【技术实现步骤摘要】
一种用于AG玻璃透点研磨的研磨装置
[0001]本专利技术涉及AG玻璃加工
，具体地说是一种用于AG玻璃透点研磨的研磨装置。
技术介绍
[0002]随着国民经济的持续稳定增长和社会发展进程的日益加快，商用中大显示屏市场需求日益增加，被广泛应用于教育、多媒体、广告、会议等行业。AG玻璃，又叫抗反射玻璃和防眩光玻璃，英文名为Anti
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glare glass，是对玻璃表面进行特殊加工的一种玻璃。其特点是使原玻璃反光表面变为哑光无反射表面(表面凹凸不平)。其原理是把优质玻璃片的双面或单面经过特殊加工处理。使其与普通玻璃相比较具有较低的反射比，光的反射率由8％降低到1％以下，用技术创造出清晰透明的视觉效果，让观赏者能体验到更佳的感官视觉。
[0003]对Anti
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Glare(AG)玻璃而言，除可以降低环境光的干扰、提高显示画面的可视角度和亮度、减少屏幕反光外，还能让图像更清晰、色彩更艳丽、颜色更饱和，达到改善显示效果，以及通过调整表面粗糙度来增加书写感。因此，这种工艺就被业界广泛运用于盖板领域，目前市场上现有的防眩盖板技术主要通过采用化学蚀刻AG、喷涂AG等方式实现。
[0004]目前，显示屏多配备有摄像头，因此需要对AG玻璃的磨砂面磨出一个圆点，以使得摄像头能够透过AG玻璃，现有技术多采用人工作业，加工效率低，生产成本高，且废品率高。
[0005]因此，提供一种用于AG玻璃透点研磨的研磨装置，以解决现有技术中所存在的问题，对其应用推广具有重要意义。>
技术实现思路
[0006]有鉴于此，本申请的目的在于提供一种用于AG玻璃透点研磨的研磨装置，以提高AG玻璃透点的研磨效率，提高研磨精度，提高成品率，降低生产成本。
[0007]为了达到上述目的，本申请提供如下技术方案。
[0008]一种用于AG玻璃透点研磨的研磨装置，包括研磨机构、位移机构、定位机构，所述研磨机构和定位机构均设置在位移机构上，位移机构带动研磨机构和定位机构实现位移移动，定位机构设置在研磨机构的一侧；
[0009]所述研磨机构包括研磨头、研磨电机、旋转座，研磨头固定在旋转座下方，研磨电机带动旋转座旋转。
[0010]优选地，所述研磨机构还包括研磨筒，研磨筒用于承装研磨液，研磨筒下方设置有通孔，研磨头穿过通孔与待研磨AG玻璃接触。
[0011]优选地，所述研磨筒外侧设置有连接板，连接板上设置有连杆，连杆上方通过连接架固定在位移机构上；
[0012]连接板下方设置有真空吸嘴，真空吸嘴用于吸附固定待研磨AG玻璃。
[0013]优选地，所述研磨机构还包括旋转组件，研磨头为倾斜设置，旋转组件能够带动研磨头和研磨电机同步旋转，实现研磨头研磨方位的旋转。
[0014]优选地，所述旋转组件包括旋转电机、外旋转架、内旋转架，旋转电机通过第一固定架固定在移动机构上，外旋转架与内旋转架固定连接，研磨头和研磨电机设置在内旋转架上，旋转电机带动外旋转架和内旋转架同步旋转，进而带动研磨头和研磨电机同步旋转。
[0015]优选地，所述位移机构包括X轴位移机构、Y轴位移机构、Z轴位移机构，X轴位移机构设置在Y轴位移机构上，Z轴位移机构设置在X轴位移机构上，X轴位移机构带动Z轴位移机构实现X轴移动，Y轴位移机构带动X轴位移机构和Z轴位移机构同步实现Y轴移动。
[0016]优选地，所述Z轴位移机构包括第一Z轴位移机构和第二Z轴位移机构，所述研磨机构设置在第一Z轴位移机构上，所述定位机构设置在第二Z轴位移机构。
[0017]优选地，所述定位机构包括CCD相机、安装架、挡板，CCD相机实现AG玻璃和研磨点的监测定位作用；CCD相机通过安装架固定在第二Z轴位移机构上，挡板设置在安装架靠近研磨机构的一侧。
[0018]优选地，该研磨装置还包括支撑机构，所述支撑机构包括支撑板、顶伸气缸、第二固定架，支撑板设置在顶伸气缸上方，顶伸气缸带动支撑板上下移动，顶伸气缸固定在固定架上。
[0019]优选地，所述第二固定架两端均设置有套筒，支撑板下方设置有与套筒相对应的支杆，以实现第二固定架对支撑板的支撑及支撑板上下移动的导向作用。
[0020]本专利技术所获得的有益技术效果：
[0021]1)本专利技术通过研磨机构、位移机构、定位机构，能够大大提高AG玻璃透点的研磨效率和研磨效果，同时，提高了研磨精度，提高了成品率，进而降低了生产加工成本；
