化。3. 如权利要求1中所述的雾化装置,其特征在于所述反射单元山 金属或者玻璃制成。4. 如权利要求1中所述的雾化装置,其特征在于所述反射单元和 所述水箱构成一体。5. 如权利要求4中所述的雾化装置,其特征在于所述反射单元由 金属或者玻璃制成。6. 如权利要求1中所述的雾化装置,其特征在于所述反射单元具 有使所述的经反射后的振动能量发生收敛的凹面形状部。7. 如权利要求6中所述的雾化装置,其特征在于所述凹面形状部 凹陷成球面状。8. 如权利要求1中所述的雾化装置,其特征在于还设有用于检测所 述液体的水位的水位检测单元。9. 如权利要求8所述的雾化装置,其特征在于还设有控制装置,控制装置在所述水位检测单元检测到所述液体的所述液面比规定的下限水位高时,使所述振荡器振动;而当所述水位检测单元检测到所述液体的所 述液面比所述规定的下限水位低时,使所述振荡器不发生振动。10. 如权利要...
【专利技术属性】
技术研发人员:乾浩章,
申请(专利权)人:松下电器产业株式会社,
类型:实用新型
国别省市:JP[日本]
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