一种新型版辊雕刻工艺制造技术

本发明专利技术涉及版辊生产技术领域，尤其涉及一种新型版辊雕刻工艺，包括以下步骤：获取待雕刻的版辊主体；通过激光雕刻的方式，根据预设的网点拼版图，在版辊主体的外壁雕刻阴网点；预先设置雕刻斜线角度、脉冲长度、FOC矢量控制参数，在版辊主体的外壁雕刻出阴网点的正向雕刻部分；设置LAC参数与DC参数，将阴网点的负向雕刻部分雕刻出来；通过对雕刻机的激光射出角度的调整，调整阴网点底部的光滑程度；对雕刻处理之后的版辊主体的版面使用金刚石抛光带进行抛光处理；对抛光处理之后的版辊主体使用清洗机清洗干净。网点均匀排布且光滑度好，使得版辊不易堵版，载墨量稳定，雕刻速度快且雕刻范围广，载墨量调节范围广。载墨量调节范围广。载墨量调节范围广。

【技术实现步骤摘要】
一种新型版辊雕刻工艺


[0001]本专利技术涉及版辊生产
，尤其涉及一种新型版辊雕刻工艺。

技术介绍

[0002]在印刷领域内，现有的版辊阴网点主要使用编辑模式进行雕刻，主要加工范围为100LPI
‑‑
300LPI，LPI为分辨率，以每英寸上等距离排列多少条网线，在传统的商业印刷制版过程中，制版时需要在原始图像前加一个网屏，这一网屏由呈方格状的透明与不透明相等的网线构成，这些网线也就是光栅，其作用是切割光线解剖图像，由于光线具有衍射的物理特性，因此光线通过网线后，形成了反映原始图像影像变化的大小不同的点，这些点就是半色调点，一个半色调点最大不会超过一个网格的面积，网线越多，表现图像的层次越多，图像质量也就越好。但是当网线目数低时，由于需要能量高，网点无法成型，当网线目数高时，就会造成网墙粗，占比高导致网点易堵版，流平效果差。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的在于针对现有技术的不足，提供一种新型版辊雕刻工艺，网点均匀排布且光滑度好，使得版辊不易堵版，载墨量稳定，雕刻速度快且雕刻范围广，载墨量调节范围广。
[0004]为实现上述目的，本专利技术的一种新型版辊雕刻工艺，包括以下步骤：获取待雕刻的版辊主体；通过激光雕刻的方式，根据预设的网点拼版图，在版辊主体的外壁雕刻阴网点；预先设置雕刻斜线角度、脉冲长度、FOC矢量控制参数，在版辊主体的外壁雕刻出阴网点的正向雕刻部分；设置LAC参数与DC参数，将阴网点的负向雕刻部分雕刻出来；通过对雕刻机的激光射出角度的调整，调整阴网点底部的光滑程度；对雕刻处理之后的版辊主体的版面使用金刚石抛光带进行抛光处理；对抛光处理之后的版辊主体使用清洗机清洗干净。
[0005]优选的，所述雕刻斜线角度为45
°
～135
°
，所述脉冲长度为20ms～50ms，所述FOC矢量控制参数为9.2～10.5。
[0006]优选的，所述LAC参数为3，所述DC参数10～13。
[0007]优选的，所述激光射出角度为16.1
°
～21.9
°
。
[0008]优选的，所述阴网点是由若干个网墙均匀排列组成，且相邻网墙之间构成用于负载油墨的网孔。
[0009]优选的，所述网墙采用矩阵方式排列，所述网孔呈正方形结构。
[0010]优选的，所述网墙为圆柱形结构或者圆台型结构。
[0011]优选的，所述网孔的深度范围为2.1至2.8丝。
[0012]本专利技术的有益效果：与现有技术相比，本专利技术具有以下优点：
[0013]1.版辊不易堵版，网点内壁光滑；
[0014]2.相对于原阴网点100
‑
300LPI加工范围，雕刻范围更广，可雕刻70
‑
1000LPI的阴网点；
[0015]3.载墨量调节范围广，相对现有工艺调节范围加大20％；
[0016]4.雕刻速度提高20％。
附图说明
[0017]图1为本专利技术的工艺流程框图。
[0018]图2为本专利技术在高清显微镜下的网点示意图。
[0019]图3为现有技术在高清显微镜下的网点示意图。
具体实施方式
[0020]以下结合附图对本专利技术进行详细的描述。