[0022]2)本专利技术中研磨机构包括研磨头、研磨电机、旋转座、研磨筒，研磨筒内承装有研磨液，大大提高了研磨效果；研磨筒外侧设置有连接板，连接板下方设置有真空吸嘴，真空吸嘴用于吸附固定待研磨AG玻璃，研磨过程中有效避免了AG玻璃错位出现的研磨偏差，进而提高了研磨精度；
[0023]3)本专利技术中研磨头为倾斜设置，同时设置有旋转组件，旋转组件能够带动研磨头和研磨电机同步旋转，实现了研磨头研磨方位的旋转，能够实现多角度研磨作业，有效避免了研磨盲点，大大提高了研磨质量和成品率；
[0024]4)本专利技术中位移机构能够带动研磨机构实现XYZ三轴方向的位移，通过CCD相机实现AG玻璃和研磨点的监测定位，通过机械化控制研磨头位移移动，大大缩短位置调整时间，提高了定位精度，从而提高了研磨效率和研磨精度。
[0025]上述说明仅是本申请技术方案的概述，为了能够更清楚了解本申请的技术手段，从而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本申请的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下以本申请的较佳实施例并配合附图详细说明如后。
[0026]根据下文结合附图对本申请具体实施例的详细描述，本领域技术人员将会更加明了本申请的上述及其他目的、优点和特征。
附图说明
[0027]为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据
这些附图获得其他的附图。在所有附图中，类似的元件或部分一般由类似的附图标记标识。附图中，各元件或部分并不一定按照实际的比例绘制。
[0028]图1是本公开一种实施例中用于AG玻璃透点研磨的研磨装置的结构示意图；
[0029]图2是本公开一种实施例中研磨机构和第一Z轴位移机构的结构示意图；
[0030]图3是附图2中A
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A截面的剖视图；
[0031]图4是本公开一种实施例中定位机构和第二Z轴位移机构的结构示意图；
[0032]图5是本公开一种实施例中支撑机构的结构示意图。
[0033]在以上附图中：110、研磨头；120、研磨电机；121、旋转轴；130、旋转座；140、研磨筒；141、连接板；142、连杆；143、连接架；144、真空吸嘴；150、旋转电机；151、第一固定架；160、外旋转架；170、内旋转架；171、卡槽；1本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于AG玻璃透点研磨的研磨装置，其特征在于，包括研磨机构、位移机构、定位机构，所述研磨机构和定位机构均设置在位移机构上，位移机构带动研磨机构和定位机构实现位移移动，定位机构设置在研磨机构的一侧；所述研磨机构包括研磨头(110)、研磨电机(120)、旋转座(130)，研磨头(110)固定在旋转座(130)下方，研磨电机(120)带动旋转座(130)旋转。2.根据权利要求1所述的用于AG玻璃透点研磨的研磨装置，其特征在于，所述研磨机构还包括研磨筒(140)，研磨筒(140)用于承装研磨液，研磨筒(140)下方设置有通孔，研磨头(110)穿过通孔与待研磨AG玻璃接触。3.根据权利要求2所述的用于AG玻璃透点研磨的研磨装置，其特征在于，所述研磨筒(140)外侧设置有连接板(141)，连接板(141)上设置有连杆(142)，连杆(142)上方通过连接架(143)固定在位移机构上；连接板(141)下方设置有真空吸嘴(144)，真空吸嘴(144)用于吸附固定待研磨AG玻璃。4.根据权利要求1所述的用于AG玻璃透点研磨的研磨装置，其特征在于，所述研磨机构还包括旋转组件，研磨头(110)为倾斜设置，旋转组件能够带动研磨头(110)和研磨电机(120)同步旋转，实现研磨头(110)研磨方位的旋转。5.根据权利要求4所述的用于AG玻璃透点研磨的研磨装置，其特征在于，所述旋转组件包括旋转电机(150)、外旋转架(160)、内旋转架(170)，旋转电机(150)通过第一固定架(151)固定在移动机构上，外旋转架(160)与内旋转架(170)固定连接，研磨头(110)和研磨电机(120)设置在内旋转架(170)上，旋转电机(150)带动外旋转架(160)和内旋转架(170)同步旋转，进而带动研磨头(110)和研磨电机(...
【专利技术属性】
技术研发人员：韩伟军，
申请(专利权)人：翔实光电科技昆山有限公司，
类型：发明
国别省市：
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