[0021]本专利技术的一种新型版辊雕刻工艺，包括以下步骤：获取待雕刻的版辊主体；通过激光雕刻的方式，根据预设的网点拼版图，在版辊主体的外壁雕刻阴网点；预先设置雕刻斜线角度、脉冲长度、FOC矢量控制参数，在版辊主体的外壁雕刻出阴网点的正向雕刻部分；设置LAC参数与DC参数，将阴网点的负向雕刻部分雕刻出来；通过对雕刻机的激光射出角度的调整，调整阴网点底部的光滑程度；对雕刻处理之后的版辊主体的版面使用金刚石抛光带进行抛光处理；对抛光处理之后的版辊主体使用清洗机清洗干净。
[0022]可雕刻范围为70LPI
‑
1000LPI的阴网点，以500LPI阴网点为例来说明，
[0023]进一步地，所述雕刻斜线角度为45
°
～135
°
，所述脉冲长度为20ms～50ms，所述FOC矢量控制参数为9.2～10.5。具体地，当雕刻斜线角度设置为90
°
，脉冲长度为30ms，FOC矢量控制参数为9.5，雕刻斜线与版辊主体的中心轴相互垂直，以便于雕刻出圆柱形结构的网墙，然而可以根据需要来改变角度，适用范围广，当雕刻斜线角度设置为120
°
，脉冲长度为30ms，FOC矢量控制参数为9.5，以便于雕刻出圆台型结构的网墙。
[0024]进一步地，所述LAC参数为3，所述DC参数10～13，具体地，作为优选，LAC参数调整为3，DC参数调整为12，在这种情况下，FOC矢量控制参数与LAC参数的相互配合可得到一个雕刻效果最佳的光斑，陶瓷气化充分，因此雕刻出网底最光滑的网点，极大提高雕刻速度。
[0025]进一步地，所述激光射出角度为16.1
°
～21.9
°
。具体地，作为优选，激光射出角度为20.5
°
，射出角度较佳。
[0026]本专利技术网点均匀排布且光滑度好，使得版辊不易堵版，载墨量稳定，雕刻速度快且雕刻范围广，载墨量调节范围广。
[0027]本实施例的阴网点是由若干个网墙均匀排列组成，且相邻网墙之间构成用于负载油墨的网孔。具体地，本雕刻工艺选用阴网点，多个网墙均匀排列组成，多个相邻网墙之间构成多个网孔，多个网孔负载油墨面积大，提升印刷载墨量，载墨量大。
[0028]本实施例的网墙采用矩阵方式排列，所述网孔呈正方形结构。具体地，多个网墙有规律整齐排布，突破以往的不规则杂乱排布，结构紧凑稳定，增加载墨量，进一步提高印刷工作效率。
[0029]本实施例的网墙为圆柱形结构或者圆台型结构。具体地，结构规则且构造稳定性好，使用寿命长。
[0030]本实施例的网孔的深度范围为2.1至2.8丝。具体地，网孔的深度较浅，优选为2.5丝，1毫米等于100丝，有助于清洗处理，保持网孔的洁净度。
[0031]以上内容仅为本专利技术的较佳实施例，对于本领域的普通技术人员，依据本专利技术的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，本说明书内容不应理解为对本专利技术的限制。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种新型版辊雕刻工艺，其特征在于，包括以下步骤：获取待雕刻的版辊主体；通过激光雕刻的方式，根据预设的网点拼版图，在版辊主体的外壁雕刻阴网点；预先设置雕刻斜线角度、脉冲长度、FOC矢量控制参数，在版辊主体的外壁雕刻出阴网点的正向雕刻部分；设置LAC参数与DC参数，将阴网点的负向雕刻部分雕刻出来；通过对雕刻机的激光射出角度的调整，调整阴网点底部的光滑程度；对雕刻处理之后的版辊主体的版面使用金刚石抛光带进行抛光处理；对抛光处理之后的版辊主体使用清洗机清洗干净。2.根据权利要求1所述的一种新型版辊雕刻工艺，其特征在于：所述雕刻斜线角度为45
°
～135
°
，所述脉冲长度为20ms～50ms，所述FOC矢量控制参数为9.2～10.5。3.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：史天勇，崔石磊，
申请(专利权)人：广东上运激光科技有限公司，
类型：发明
国别省市：